公开(公告)号：US08252505B2

公开(公告)日：2012-08-28

申请号：US12371876

申请日：2009-02-16

申请人： Akiya Kawaue ,  Keita Ishiduka ,  Kensuke Matsuzawa ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Hiroaki Shimizu

发明人： Akiya Kawaue ,  Keita Ishiduka ,  Kensuke Matsuzawa ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Hiroaki Shimizu

IPC分类号： G03F7/004 ,  C07D493/08 ,  C07D495/08

CPC分类号： C07D493/08 ,  C07D493/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397

摘要： A resist composition including a base component (A) that exhibits changed solubility in an alkali developing solution under the action of acid, and an acid generator component (B) that generates acid upon exposure, wherein the acid generator component (B) includes an acid generator (B1) consisting of a compound represented by general formula (b1-2) shown below: [Chemical Formula 1] A+Z−  (b1-2) wherein A+ represents an organic cation; and Z− represents an anionic cyclic group, wherein the cyclic group includes an ester linkage within the ring structure, two mutually different groups are bonded to the ring structure, one of these groups includes an ester linkage in which a carbon atom that constitutes part of the ester linkage is bonded directly to the ring structure, and the other group includes an anion moiety.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在酸性作用下在碱性显影液中表现出改变的溶解性的碱成分（A）和曝光时产生酸的酸产生剂成分（B），其中，所述酸发生剂成分（B）含有酸 [化学式1] A + Z-（b1-2）其中A +表示有机阳离子，由式（b1-2）表示的化合物组成的发生剂（B1） Z-表示阴离子性环状基团，其中环状基团在环结构中包含酯键，两个相互不同的基团与环结构键合，这些基团之一包括酯键，其中构成 酯键直接键合到环结构上，另一个基团包括阴离子部分。

公开(公告)号：US20100015552A1

公开(公告)日：2010-01-21

申请号：US12499610

申请日：2009-07-08

申请人： Akiya Kawaue ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Takehiro Seshimo ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Naoto Motoike ,  Hiroaki Shimizu ,  Kensuke Matsuzawa ,  Hideo Hada

发明人： Akiya Kawaue ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Takehiro Seshimo ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Naoto Motoike ,  Hiroaki Shimizu ,  Kensuke Matsuzawa ,  Hideo Hada

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C309/09 ,  C07C309/10 ,  C07C309/17 ,  C07C311/48 ,  C07C311/51 ,  C07C317/04 ,  C07C317/10 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/74 ,  C07D307/92 ,  C07D307/94 ,  C07D493/18 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122

摘要： A resist composition including: a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid; and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, wherein said acid-generator component (B) comprises an acid generator (B1) including a compound represented by general formula (b1-11) shown below:wherein R7″ to R9″ each independently represent an aryl group or an alkyl group, wherein two of R7″ to R9″ may be bonded to each other to form a ring with the sulfur atom, and at least one of R7″ to R9″ represents a substituted aryl group having a group represented by general formula (I) shown below as a substituent; X− represents an anion; and Rf represents a fluorinated alkyl group.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含：在酸的作用下在碱性显影液中表现出改变的溶解度的碱成分（A） 以及在暴露时产生酸的酸发生剂组分（B），其中所述酸发生剂组分（B）包含酸产生剂（B1），其包含如下所示的由通式（b1-11）表示的化合物：其中R7“ R 9“各自独立地表示芳基或烷基，其中R 7”至R 9“中的两个可以彼此键合以形成具有硫原子的环，并且R 7”至R 9“中的至少一个 “表示具有下述通式（I）表示的基团的取代芳基作为取代基; X-表示阴离子; Rf表示氟化烷基。

公开(公告)号：US08367299B2

公开(公告)日：2013-02-05

申请号：US13233832

申请日：2011-09-15

申请人： Akiya Kawaue ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Takehiro Seshimo ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Naoto Motoike ,  Hiroaki Shimizu ,  Kensuke Matsuzawa ,  Hideo Hada

发明人： Akiya Kawaue ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Takehiro Seshimo ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Naoto Motoike ,  Hiroaki Shimizu ,  Kensuke Matsuzawa ,  Hideo Hada

IPC分类号： G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C309/09 ,  C07C309/10 ,  C07C309/17 ,  C07C311/48 ,  C07C311/51 ,  C07C317/04 ,  C07C317/10 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/74 ,  C07D307/92 ,  C07D307/94 ,  C07D493/18 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122

摘要： A resist composition including: a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid; and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, wherein said acid-generator component (B) comprises an acid generator (B1) including a compound represented by general formula (b1-11) shown below: wherein R7″ to R9″ each independently represent an aryl group or an alkyl group, wherein two of R7″ to R9″ may be bonded to each other to form a ring with the sulfur atom, and at least one of R7″ to R9″ represents a substituted aryl group having a group represented by general formula (I) shown below as a substituent; X− represents an anion; and Rf represents a fluorinated alkyl group.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含：在酸的作用下在碱性显影液中表现出改变的溶解度的碱成分（A） 和产生酸的酸发生剂组分（B），其中所述酸产生剂组分（B）包含酸产生剂（B1），其包含如下所示的由通式（b1-11）表示的化合物：其中R7“至 R9“各自独立地表示芳基或烷基，其中R7”至R9“中的两个可以彼此键合以形成具有硫原子的环，并且R 7”至R 9“中的至少一个表示取代的芳基 具有下述通式（I）表示的基团作为取代基的基团; X-表示阴离子; Rf表示氟化烷基。

公开(公告)号：US08338076B2

公开(公告)日：2012-12-25

申请号：US12591639

申请日：2009-11-25

申请人： Akiya Kawaue ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Hideo Hada ,  Takehiro Seshimo ,  Kensuke Matsuzawa ,  Keita Ishiduka ,  Kotaro Endo

发明人： Akiya Kawaue ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Hideo Hada ,  Takehiro Seshimo ,  Kensuke Matsuzawa ,  Keita Ishiduka ,  Kotaro Endo

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/028 ,  G03F7/039 ,  G03F7/26 ,  C07C381/12

CPC分类号： C07D327/04 ,  C07D307/33 ,  C07D307/93 ,  C07D307/94 ,  C07D309/30 ,  C07D409/12 ,  C07D493/18 ,  C07D497/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the acid-generator component (B) including an acid generator (B1) containing a compound having a cation moiety comprising a group represented by general formula (I) (in the formula, R5 represents an organic group having a carbonyl group, an ester bond or a sulfonyl group; and Q represents a divalent linking group).

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在酸的作用下在碱性显影液中溶解度变化的碱成分（A）和曝光时产生酸的酸发生剂成分（B），所述酸发生剂成分（B）含有酸发生剂 （B1），其含有具有由通式（I）表示的基团的阳离子部分的化合物（式中，R5表示具有羰基，酯键或磺酰基的有机基团，Q表示二价连接基团 ）。

公开(公告)号：US20120282551A1

公开(公告)日：2012-11-08

申请号：US13402820

申请日：2012-02-22

申请人： Kensuke MATSUZAWA ,  Jun IWASHITA ,  Yoshitaka KOMURO ,  Masatoshi ARAI

发明人： Kensuke MATSUZAWA ,  Jun IWASHITA ,  Yoshitaka KOMURO ,  Masatoshi ARAI

IPC分类号： C08F228/06 ,  C08F228/02 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F220/38 ,  C08F228/06 ,  C08F2220/382 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2039 ,  G03F7/38

摘要： A resist composition including a resin component which generates acid upon exposure and exhibits changed solubility in a developing solution under the action of acid, the resin component including a resin component having a structural unit represented by a general formula (a0-0-1) shown below in which R represents a hydrogen atom, an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms or a halogenated alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, R0-1 represents a single bond or a divalent linking group, each of R2, R3 and R4 independently represents a linear, branched or cyclic alkyl group which may have a non-aromatic substituent, or R3 and R4 may be bonded to each other to form a ring together with the sulfur atom, and X represents a non-aromatic divalent linking group or a single bond.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在曝光后产生酸的树脂组分，并且在酸的作用下在显影液中显示出改变的溶解性，所述树脂组分包括具有由通式（a0-0-1）表示的结构单元的树脂组分 其中R表示氢原子，1至5个碳原子的烷基或1至5个碳原子的卤代烷基，R 0-1表示单键或二价连接基团，R 2，R 3和R 4各自 独立地表示可以具有非芳香族取代基的直链状，支链状或环状的烷基，或者R3和R4可以与硫原子一起形成环，X表示非芳香族二价连接基团或 单一债券。

公开(公告)号：US08247160B2

公开(公告)日：2012-08-21

申请号：US12501981

申请日：2009-07-13

申请人： Yoshiyuki Utsumi ,  Keita Ishiduka ,  Kensuke Matsuzawa ,  Akiya Kawaue ,  Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura

发明人： Yoshiyuki Utsumi ,  Keita Ishiduka ,  Kensuke Matsuzawa ,  Akiya Kawaue ,  Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  C07C309/65

CPC分类号： C07C381/12 ,  C07C309/12 ,  C07C2603/74 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A resist composition including a base component that exhibits changed solubility in an alkali developing solution under the action of acid, and an acid generator consisting of a compound represented by general formula (b1). In formula (b1), Y1 represents a fluorinated alkylene group of 1 to 4 carbon atoms, X represents an aliphatic cyclic group of 3 to 30 carbon atoms, R11′ to R13′ each represents an aryl group or alkyl group, provided that at least one of R11′ to R13′ is an aryl group having a substituent represented by general formula (b1-0), and two alkyl groups among R11′ to R13′ may be bonded to each other to form a ring with the sulfur atom in the formula. In formula (b1-0), R52 represents a chain-like or cyclic hydrocarbon group, and f and g each represents 0 or 1.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在酸性作用下在碱性显影液中表现出改变的溶解度的碱成分和由通式（b1）表示的化合物组成的酸发生剂。 在式（b1）中，Y1表示1〜4个碳原子的氟化亚烷基，X表示3〜30个碳原子的脂肪族环状基团，R 11'〜R 13'表示芳基或烷基， R11'〜R13'中的一个为具有通式（b1-0）所示取代基的芳基，R11'至R13'中的两个烷基可以彼此键合形成环中的硫原子 式。 在式（b1-0）中，R 52表示链状或环状烃基，f和g各自表示0或1。

公开(公告)号：US08211616B2

公开(公告)日：2012-07-03

申请号：US12500528

申请日：2009-07-09

申请人： Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Keita Ishiduka ,  Kensuke Matsuzawa ,  Akiya Kawaue

发明人： Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Keita Ishiduka ,  Kensuke Matsuzawa ,  Akiya Kawaue

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/2041

摘要： A positive resist composition including a resin component (A) having a structural unit (a0) represented by general formula (a0-1) (R represents a hydrogen atom, a C1-C5 alkyl group or a C1-C5 halogenated alkyl group; R1 represents a C3 or more branched alkyl group; and each of R2 and R3 independently represents an alkyl group, wherein R2 and R3 may be mutually bonded to form a polycyclic group) and/or general formula (a0-2) (R is the same as defined above; R8 represents a divalent linking group that contains no halogen atom; and R7 represents an acid dissociable, dissolution inhibiting group), and an acid generator (B1) consisting of a compound represented by general formula (b1) (Y1 represents a C1-C4 fluorinated alkylene group which may have a substituent; X represents a C3-C30 aliphatic cyclic group which may have a substituent; and A+ represents an organic cation).

摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含具有由通式（a0-1）表示的结构单元（a0）的树脂组分（A）（R表示氢原子，C1-C5烷基或C1-C5卤代烷基; R1 表示C3或更多支链烷基; R2和R3各自独立地表示烷基，其中R2和R3可以相互键合形成多环基）和/或通式（a0-2）（R相同） R8表示不含卤原子的二价连接基团，R7表示酸解离性溶解抑制基团）和由通式（b1）表示的化合物（Y1）表示的酸产生剂（B1） 可以具有取代基的C1-C4氟化亚烷基; X表示可具有取代基的C 3 -C 30脂族环基; A +表示有机阳离子。

公开(公告)号：US07927780B2

公开(公告)日：2011-04-19

申请号：US12208109

申请日：2008-09-10

申请人： Akiya Kawaue ,  Takeshi Iwai ,  Hideo Hada ,  Shinichi Hidesaka ,  Tsuyoshi Kurosawa ,  Natsuko Maruyama ,  Kensuke Matsuzawa ,  Takehiro Seshimo ,  Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura

发明人： Akiya Kawaue ,  Takeshi Iwai ,  Hideo Hada ,  Shinichi Hidesaka ,  Tsuyoshi Kurosawa ,  Natsuko Maruyama ,  Kensuke Matsuzawa ,  Takehiro Seshimo ,  Hiroaki Shimizu ,  Tsuyoshi Nakamura

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  C07D407/02 ,  C07D409/02

CPC分类号： C07D493/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123 ,  Y10S430/124 ,  Y10S430/125

摘要： A compound represented by formula (I); and a compound represented by formula (b1-1): wherein X represents —O—, —S—, —O—R3— or —S—R4—, wherein each of R3 and R4 independently represents an alkylene group of 1 to 5 carbon atoms; R2 represents an alkyl group of 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group of 1 to 6 carbon atoms, a halogenated alkyl group of 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom, a hydroxyalkyl group of 1 to 6 carbon atoms, a hydroxyl group or a cyano group; a represents an integer of 0 to 2; Q1 represents an alkylene group of 1 to 12 carbon atoms or a single bond; Y1 represents an alkylene group of 1 to 4 carbon atoms or a fluorinated alkylene group; M+ represents an alkali metal ion; and A+ represents an organic cation.

摘要翻译： 由式（I）表示的化合物; 和由式（b1-1）表示的化合物：其中X表示-O - ， - S - ， - O-R 3 - 或-S-R 4 - ，其中R 3和R 4各自独立地表示1至5的亚烷基 碳原子 R2表示碳原子数为1〜6的烷基，碳原子数为1〜6的烷氧基，碳原子数为1〜6的卤代烷基，碳原子数为1〜6的卤原子，羟基烷基，羟基 或氰基; a表示0〜2的整数， Q1表示1〜12个碳原子的亚烷基或单键; Y1表示1〜4个碳原子的亚烷基或氟化亚烷基; M +表示碱金属离子; 而A +代表有机阳离子。

公开(公告)号：US20110008728A1

公开(公告)日：2011-01-13

申请号：US12788160

申请日：2010-05-26

申请人： Tsuyoshi NAKAMURA ,  Masaru TAKESHITA ,  Jiro YOKOYA ,  Hideo HADA ,  Kensuke MATSUZAWA ,  Kazushige DOHTANI

发明人： Tsuyoshi NAKAMURA ,  Masaru TAKESHITA ,  Jiro YOKOYA ,  Hideo HADA ,  Kensuke MATSUZAWA ,  Kazushige DOHTANI

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C303/32 ,  C07C309/04 ,  C07C309/06 ,  C07C309/12 ,  C07C309/19 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F2220/281 ,  C08F2220/285 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  C08F220/28

摘要： A resist composition including: a base component which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under the action of acid; and an acid-generator component containing an acid generator (B1) consisting of a compound represented by general formula (b1); dissolved in an organic solvent containing an alcohol-based organic solvent having a boiling point of at least 150° C., wherein R7″ to R9″ represents an aryl group or an alkyl group, provided that at least one of R7″ to R9″ represents a substituted aryl group which has been substituted with a group represented by the formula: —O—R70 (R70 represents an organic group), and two of R7″ to R9″ may be mutually bonded to form a ring with the sulfur atom; X represents a hydrocarbon group of 3 to 30 carbon atoms; Q1 represents a divalent linking group containing an oxygen atom; and Y1 represents an alkylene group of 1 to 4 carbon atoms or a fluorinated alkylene group of 1 to 4 carbon atoms.

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含：在酸的作用下在碱性显影液中显示出改变的溶解度的碱成分; 以及含有由通式（b1）表示的化合物构成的酸发生剂（B1）的酸发生剂成分。 溶解在含有沸点至少为150℃的醇类有机溶剂的有机溶剂中，其中R7“至R9”表示芳基或烷基，条件是R7“至R9”中的至少一个 表示被由下式表示的基团取代的取代的芳基：-R-70（R70表示有机基团），并且R7“至R9”中的两个可以相互键合形成具有硫原子的环; X表示3〜30个碳原子的烃基; Q1表示含有氧原子的二价连接基团; Y1表示碳原子数为1〜4的亚烷基或碳原子数1〜4的氟化亚烷基。

公开(公告)号：US20100136478A1

公开(公告)日：2010-06-03

申请号：US12591639

申请日：2009-11-25

申请人： Akiya Kawaue ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Hideo Hada ,  Takehiro Seshimo ,  Kensuke Matsuzawa ,  Keita Ishiduka ,  Kotaro Endo

发明人： Akiya Kawaue ,  Yoshiyuki Utsumi ,  Hideo Hada ,  Takehiro Seshimo ,  Kensuke Matsuzawa ,  Keita Ishiduka ,  Kotaro Endo

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  C07D327/04 ,  C07D333/50

CPC分类号： C07D327/04 ,  C07D307/33 ,  C07D307/93 ,  C07D307/94 ,  C07D309/30 ,  C07D409/12 ,  C07D493/18 ,  C07D497/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A resist composition including a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the acid-generator component (B) including an acid generator (B1) containing a compound having a cation moiety represented by general formula (I) (in the formula, R5 represents an organic group having a carbonyl group, an ester bond or a sulfonyl group; and Q represents a divalent linking group).

摘要翻译： 一种抗蚀剂组合物，其包含在酸的作用下在碱性显影液中溶解度变化的碱成分（A）和曝光时产生酸的酸发生剂成分（B），所述酸发生剂成分（B）含有酸发生剂 （B1），其含有具有由通式（I）表示的阳离子部分的化合物（式中，R5表示具有羰基，酯键或磺酰基的有机基团，Q表示二价连接基团）。