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发明公开
硬掩模组合物、硬掩模层以及形成图案的方法审中-实审

公开(公告)号：CN118689035A

公开(公告)日：2024-09-24

申请号：CN202410317231.9

申请日：2024-03-20

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 郑铉日 , 金永珉 , 金艺眞 , 朴昭姸 , 梁善暎 , 裵信孝 , 李性恩 , 朴亨锡 , 宋綵璘

IPC: G03F7/004 , G03F1/00 , G03F7/11 , G03F7/20

Abstract: 公开一种硬掩模组合物、包含所述硬掩模组合物的固化产物的硬掩模层以及使用从所述硬掩模组合物制造出的硬掩模层来形成图案的方法。所述硬掩模组合物包含：聚合物，包括由化学式1表示的结构单元；以及溶剂，[化学式1]#imgabs0#

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