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    Silver barrier materials for low-emissivity applications
    2.
    发明授权
    Silver barrier materials for low-emissivity applications 有权
    用于低发射率应用的银屏障材料

    公开(公告)号：US09448345B2

    公开(公告)日：2016-09-20

    申请号：US13725126

    申请日：2012-12-21

    申请人： Intermolecular Inc. ,  Guardian Industries Corp.

    发明人： Mohd Fadzli Anwar Hassan ,  Brent Boyce ,  Guowen Ding ,  Minh Huu Le ,  Zhi-Wen Wen Sun ,  Yu Wang ,  Yongli Xu

    IPC分类号： G02B5/28 ,  F21V9/00 ,  G02B5/20 ,  C03C17/36

    CPC分类号： G02B5/208 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3644 ,  C03C17/3649 ,  C03C17/3652 ,  C03C17/366 ,  C03C17/40 ,  G02B5/282

    摘要： A method for making low emissivity panels, including control the composition of a barrier layer formed on a thin conductive silver layer. The barrier structure can include an alloy of a first element having high oxygen affinity with a second element having low oxygen affinity. The first element can include Ta, Nb, Zr, Hf, Mn, Y, Si, and Ti, and the second element can include Ru, Ni, Co, Mo, and W, which can have low oxygen affinity property. The alloy barrier layer can reduce optical absorption in the visible range, can provide color-neutral product, and can improve adhesion to the silver layer.

    摘要翻译： 一种制造低发射率面板的方法，包括控制形成在薄导电银层上的阻挡层的组成。 阻挡结构可以包括具有高氧亲和力的第一元素与具有低氧亲合力的第二元素的合金。 第一元素可以包括Ta，Nb，Zr，Hf，Mn，Y，Si和Ti，第二元素可以包括可以具有低氧亲和性的Ru，Ni，Co，Mo和W。 合金阻挡层可以减少可见光范围内的光吸收，可以提供颜色中性的产品，并可以提高对银层的粘附性。

    Heat Stable SnAl and SnMg Based Dielectrics
    3.
    发明申请
    Heat Stable SnAl and SnMg Based Dielectrics 有权
    热稳定SnAl和SnMg基电介质

    公开(公告)号：US20140287254A1

    公开(公告)日：2014-09-25

    申请号：US14299341

    申请日：2014-06-09

    申请人： Intermolecular Inc. ,  Guardian Industries Corp. (Auburn Hills, MI, US)

    发明人： Mohd Fadzli Anwar Hassan ,  Richard Blacker ,  Guowen Ding ,  Muhammad Imran ,  Jingyu Lao ,  Minh Huu Le ,  Yiwei Lu ,  Zhi-Wen Wen Sun

    IPC分类号： C03C17/36 ,  C23C28/00 ,  H01B3/10

    CPC分类号： C03C17/366 ,  C03C17/2453 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3618 ,  C03C17/3642 ,  C23C14/08 ,  C23C28/32 ,  C23C28/345 ,  H01B3/10

    摘要： A transparent dielectric composition comprising tin, oxygen and one of aluminum or magnesium with preferably higher than 15% by weight of aluminum or magnesium offers improved thermal stability over tin oxide with respect to appearance and optical properties under high temperature processes. For example, upon a heat treatment at temperatures higher than 500 C, changes in color and index of refraction of the present transparent dielectric composition are noticeably less than those of tin oxide films of comparable thickness. The transparent dielectric composition can be used in high transmittance, low emissivity coated panels, providing thermal stability so that there are no significant changes in the coating optical and structural properties, such as visible transmission, IR reflectance, microscopic morphological properties, color appearance, and haze characteristics, of the as-coated and heated treated products.

    摘要翻译： 包含锡，氧和铝或镁中的一种优选高于15重量％的铝或镁的透明电介质组合物相对于在高温过程下的外观和光学性质提供了比氧化锡更好的热稳定性。 例如，当在高于500℃的温度下进行热处理时，本发明透明电介质组合物的颜色变化和折射率显着小于具有相当厚度的氧化锡膜的变化。 透明电介质组合物可用于高透光率，低发射率涂层面板，提供热稳定性，使得涂层的光学和结构性能如可见透射率，IR反射率，微观形态特性，颜色外观和 涂层和加热处理产品的雾度特性。

    Heat stable SnAl and SnMg based dielectrics
    4.
    发明授权
    Heat stable SnAl and SnMg based dielectrics 有权
    耐热SnAl和SnMg基电介质

    公开(公告)号：US09296651B2

    公开(公告)日：2016-03-29

    申请号：US14299341

    申请日：2014-06-09

    申请人： Intermolecular Inc. ,  Guardian Industries Corp. (Auburn Hills, MI, US)

    发明人： Mohd Fadzli Anwar Hassan ,  Richard Blacker ,  Guowen Ding ,  Muhammad Imran ,  Jingyu Lao ,  Minh Huu Le ,  Yiwei Lu ,  Zhi-Wen Wen Sun

    IPC分类号： B32B17/06 ,  B32B15/04 ,  C03C17/36 ,  H01B3/10 ,  C03C17/245 ,  C23C28/00 ,  C23C14/08

    CPC分类号： C03C17/366 ,  C03C17/2453 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3618 ,  C03C17/3642 ,  C23C14/08 ,  C23C28/32 ,  C23C28/345 ,  H01B3/10

    摘要： A transparent dielectric composition comprising tin, oxygen and one of aluminum or magnesium with preferably higher than 15% by weight of aluminum or magnesium offers improved thermal stability over tin oxide with respect to appearance and optical properties under high temperature processes. For example, upon a heat treatment at temperatures higher than 500 C, changes in color and index of refraction of the present transparent dielectric composition are noticeably less than those of tin oxide films of comparable thickness. The transparent dielectric composition can be used in high transmittance, low emissivity coated panels, providing thermal stability so that there are no significant changes in the coating optical and structural properties, such as visible transmission, IR reflectance, microscopic morphological properties, color appearance, and haze characteristics, of the as-coated and heated treated products.

    摘要翻译： 包含锡，氧和铝或镁中的一种优选高于15重量％的铝或镁的透明电介质组合物相对于在高温过程下的外观和光学性质提供了比氧化锡更好的热稳定性。 例如，当在高于500℃的温度下进行热处理时，本发明透明电介质组合物的颜色变化和折射率显着小于具有相当厚度的氧化锡膜的变化。 透明电介质组合物可用于高透光率，低发射率涂层面板，提供热稳定性，使得涂层的光学和结构性能如可见透射率，IR反射率，微观形态特性，颜色外观和 涂层和加热处理产品的雾度特性。

    Novel silver barrier materials for low-emissivity applications
    5.
    发明申请
    Novel silver barrier materials for low-emissivity applications 有权
    用于低发射率应用的新型银阻挡材料

    公开(公告)号：US20140177042A1

    公开(公告)日：2014-06-26

    申请号：US13725126

    申请日：2012-12-21

    申请人： Guardian Industries Corp. ,  Intermolecular Inc.

    发明人： Mohd Fadzli Anwar Hassan ,  Brent Boyce ,  Guowen Ding ,  Minh Huu Le ,  Zhi-Wen Wen Sun ,  Yu Wang ,  Yongli Xu

    IPC分类号： G02B5/20

    CPC分类号： G02B5/208 ,  C03C17/36 ,  C03C17/3644 ,  C03C17/3649 ,  C03C17/3652 ,  C03C17/366 ,  C03C17/40 ,  G02B5/282

    摘要： A method for making low emissivity panels, including control the composition of a barrier layer formed on a thin conductive silver layer. The barrier structure can include an alloy of a first element having high oxygen affinity with a second element having low oxygen affinity. The first element can include Ta, Nb, Zr, Hf, Mn, Y, Si, and Ti, and the second element can include Ru, Ni, Co, Mo, and W, which can have low oxygen affinity property. The alloy barrier layer can reduce optical absorption in the visible range, can provide color-neutral product, and can improve adhesion to the silver layer.

    摘要翻译： 一种制造低发射率面板的方法，包括控制形成在薄导电银层上的阻挡层的组成。 阻挡结构可以包括具有高氧亲和力的第一元素与具有低氧亲合力的第二元素的合金。 第一元素可以包括Ta，Nb，Zr，Hf，Mn，Y，Si和Ti，第二元素可以包括可以具有低氧亲和性的Ru，Ni，Co，Mo和W。 合金阻挡层可以减少可见光范围内的光吸收，可以提供颜色中性的产品，并可以提高对银层的粘附性。

    Silver based conductive layer for flexible electronics
    7.
    发明授权
    Silver based conductive layer for flexible electronics 有权
    用于柔性电子元件的银基导电层

    公开(公告)号：US09121100B2

    公开(公告)日：2015-09-01

    申请号：US13715477

    申请日：2012-12-14

    申请人： Intermolecular Inc.

    发明人： Mohd Fadzli Anwar Hassan ,  Guowen Ding ,  Minh Huu Le ,  Minh Anh Anh Nguyen ,  Zhi-Wen Wen Sun ,  Guizhen Zhang

    IPC分类号： C23C28/00 ,  C23C30/00 ,  H01L51/52 ,  H01L51/00

    CPC分类号： H05K1/092 ,  C23C28/42 ,  C23C30/00 ,  H01L51/0097 ,  H01L51/5234 ,  H05K1/0274 ,  Y10T428/265

    摘要： Methods for making conducting stacks includes forming a doped or alloyed silver layer sandwiched between two layers of transparent conductive oxide such as indium tin oxide (ITO). The doped silver or silver alloy layer can be thin, such as between 1.5 to 20 nm and thus can be transparent. The doped silver or silver alloy can provide improved ductility property, allowing the conductive stack to be bendable. The transparent conductive oxide layers can also be thin, allowing the conductive stack to have an improved ductility property.

    摘要翻译： 制造导电叠层的方法包括形成夹在两层透明导电氧化物（例如氧化铟锡（ITO））之间的掺杂或合金化的银层。 掺杂的银或银合金层可以是薄的，例如在1.5至20nm之间，因此可以是透明的。 掺杂的银或银合金可以提供改善的延展性，允许导电叠层可弯曲。 透明导电氧化物层也可以是薄的，允许导电叠层具有改善的延展性。

    Two Layer Ag Process For Low Emissivity Coatings
    9.
    发明申请
    Two Layer Ag Process For Low Emissivity Coatings 审中-公开
    用于低发射率涂层的两层Ag工艺

    公开(公告)号：US20140170434A1

    公开(公告)日：2014-06-19

    申请号：US13715709

    申请日：2012-12-14

    申请人： INTERMOLECULAR INC.

    发明人： Mohd Fadzli Anwar Hassan ,  Brent Boyce ,  Guowen Ding ,  Minh Huu Le ,  Zhi-Wen Wen Sun ,  Yu Wang ,  Yongli Xu

    IPC分类号： G02B1/10

    CPC分类号： G02B1/10 ,  Y10T428/12056 ,  Y10T428/12611

    摘要： Two layer silver process comprising a silver layer deposited on a doped silver layer can improve the adhesion of the silver layer on a substrate, minimizing agglomeration to provide a high quality silver layer. The doped silver layer can comprise silver and a doping element that has lower enthalpy of formation with oxide than that of silver, leading to better bonding with oxygen in the substrate.

    摘要翻译： 包含沉积在掺杂银层上的银层的双层银方法可以改善银层在基片上的附着力，最小化附聚以提供高质量的银层。 掺杂的银层可以包含银和掺杂元素，其掺杂元素具有比银更低的氧化物形成焓，导致与衬底中的氧更好的结合。

    METHOD OF GENERATING HIGH PURITY BISMUTH OXIDE
    10.
    发明申请
    METHOD OF GENERATING HIGH PURITY BISMUTH OXIDE 审中-公开
    生成高纯度氧化铝的方法

    公开(公告)号：US20130136921A1

    公开(公告)日：2013-05-30

    申请号：US13738563

    申请日：2013-01-10

    申请人： Intermolecular Inc.

    发明人： Guowen Ding ,  Mohd Fadzli Anwar Hassan ,  Minh Huu Lee ,  Zhi-Wen Wen Sun

    IPC分类号： C23C14/08

    CPC分类号： C23C14/086 ,  C23C14/024 ,  C23C14/5806 ,  Y10T428/12549 ,  Y10T428/265

    摘要： A method for forming and protecting high quality bismuth oxide films comprises depositing a transparent thin film on a substrate comprising one of Si, alkali metals, or alkaline earth metals. The transparent thin film is stable at room temperature and at higher temperatures and serves as a diffusion barrier for the diffusion of impurities from the substrate into the bismuth oxide. Reactive sputtering, sputtering from a compound target, or reactive evaporation are used to deposit a bismuth oxide film above the diffusion barrier.

    摘要翻译： 用于形成和保护高质量氧化铋膜的方法包括在包含Si，碱金属或碱土金属之一的衬底上沉积透明薄膜。 透明薄膜在室温和较高温度下是稳定的，并且用作扩散阻挡层，用于将杂质从基底扩散到氧化铋中。 使用反应溅射，来自化合物靶的溅射或反应性蒸发来在扩散阻挡层上沉积氧化铋膜。