公开(公告)号：US5935739A

公开(公告)日：1999-08-10

申请号：US40100

申请日：1998-03-17

申请人： Thomas Bayer ,  Johann Greschner ,  Samuel Kalt ,  Klaus Meissner ,  Hans Pfeiffer

发明人： Thomas Bayer ,  Johann Greschner ,  Samuel Kalt ,  Klaus Meissner ,  Hans Pfeiffer

IPC分类号： G03F1/20 ,  G03F1/22 ,  H01L21/027 ,  H01L21/306 ,  G03F9/00

CPC分类号： G03F1/20 ,  G03F1/22 ,  H01L21/30604

摘要： The invention relates to a manufacturing method for a membrane mask suitable for particle beams with mask fields, which are bounded by thin support walls.The deep plasma etching for the formation of the support walls is halted shortly before reaching the membrane and the last .mu.m before the membrane removed by wet-chemical etching. A high etch selectivity can be achieved using an alkaline etching solution.The support walls 1 are turned by 45.degree. to the (110) direction or oriented parallel to the (100) plane, so that the structures restricted by (111) planes are avoided.

摘要翻译： 本发明涉及一种适用于具有掩膜场的粒子束的薄膜掩模的制造方法，其具有薄的支撑壁。 用于形成支撑壁的深等离子体蚀刻在到达膜之前不久就停止，并且在通过湿化学蚀刻除去膜之前最后一个微米。 使用碱性蚀刻溶液可以实现高蚀刻选择性。 支撑壁1向（110）方向转动45°或平行于（100）平面定向，从而避免了由（111）面限制的结构。

公开(公告)号：US6028008A

公开(公告)日：2000-02-22

申请号：US987213

申请日：1997-12-09

申请人： Thomas Bayer ,  Johann Greschner ,  Klaus Meissner

发明人： Thomas Bayer ,  Johann Greschner ,  Klaus Meissner

IPC分类号： G01B5/02 ,  G01B5/18 ,  H01L21/00

CPC分类号： G01Q40/02 ,  B82Y35/00 ,  G01B5/02 ,  G01B5/18

摘要： The invention relates to calibration standards which are used chiefly for the calibration of profilometers and in atomic force- and scanning probe microscopes. The calibration standard has one step of defined height H or a multi-step system formed of several steps of the same step-height H and consisting of exactly one material. The manufacturing procedure for the calibration standard requires only a single masking layer for each of the different versions in the form of a one-step standard or a multi-step system.

摘要翻译： 本发明涉及主要用于校准轮廓仪和原子力扫描探针显微镜的校准标准。 校准标准具有定义的高度H或由相同步长H的几个步骤形成的多个步骤系统的一个步骤，并且由恰好一个材料组成。 校准标准的制造程序只需要一个单步骤标准或多步骤系统形式的不同版本的每个单一屏蔽层。

公开(公告)号：US5817581A

公开(公告)日：1998-10-06

申请号：US702608

申请日：1996-08-26

申请人： Thomas Bayer ,  Johann Greschner ,  Klaus Meissner

发明人： Thomas Bayer ,  Johann Greschner ,  Klaus Meissner

IPC分类号： H01L21/316

CPC分类号： H01L21/02238 ,  H01L21/02255 ,  H01L21/31662

摘要： Disclosed is a reproducible process for making an SiO.sub.2 layer by thermal oxidation which assures an extremely uniform thickness of the SiO.sub.2 layer of approximately 1%. The process of the invention comprises the steps growing an initial layer of SiO.sub.2 to a defined minimal thickness by dry oxidation and increasing the thickness of the initial layer by simultaneous wet and dry oxidation until the desired final thickness is reached.

摘要翻译： PCT No.PCT / EP95 / 01518 Sec。 371日期：1996年8月26日 102（e）日期1996年8月26日PCT提交1995年4月21日PCT公布。 第WO96 / 33510号公报 日期1996年10月24日公开是通过热氧化制备SiO 2层的可再现方法，其确保SiO 2层的非常均匀的厚度约为1％。 本发明的方法包括通过干式氧化将SiO 2的初始层增长到限定的最小厚度的步骤，并通过同时湿式和干式氧化增加初始层的厚度，直到达到所需的最终厚度。

公开(公告)号：US06356089B2

公开(公告)日：2002-03-12

申请号：US08946964

申请日：1997-10-08

申请人： Thomas Bayer ,  Johann Greschner ,  Klaus Meissner ,  Werner Steiner ,  Roland Stoehr

发明人： Thomas Bayer ,  Johann Greschner ,  Klaus Meissner ,  Werner Steiner ,  Roland Stoehr

IPC分类号： G01R3102

CPC分类号： G01R31/2886 ,  G01R1/07314

摘要： The invention relates to a contact probe arrangement for electrically connecting a test system with contact pads of a device to be tested. The contact probes are located in guide grooves. The guide grooves as well as areas are provided in a plane parallel to the surface of a guide plate and are covered by a protective plate. The contact probes may bend out laterally into the respective areas. This assures a very dense contact probe array. Contact probe arrays of this type may be used, for example, for detecting opens and shorts in integrated circuits or semiconductor chips. The invention overcomes the problem of adjusting for height differences in the contact pads caused by an uneven surface of the device to be tested.

摘要翻译： 本发明涉及用于将测试系统与要测试的设备的接触垫电连接的接触探针装置。 接触探针位于导槽中。 引导槽以及区域设置在与引导板的表面平行的平面中并被保护板覆盖。 接触探针可以横向弯曲到相应的区域中。 这确保非常密集的接触探针阵列。 可以使用这种类型的接触式探针阵列，例如用于检测集成电路或半导体芯片中的开路和短路。 本发明克服了由待测试装置的不平坦表面引起的接触垫高度差的调节问题。

公开(公告)号：US5578745A

公开(公告)日：1996-11-26

申请号：US419295

申请日：1995-04-10

申请人： Thomas Bayer ,  Johann Greschner ,  Yves Martin ,  Klaus Meissner ,  Helga Weiss

发明人： Thomas Bayer ,  Johann Greschner ,  Yves Martin ,  Klaus Meissner ,  Helga Weiss

IPC分类号： G01N1/00 ,  G01B1/00 ,  G01B7/34 ,  G01N27/00 ,  G01N37/00 ,  G01Q40/02 ,  H01L21/20

CPC分类号： G01Q40/02 ,  B82Y35/00 ,  Y10S977/86

摘要： Adjacent shaped grooves are placed in single crystal structure with great accuracy and known dimensions by a combination of anisotropic and isotropic etching to produce a scanning probe microscope calibration standard with fine V-shaped grooves forming a prismatically shaped ridge or blade between them. A probe microscope to be calibrated is used to profile the tip of the ridge in a number of places along the length of the ridge. With knowledge of the sidewall angles and tip radius of the calibration standard both the flat tip dimensions of a probe with a flared tip and the tip radius of a probe with a conical tip can be calculated from the profile they produce.

摘要翻译： 相邻的形状的槽通过各向异性和各向同性蚀刻的组合以高精度和已知的尺寸放置在单晶结构中，以产生具有精细的V形槽的扫描探针显微镜校准标准，在它们之间形成棱镜状的脊或刀片。 要校准的探针显微镜用于沿着脊的长度在多个位置分布脊的尖端。 通过了解校准标准的侧壁角度和尖端半径，可以从其产生的轮廓计算具有喇叭形尖端的探头的平坦末端尺寸和具有锥形尖端的探针的尖端半径。

公开(公告)号：US6004700A

公开(公告)日：1999-12-21

申请号：US40099

申请日：1998-03-17

申请人： Johann Greschner ,  Samuel Kalt ,  Klaus Meissner ,  Rudolf Paul

发明人： Johann Greschner ,  Samuel Kalt ,  Klaus Meissner ,  Rudolf Paul

IPC分类号： G03F1/20 ,  H01L21/027 ,  G03F9/00

CPC分类号： G03F1/20

摘要： Membrane masks for electron-beam lithography are described which have a high mechanical stability and low membrane thickness, are free of stress and the submicron structures of which are easy to produce using reactive ion etching methods without rounding effects.In the case of a membrane mask for structuring surface areas with the aid of electron or corpuscular beams, a layer 1 of silicon nitride with going right through openings, which define the mask pattern, is deposited on one surface of a semiconductor wafer 2, which consists preferably of silicon. A tub-shaped recess 3 extends from the other surface of the semiconductor wafer 2 as far as the layer-carrying surface.A further mask for structuring surface areas with the aid of electron beams has at least one continuous layer 30 and a layer 31 defining the mask pattern.These two layers are deposited on the surface of a semiconductor wafer 32 with a tub-shaped recess 33.The anisotropic plasma etching method according to the invention makes it possible to transfer lithographically produced patterns to the membrane without the edge rounding which is otherwise usual.

摘要翻译： 描述了用于电子束光刻的膜掩模，其具有高机械稳定性和低膜厚度，没有应力，并且其亚微米结构易于使用没有圆整效应的反应离子蚀刻方法产生。 在用于借助于电子或微粒束结构化表面区域的膜掩模的情况下，在半导体晶片2的一个表面上沉积限定掩模图案的直通通孔的氮化硅层1， 优选由硅组成。 桶形凹部3从半导体晶片2的另一个表面延伸到层承载表面。 借助于电子束来构造表面区域的另一个掩模具有至少一个连续层30和限定掩模图案的层31。 这两层沉积在具有桶状凹部33的半导体晶片32的表面上。根据本发明的各向异性等离子体蚀刻方法使得可以将光刻产生的图案转印到膜上而不进行通常的边缘倒圆。

公开(公告)号：US5707537A

公开(公告)日：1998-01-13

申请号：US477058

申请日：1995-06-07

申请人： Johann Bartha ,  Johann Greschner ,  Klaus Meissner ,  Volkhard Wolf

发明人： Johann Bartha ,  Johann Greschner ,  Klaus Meissner ,  Volkhard Wolf

IPC分类号： H01L21/68 ,  H01L21/687 ,  H01L21/00 ,  H05K7/02

CPC分类号： H01L21/6835

摘要： The supporting plate and the bulk removal, transport and storage fixture for small batch-fabricated devices (1) have openings (2) penetrating from the top side (3) to the bottom side (4) of the plate and raised retaining means (5) on the bottom side (4). The raised retaining means (5) are provided in sufficient number and are arranged according to the shape of the devices (1) for retaining the devices. Flange means (7) which are designed for providing vacuum or agents to the devices (1) on the supporting plate are connected to the supporting plate thus forming a fixture. By changing the arrangement of the raised retaining means (5) and/or the openings (2) the supporting plate and the fixture may easily be adapted to different sizes and kinds of devices.

摘要翻译： 用于小批量装置（1）的支撑板和散装移除，运输和储存装置具有从板的顶侧（3）穿过底部侧（4）的开口（2），并且将保持装置（5 ）在底面（4）上。 提升保持装置（5）设置足够数量，并根据用于保持装置的装置（1）的形状布置。 设计用于向支撑板上的装置（1）提供真空或试剂的法兰装置（7）连接到支撑板，从而形成夹具。 通过改变凸起保持装置（5）和/或开口（2）的布置，支撑板和夹具可以容易地适应于不同尺寸和种类的装置。

公开(公告)号：US07681064B2

公开(公告)日：2010-03-16

申请号：US11968733

申请日：2008-01-03

申请人： Eberhard Engler ,  Mark S. Farrell ,  Klaus Meissner ,  Ronald M. Smith, Sr.

发明人： Eberhard Engler ,  Mark S. Farrell ,  Klaus Meissner ,  Ronald M. Smith, Sr.

IPC分类号： G06F1/04 ,  G04C11/00

CPC分类号： G06F1/14

摘要： A system, method and computer program product for steering a time-of-day (TOD) clock for a computer system having a physical clock providing a time base for executing operations that is stepped to a common oscillator. The method includes computing a TOD-clock offset value (d) to be added to a physical-clock value (Tr) value to obtain a logical TOD-clock value (Tb), where the logical TOD-clock value is adjustable without adjusting a stepping rate of the oscillator.

摘要翻译： 一种用于转向具有物理时钟的计算机系统的时钟（TOD）时钟的系统，方法和计算机程序产品，该物理时钟提供用于执行步进到公共振荡器的操作的时基。 该方法包括计算要添加到物理时钟值（Tr）值的TOD时钟偏移值（d）以获得逻辑TOD时钟值（Tb），其中逻辑TOD时钟值可调整而不调整 振荡器的步进率。

公开(公告)号：US20080059808A1

公开(公告)日：2008-03-06

申请号：US11468501

申请日：2006-08-30

申请人： Eberhard Engler ,  Klaus Meissner ,  Ronald M. Smith

发明人： Eberhard Engler ,  Klaus Meissner ,  Ronald M. Smith

IPC分类号： G06F12/14

CPC分类号： G06F9/526 ,  G06F9/524 ,  G06F2209/521

摘要： The management of data access is facilitated. A loop only if changed locking facility is provided, in which reads and updates of the data being managed are permitted, unless an update to the data completes during the execution of the read or update routine. As long as an update to the data has not completed during a processor's execution of the read or update routine, access is permitted.

摘要翻译： 数据访问管理方便。 只有在提供了改变的锁定设备时，才允许循环，除非在执行读取或更新程序期间对数据的更新完成。 只要数据的更新在处理器执行读取或更新程序期间尚未完成，则允许访问。

公开(公告)号：US6067874A

公开(公告)日：2000-05-30

申请号：US89072

申请日：1998-06-02

申请人： Klaus Meissner ,  Frank Bekemeier ,  Dieter Meyer

发明人： Klaus Meissner ,  Frank Bekemeier ,  Dieter Meyer

IPC分类号： E05B53/00 ,  F16C1/26 ,  F16C1/10 ,  B25G3/18 ,  G05G5/06

CPC分类号： E05B79/20 ,  F16C1/26 ,  Y10T403/60 ,  Y10T74/20287 ,  Y10T74/20438 ,  Y10T74/20642

摘要： An actuating arrangement for a Bowden cable, in particular in a vehicle, includes a bracket which can be fastened to a wall and a lever arrangement which is pivotally fastened to the bracket and includes a lever member and a cable coupling for one end of the Bowden cable. To provide improved installation conditions and a concealed arrangement of the Bowden cable, the lever member and the cable connector are separate parts which can be connected to each other in a rotationally fixed relation after the assembly consisting of the bracket and cable coupling has been fastened to the wall.

摘要翻译： 用于Bowden电缆的致动装置，特别是在车辆中，包括可固定在壁上的支架和可枢转地固定在支架上的杠杆装置，该支架装置包括杠杆构件和用于Bowden一端的电缆联轴器 电缆。 为了提供改进的安装条件和Bowden缆线的隐蔽布置，杠杆构件和电缆连接器是分离的部件，其可以在由支架和电缆联接器组装在一起的旋转固定关系中彼此连接， 墙。