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公开(公告)号：CN110713588B
公开(公告)日：2022-08-09
申请号：CN201910618657.7
申请日：2019-07-10
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明公开一种硬掩模组合物、硬掩模层以及形成图案的方法，所述硬掩模组合物包括聚合物及溶剂，所述聚合物包括经取代的亚联苯基结构单元，其中所述经取代的亚联苯基结构单元包括具有羟基的C6到C30芳基以及具有羟基的C3到C30杂芳基中的至少一者。
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公开(公告)号：CN111352300B
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN201911326113.X
申请日：2019-12-20
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物、硬掩模层及形成图案的方法。硬掩模组合物包含由化学式1表示的化合物和溶剂：[化学式1]在化学式1中，A、B以及n的定义与详细描述中描述的相同。本发明的硬掩模组合物及硬掩模层具有改进的耐蚀刻性和耐化学性。
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公开(公告)号：CN106046695B
公开(公告)日：2019-06-11
申请号：CN201510919236.X
申请日：2015-12-11
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C08K5/18 , C08G2261/12 , C08G2261/124 , C08G2261/135 , C08G2261/1424 , C08G2261/3142 , C08G2261/3162 , C08G2261/3424 , C08G2261/344 , C08G2261/76 , C08K5/06 , C08K5/07 , C08K5/13 , C08L65/00 , G03F7/11 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/36
Abstract: 本发明涉及有机层组合物，所述有机层组合物包含具有经取代或未经取代的芴结构的聚合物、由下述化学式1表示的添加剂、以及溶剂；通过固化所述有机层组合物形成的有机层；以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述有机层组合物能够改善间隙填充特征和平坦化特征以及耐蚀刻性。化学式1中各符号的定义与实施方式中所定义相同。
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公开(公告)号：CN106046695A
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201510919236.X
申请日：2015-12-11
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C08K5/18 , C08G2261/12 , C08G2261/124 , C08G2261/135 , C08G2261/1424 , C08G2261/3142 , C08G2261/3162 , C08G2261/3424 , C08G2261/344 , C08G2261/76 , C08K5/06 , C08K5/07 , C08K5/13 , C08L65/00 , G03F7/11 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/36 , C08G61/12 , G03F7/0035
Abstract: 本发明涉及有机层组合物，所述有机层组合物包含具有经取代或未经取代的芴结构的聚合物、由下述化学式1表示的添加剂、以及溶剂；通过固化所述有机层组合物形成的有机层；以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述有机层组合物能够改善间隙填充特征和平坦化特征以及耐蚀刻性。化学式1中各符号的定义与实施方式中所定义相同。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118689035A
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202410317231.9
申请日：2024-03-20
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 公开一种硬掩模组合物、包含所述硬掩模组合物的固化产物的硬掩模层以及使用从所述硬掩模组合物制造出的硬掩模层来形成图案的方法。所述硬掩模组合物包含：聚合物，包括由化学式1表示的结构单元；以及溶剂，[化学式1]#imgabs0#
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公开(公告)号：CN111352300A
公开(公告)日：2020-06-30
申请号：CN201911326113.X
申请日：2019-12-20
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种硬掩模组合物、硬掩模层及形成图案的方法。硬掩模组合物包含由化学式1表示的化合物和溶剂：[化学式1] 在化学式1中，A、B以及n的定义与详细描述中描述的相同。本发明的硬掩模组合物及硬掩模层具有改进的耐蚀刻性和耐化学性。
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公开(公告)号：CN110713588A
公开(公告)日：2020-01-21
申请号：CN201910618657.7
申请日：2019-07-10
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明公开一种硬掩模组合物、硬掩模层以及形成图案的方法，所述硬掩模组合物包括聚合物及溶剂，所述聚合物包括经取代的亚联苯基结构单元，其中所述经取代的亚联苯基结构单元包括具有羟基的C6到C30芳基以及具有羟基的C3到C30杂芳基中的至少一者。
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公开(公告)号：CN106905511A
公开(公告)日：2017-06-30
申请号：CN201610899613.2
申请日：2016-10-14
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C08G61/122 , C08G8/08 , C08G8/20 , C08G14/04 , C08G16/0268 , C08G16/0275 , C08G2261/12 , C08G2261/148 , C08G2261/3424 , C08G2261/344 , G03F7/0752 , G03F7/091 , G03F7/094 , C08G2/18 , C08G8/24 , C08G12/26 , C08G2261/124 , C08G2261/1422 , C08G2261/3242 , C08G2261/334 , G03F7/0035
Abstract: 本发明提供一种聚合物、有机层组成物以及形成图案的方法，其包含由化学式1表示的结构单元的聚合物，和包含所述聚合物的有机层组成物，以及形成图案的方法。化学式1与具体实施方式中所定义的相同。本发明提供的聚合物具有改进的溶解度，同时确保抗蚀刻性；有机层组成物具有机械特征和涂膜特性。
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