化合物水合铵硼磷羟基和水合铵硼磷羟基双折射晶体及制备方法和用途

    公开(公告)号:CN115838968B

    公开(公告)日:2024-06-14

    申请号:CN202111105978.0

    申请日:2021-09-22

    摘要: 本发明涉及一种水合铵硼磷羟基化合物及铵硼磷羟基双折射晶体的制备方法和用途,该化合物分子式为NH4(B6PO10(OH)4)·H2O,分子量为359.92,采用硼酸熔融法制备,所得产物直接为晶体。该晶体的分子式为NH4(B6PO10(OH)4)·H2O,分子量为359.92,属于三斜晶系,空间群为#imgabs0#采用硼酸熔融法即得到水合铵硼磷羟基双折射晶体。该晶体的双折射值为0.095@532nm,截止边低于200nm。该晶体的生长过程具有操作简单,成本低,所用的试剂均为无机原料,毒性低,生长周期短,物化性质稳定等优点。通过本发明所述方法获得的水合铵硼磷羟基双折射晶体在光学调制器等双折射晶体器件中得到广泛应用。

    一种GaN单晶生长装置及GaN单晶生长方法

    公开(公告)号:CN117758367A

    公开(公告)日:2024-03-26

    申请号:CN202311793661.X

    申请日:2023-12-22

    IPC分类号: C30B29/38 C30B9/00

    摘要: 本发明公开了一种GaN单晶生长装置及GaN单晶生长方法,包括反应釜和储槽;其中,储槽内盛装有熔体;反应釜内的顶部设置有用于将熔体雾化成微小液滴的雾化喷头和用于供氮气进入的进气口,雾化喷头通过第二管道与储槽连通,第二管道上设置有第二循环泵;反应釜内的底部设置有固定盘和第一管道,固定盘上放置有GaN籽晶,第一管道与储槽连通,第一管道上设置有第一循环泵。本发明通过将熔体雾化成微小液滴,使得雾化后的微小液滴可在反应釜的上部与通入的氮气充分的接触,快速实现氮离子的解离与混合,同时储槽的设计将升温过程中的熔体与GaN籽晶进行分离,防止升温不饱和状态熔体对GaN籽晶的腐蚀,影响后续成核,利于大范围推广应用。

    一种提高KGW晶体质量和利用率的晶体制备方法

    公开(公告)号:CN114875473B

    公开(公告)日:2023-11-14

    申请号:CN202210595917.5

    申请日:2022-05-30

    IPC分类号: C30B9/00 C30B29/22

    摘要: 一种提高KGW晶体质量和利用率的晶体制备方法,采用缩口铂金坩埚为生长装置,下部分为圆筒形、上部分呈圆台形缩口的轴对称结构,缩口部分的高度占坩埚整体高度的1/4~1/8,锥状倾斜角度为10~30°,在晶体生长时,熔体生长液面在缩口部分与圆筒形部分的过渡部位,铂籽晶杆释放至熔体生长液面。本发明加速铂金坩埚壁附近熔体的流动,不仅保证生长熔体的均匀性,还对铂金坩埚中轴形成特殊的温场,抑制了KGW晶体b轴横向快速生长的性能,生长出来的晶体几乎接近长方体,提高了KGW晶体毛坯的利用率;铂金坩埚的缩口不影响下籽晶以及观察晶体生长情况,还对生长熔液产生的热流起了瓶颈性的向上冲力,避免外因影响晶体质量,再次提高KGW晶体利用率。

    一种超声波搅拌的氮化镓液相生长装置

    公开(公告)号:CN114934311A

    公开(公告)日:2022-08-23

    申请号:CN202210497783.3

    申请日:2022-05-09

    IPC分类号: C30B9/00 C30B30/06 C30B29/40

    摘要: 本发明公开了一种超声波搅拌的氮化镓液相生长装置,包括壳体,所述外壳体内部设置有容纳腔,所述外壳体顶端螺栓固定连接有用于将容纳腔进行封堵的盖体,所述容纳腔内部固定连接有反应壳体;所述反应壳体内底壁设置有加热件,所述反应壳体上固定连接有多个超声波振子;所述容纳腔内部固定连接有固定块,所述固定块上固定连接有用于对反应壳体进行进料的进料机构;所述外壳体上设置有用于对容纳腔进行冲入氮气的充气组件。本发明通过在反应壳体底端固定连接有多个超声波振子能够实现反应壳体内部产生超声振动,以实现其内部的物料能够实现更加充分的进行混合,相对于现有技术中的机械搅拌结构,能够大大的减小搅拌装置的结构,使得设备的结构更加的简单。

    化合物氟硼酸钡和氟硼酸钡非线性光学晶体及制备方法和用途

    公开(公告)号:CN111334858B

    公开(公告)日:2021-06-29

    申请号:CN202010150933.4

    申请日:2020-03-06

    摘要: 本发明涉及一种化合物氟硼酸钡和氟硼酸钡非线性光学晶体及制备方法和用途,该化合物的化学式为BaBOF3,分子量为221.15,采用固相合成法或真空封装法制成;该晶体的化学式为BaBOF3,分子量为221.15,属于单斜晶系,空间群为P21,晶胞参数为a=4.6145(17)Å,b=4.3671(16)Å,c=7.905(3)Å,β=105.519(6)°,单胞体积为153.49(10)Å3,晶体的粉末倍频效应约为KH2PO4(KDP)的1.0倍,紫外吸收边短于190 nm,采用熔体法,高温熔液法,真空封装法,水热法或室温溶液法生长晶体,该晶体的化学稳定性好,可作为紫外、深紫外非线性光学晶体在全固态激光器中获得应用。

    一种利用模板法制备单晶黑磷纳米线的方法

    公开(公告)号:CN111101192A

    公开(公告)日:2020-05-05

    申请号:CN202010021620.9

    申请日:2020-01-09

    发明人: 王琳 蒋小红

    摘要: 本发明涉及一种利用模板法制备单晶黑磷纳米线的方法,利用阳极氧化的方法制备阳极氧化铝模板AAO,浸泡于氯化铜溶液中去基底,再与红磷混合进行反应,使得腔内的红磷转化为熔融的白磷,再使得熔融的白磷注入到AAO孔洞内,使得AAO孔洞内的白磷转化为黑磷,最后用NaOH溶液溶解AAO模板继而得到黑磷纳米线。通过控制AAO模板的孔洞直径来控制黑磷纳米线的尺寸,合成不同尺寸的具有均一性好,结晶质高,稳定性好的黑磷纳米线,采用的高温高压技术具有耗时短,可控性好、重复性高、产量高、清洁环保和成本低等优点。不仅为探索黑磷材料的新特性开辟了一个新维度,而且为快速高效的大规模制造提供了一维结构工程策略。

    一种单相黄铜矿结构CdGeAs2晶体材料的合成方法

    公开(公告)号:CN109750355A

    公开(公告)日:2019-05-14

    申请号:CN201910198369.0

    申请日:2019-03-15

    申请人: 四川大学

    IPC分类号: C30B29/10 C30B9/00

    摘要: 本发明公开了一种单相黄铜矿结构CdGeAs2晶体材料的合成方法,包括以下步骤:S1:安瓿清洗,制作好的安瓿在使用前依次用碱、自来水、5%氢氟酸洗液对合成安瓿进行清洗,然后采用超声波进行振荡清洗,最后用高阻去离子水反复冲洗合成安瓿,直到清洗后用水的电阻达到2MΩ以上为止,然后将清洗后的合成安瓿放置于真空烘箱中烘干,封口待用。优点在于:本方法中,采用分步合成和熔体温度振荡与机械振荡等手段,合成过程简单,合成快速,不仅能够减小了合成反应爆炸的危险,有效地提高Ge与CdAs2固相反应速率,确保了合成反应的充分进行,而且能够在反应最后阶段将部分残余As、Cd蒸汽从熔体中驱赶出来,进一步提高合成产物的纯度。