公开(公告)号：US20100182710A1

公开(公告)日：2010-07-22

申请号：US12626437

申请日：2009-11-25

申请人： Udo DINGER ,  Ulrich Bingel ,  Jeffrey Erxmeyer ,  Eral Erzin ,  Bernhard Weigl ,  Stephane Bruynooghe

发明人： Udo DINGER ,  Ulrich Bingel ,  Jeffrey Erxmeyer ,  Eral Erzin ,  Bernhard Weigl ,  Stephane Bruynooghe

IPC分类号： G02B7/192 ,  C25D1/06 ,  B23P17/00 ,  G02B5/08

CPC分类号： C25D1/06 ,  B82Y10/00 ,  C23C14/0005 ,  C23C28/023 ,  C23C28/322 ,  C23C28/345 ,  C23C28/42 ,  C25D7/08 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067 ,  Y10T29/49812

摘要： A method for producing an optical element or part of an optical element having a base body, including:—providing a mold body (21, 1000, 2000) which has a surface corresponding to the geometry of the optical element;—depositing a layer system (7) including at least one separation layer system (15, 1010, 2010) on the surface of the mold body (21, 1000, 2000);—electroforming a base body (4, 1030, 2030) on the layer system (7); and—detaching at least the base body from the mold body (21, 1000, 2000) at the separation layer system (15, 1010, 2010).

摘要翻译： 一种用于制造具有基体的光学元件或光学元件的一部分的方法，包括： - 提供具有对应于所述光学元件的几何形状的表面的模具体（21,1000,2000）; - 沉积层系统 （7），包括在所述模体（21,1000,2000）的表面上的至少一个分离层系统（15,1010,2010）; - 在所述层系统（7）上电铸基体（4,1030,2030） ）; 并且在分离层系统（15,1010,2010）将至少基体从模体（21,1000,2000）分离。

公开(公告)号：US20080130076A1

公开(公告)日：2008-06-05

申请号：US12009984

申请日：2008-01-23

申请人： Hans-Juergen Mann ,  Wolfgang Singer ,  Joerg Schultz ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Udo Dinger ,  Martin Antoni ,  Wilhelm Ulrich

发明人： Hans-Juergen Mann ,  Wolfgang Singer ,  Joerg Schultz ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Udo Dinger ,  Martin Antoni ,  Wilhelm Ulrich

IPC分类号： G03B27/70 ,  G03B27/54

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G02B13/143 ,  G02B17/0657 ,  G02B17/0663 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358 ,  G21K1/06 ,  G21K5/00 ,  G21K5/04 ,  G21K2201/061

摘要： There is provided an illumination system for microlithography. The illumination system includes an optical element having a plurality of field raster elements, a plane in which a field is illuminated, and a grazing incidence mirror situated in a light path from the optical element to the plane, after the optical element. The illumination system has no other grazing incidence mirror in the light path, after the optical element and before the plane.

摘要翻译： 提供了一种用于微光刻的照明系统。 该照明系统包括具有多个场光栅元件的光学元件，其中照射场的平面以及位于从光学元件到平面的光路中的掠入射镜之后的光学元件。 照明系统在光路中，光学元件之后和平面之前没有其他掠入射镜。

公开(公告)号：US07375798B2

公开(公告)日：2008-05-20

申请号：US11657420

申请日：2007-01-24

申请人： Russell Hudyma ,  Hans-Jürgen Mann ,  Udo Dinger

发明人： Russell Hudyma ,  Hans-Jürgen Mann ,  Udo Dinger

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/42 ,  G02B5/10

CPC分类号： G02B17/0657 ,  G02B17/0652 ,  G03B27/54 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70275

摘要： There is provided an EUV optical projection system. The system includes a first mirror, a second mirror, a third mirror, a fourth mirror, a fifth mirror, and a sixth mirror situated in an optical path from an object plane to an image plane, for imaging an object in said object plane into an image in said image plane. The image has a width W and a secant length SL, and the width W is greater than about 2 mm.

摘要翻译： 提供了一个EUV光学投影系统。 该系统包括位于从物平面到像平面的光路中的第一镜，第二镜，第三镜，第四镜，第五镜和第六镜，用于将所述物平面中的物体成像成 所述图像平面中的图像。 图像具有宽度W和割线长度SL，宽度W大于约2mm。

公开(公告)号：US07355678B2

公开(公告)日：2008-04-08

申请号：US11243407

申请日：2005-10-04

申请人： Russell Hudyma ,  Hans-Jürgen Mann ,  Udo Dinger

发明人： Russell Hudyma ,  Hans-Jürgen Mann ,  Udo Dinger

IPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/42

CPC分类号： G02B17/0657 ,  G02B17/0652 ,  G03B27/54 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70275

摘要： An EUV optical projection system includes at least six reflecting surfaces for imaging an object (OB) on an image (IM). The system is preferably configured to form an intermediate image (IMI) along an optical path from the object (OB) to the image (IM) between a secondary mirror (M2) and a tertiary mirror (M3), such that a primary mirror (M1) and the secondary mirror (M2) form a first optical group (G1) and the tertiary mirror (M3), a fourth mirror (M4), a fifth mirror (M5) and a sixth mirror (M6) form a second optical group (G2). The system also preferably includes an aperture stop (APE) located along the optical path from the object (OB) to the image (IM) between the primary mirror (M1) and the secondary mirror (M2). The secondary mirror (M2) is preferably concave, and the tertiary mirror (M3) is preferably convex. Each of the six reflecting surfaces preferably receives a chief ray (CR) from a central field point at an incidence angle of less than substantially 15°. The system preferably has a numerical aperture greater than 0.18 at the image (IM). The system is preferably configured such that a chief ray (CR) converges toward the optical axis (OA) while propagating between the secondary mirror (M2) and the tertiary mirror (M3).

摘要翻译： EUV光学投影系统包括用于对图像（IM）上的物体（OB）进行成像的至少六个反射表面。 该系统优选地配置成沿着从物体（OB）到次级反射镜（M 2）和第三反射镜（M 3）之间的图像（IM）的光路形成中间图像（IMI），使得主 反射镜（M 1）和副镜（M 2）形成第一光学组（G 1）和第三反射镜（M 3），第四反射镜（M 4），第五反射镜（M5）和第六反射镜 （M 6）形成第二光学组（G 2）。 该系统还优选地包括沿着从物体（OB）到主镜（M 1）和副镜（M 2）之间的图像（IM）的光路定位的孔径光阑（APE）。 副镜（M 2）优选为凹面，第三反射镜（M 3）优选为凸面。 六个反射表面中的每一个优选地以小于大约15°的入射角从中心场点接收主光线（CR）。 该系统优选地在图像（IM）处具有大于0.18的数值孔径。 优选地，该系统构造成使得主光线（CR）在副反射镜（M 2）和第三反射镜（M 3）之间传播的同时朝向光轴（OA）会聚。

公开(公告)号：US20070153252A1

公开(公告)日：2007-07-05

申请号：US11657420

申请日：2007-01-24

申请人： Russell Hudyma ,  Hans-Jurgen Mann ,  Udo Dinger

发明人： Russell Hudyma ,  Hans-Jurgen Mann ,  Udo Dinger

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G02B17/0657 ,  G02B17/0652 ,  G03B27/54 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70275

摘要： There is provided an EUV optical projection system. The system includes a first mirror, a second mirror, a third mirror, a fourth mirror, a fifth mirror, and a sixth mirror situated in an optical path from an object plane to an image plane, for imaging an object in said object plane into an image in said image plane. The image has a width W and a secant length SL, and the width W is greater than about 2 mm.

摘要翻译： 提供了一个EUV光学投影系统。 该系统包括位于从物平面到像平面的光路中的第一镜，第二镜，第三镜，第四镜，第五镜和第六镜，用于将所述物平面中的物体成像成 所述图像平面中的图像。 图像具有宽度W和割线长度SL，宽度W大于约2mm。

公开(公告)号：US20070070322A1

公开(公告)日：2007-03-29

申请号：US11604997

申请日：2006-11-28

申请人： Russell Hudyma ,  Hans-Jurgen Mann ,  Udo Dinger

发明人： Russell Hudyma ,  Hans-Jurgen Mann ,  Udo Dinger

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70233 ,  G02B17/0652 ,  G02B17/0657 ,  G03F7/70275

摘要： An EUV optical projection system includes at least six mirrors (M1, M2, M3, M4, M5, M6) for imaging an object (OB) to an image (IM). At least one mirror pair is preferably configured as an at least phase compensating mirror pair. The system is preferably configured to form an intermediate image (IMI) along an optical path from the object (OB) to the image (IM) between a second mirror (M2) and a third mirror (M3), such that a first mirror (M1) and the second mirror (M2) form a first optical group (G1) and the third mirror (M3), a fourth mirror (M4), a fifth mirror (M5) and a sixth mirror (M6) form a second optical group (G1). The system also preferably includes an aperture stop (APE) located along the optical path from the object (OB) to the image (IM) between the first mirror (M1) and the second mirror (M2). The second mirror (M2) is preferably convex, and the third mirror (M3) is preferably concave. The system preferably forms an image (IM) with a numerical aperture greater than 0.18.

摘要翻译： EUV光学投影系统包括用于将物体（OB）成像到图像（IM）的至少六个反射镜（M 1，M 2，M 3，M 4，M 5，M 6）。 优选地，至少一个镜对配置为至少相位补偿镜对。 该系统优选地被配置成沿着从物体（OB）到第二反射镜（M 2）和第三反射镜（M 3）之间的图像（IM））的光路形成中间图像（IMI），使得第一 反射镜（M 1）和第二反射镜（M 2）形成第一光学组（G 1）和第三反射镜（M 3），第四反射镜（M 4），第五反射镜（M5）和第六反射镜 （M 6）形成第二光学组（G 1）。 该系统还优选地包括沿着从物体（OB）到第一反射镜（M 1）和第二反射镜（M 2）之间的图像（IM））的光路定位的孔径光阑（APE）。 第二镜（M 2）优选为凸面，第三镜（M 3）优选为凹面。 该系统优选地形成数值孔径大于0.18的图像（IM）。

公开(公告)号：US07186983B2

公开(公告)日：2007-03-06

申请号：US10919583

申请日：2004-08-17

申请人： Hans-Juergen Mann ,  Wolfgang Singer ,  Joerg Schultz ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Udo Dinger ,  Martin Antoni ,  Wilhelm Ulrich

发明人： Hans-Juergen Mann ,  Wolfgang Singer ,  Joerg Schultz ,  Johannes Wangler ,  Karl-Heinz Schuster ,  Udo Dinger ,  Martin Antoni ,  Wilhelm Ulrich

IPC分类号： G02B27/14 ,  G02B5/30 ,  G02B17/00

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G02B13/143 ,  G02B17/0657 ,  G02B17/0663 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70083 ,  G03F7/70108 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70358 ,  G21K1/06 ,  G21K5/00 ,  G21K5/04 ,  G21K2201/061

摘要： There is provided a projection objective for a projection exposure apparatus that has a primary light source for emitting electromagnetic radiation having a chief ray with a wavelength ≦193 nm. The projection objective includes an object plane, a first mirror, a second mirror, a third mirror, a fourth mirror; and an image plane. The object plane, the first mirror, the second mirror, the third mirror, the fourth mirror and the image plane are arranged in a centered arrangement around a common optical axis. The first mirror, the second mirror, the third mirror, and the fourth mirror are situated between the object plane and the image plane. The chief ray, when incident on an object situated in the object plane, in a direction from the primary light source, is inclined away from the common optical axis.

公开(公告)号：US20070035814A1

公开(公告)日：2007-02-15

申请号：US10577163

申请日：2003-09-27

申请人： Udo Dinger ,  Frank Eisert ,  Stefan Koehler ,  Andreas Ochse ,  Johannes Zellner ,  Martin Lowisch ,  Timo Laufer

发明人： Udo Dinger ,  Frank Eisert ,  Stefan Koehler ,  Andreas Ochse ,  Johannes Zellner ,  Martin Lowisch ,  Timo Laufer

IPC分类号： G06K7/10

CPC分类号： G03F7/70958 ,  B82Y10/00 ,  G02B1/00 ,  G02B5/0891 ,  G02B7/181 ,  G03F7/70891 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/065

摘要： A projection objective 1 for short wavelengths, in particular for wavelengths λ

摘要翻译： 用于短波长的投影物镜1，特别是对于波长λ<157nm的投影物镜1设置有多个反射镜M 1，M 2，M 3，M 4，M 5和M 6，其被精确地相对于光学 轴5。 反射镜M 1，M 2，M 3，M 4，M 5和M 6具有多层涂层。 提供了至少两种不同的镜材料，其热膨胀系数的上升与热膨胀系数的过零区域中的温度的函数不同，特别是大小的符号。

公开(公告)号：US06700952B2

公开(公告)日：2004-03-02

申请号：US09760091

申请日：2001-01-11

申请人： Udo Dinger ,  Martin Ross-Messemer

发明人： Udo Dinger ,  Martin Ross-Messemer

IPC分类号： G21K106

CPC分类号： G03F7/702 ,  G02B5/1828 ,  G02B5/1838 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70158

摘要： There is provided an optical apparatus for radiation with a wavelength ≦160 nm. The apparatus comprises a mirror with a mirror surface, and a first device for generating elastic oscillations with different acoustic wavelengths on the mirror surface due to surface deformations. Radiation impinging on the mirror surface is diffracted in a predetermined range of angles (&agr;).

摘要翻译： 提供了一种波长<= 160nm的辐射光学装置。 该装置包括具有镜面的反射镜，以及用于由于表面变形而在镜面上产生具有不同声波长的弹性振荡的第一装置。 撞击在镜面上的辐射在预定的角度范围（α）被衍射。

公开(公告)号：US06495839B1

公开(公告)日：2002-12-17

申请号：US09523297

申请日：2000-03-10

申请人： Udo Dinger

发明人： Udo Dinger

IPC分类号： G21K500

CPC分类号： G03F7/70233 ,  G02B17/0657

摘要： The invention is concerned with a microlithography projection objective device for short wavelength microlithography, preferably

摘要翻译： 本发明涉及一种用于短波微光刻的微光刻投影物镜装置，优选<100nm，第一镜（S1），第二镜（S2），第三镜（S3），第四镜（S4）和 第五镜（S5）。 本发明的特征在于，图像侧数值孔径（NA）大于或等于0.10，并且最接近被照射物体的反射镜（优选晶片）的布置方式使得图像 - 至少与最接近晶片的反射镜的使用直径（D）相对应; 图像侧光学自由工作距离至少为最接近晶片的反射镜的使用直径（D）的三分之一和位于20mm和30mm之间的长度的总和; 和/或图像侧光学自由工作距离为至少50mm，优选为60mm。