公开(公告)号：CN101970341A

公开(公告)日：2011-02-09

申请号：CN200980105337.6

申请日：2009-02-16

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 江龙修 ,  木下隆利 ,  河田研治 ,  堀田和利

IPC: B82B3/00 ,  B82B1/00

CPC classification number: B81C1/00031 ,  Y10T428/24355

Abstract: 本发明提供一种在表面具有相互平行的直线状的原子台阶的基板上制作出由沿着上述原子台阶延伸的线状要素构成的微细构造的方法。本发明的方法包括准备表面具有原子台阶的基板的工序以及将线状要素赋予上述基板上的工序。使上述线状要素沿着上述原子台阶延伸地取向，从而在基板上形成由沿着原子台阶延伸的线状要素构成的微细构造。能够通过使碳化硅基板、蓝宝石基板或者氧化锌基板超平坦化来准备上述基板。作为上述线状要素，能够使用由形成了β片状构造的缩氨酸分子构成的缩氨酸纤维。

公开(公告)号：CN1900192A

公开(公告)日：2007-01-24

申请号：CN200610108551.5

申请日：2006-07-21

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 河田研治 ,  堀田和利

IPC: C09G1/02 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明的第1抛光用组合物含有砥粒和碘化合物，且具有6以上的pH.。利用第1抛光用组合物，可以很好地抛光碳化硅单结晶基板的(0001)Si面。本发明的第2抛光用组合物含有碘化合物，且具有8以下的pH。利用第2抛光用组合物，可以很好地抛光碳化硅单结晶基板的(000－1)C面。本发明的第3抛光用组合物含有砥粒和碘化合物，且具有6～8的pH.。利用第3抛光用组合物，可以很好地抛光碳化硅单结晶基板的(0001)Si面和(000－1)C面这两个面。

公开(公告)号：CN105027267A

公开(公告)日：2015-11-04

申请号：CN201480009493.3

申请日：2014-02-07

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 伊藤润 ,  堀田和利 ,  杉山博保 ,  森永均

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

CPC classification number: C09G1/02 ,  B24B37/00 ,  B24B37/044 ,  C09G1/00 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1454 ,  C09K3/1463 ,  C30B29/20 ,  C30B33/00 ,  H01L21/304 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/3212

Abstract: 提供一种研磨用组合物，其可以对具有无极性面或半极性面的蓝宝石基板以高研磨速度进行研磨。本发明为一种研磨用组合物，其用于对具有无极性面或半极性面的蓝宝石基板进行研磨的用途，其包含胶体二氧化硅颗粒和水，前述胶体二氧化硅颗粒的比表面积(单位：m2/g)除以前述胶体二氧化硅颗粒的个数平均粒径(单位：nm)而得到的值(比表面积/个数平均粒径)为0.5以上且3.0以下。