半导体构件封装工艺过程用周转工装

    公开(公告)号:CN104810313A

    公开(公告)日:2015-07-29

    申请号:CN201510225963.6

    申请日:2015-05-06

    Inventor: 莫行晨

    Abstract: 本发明涉及一种半导体构件封装工艺过程用周转工装,包括:基座;沉降组件;沉降组件升降机构;用来夹持半导体构件梳条;在工况下,驱动旋钮令沉降组件上升,且使沉降凸条穿过工作台面的沉降槽孔而且其顶面与工作台面持平;当安置有半导体构件的石墨舟架设在基座上,且同一横列的若干个半导体构件的一端引线,相间错开抵撑在工作台面上和沉降凸条顶面上;反向驱动旋钮;沉降凸条则沿着工作台面所设的沉降槽孔下降,从而令横向成行的半导体构件呈纵向高矮交错布置,尔后,通过所述梳条顺序将横向排列等高的半导体构件,从石墨舟中取出来并转入下道封装工序的工装上。本发明具有能够降低操作难度,并且减少工件受到损伤等优点。

    基板分离装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104681463A

    公开(公告)日:2015-06-03

    申请号:CN201410270236.7

    申请日:2014-06-17

    Abstract: 公开了一种基板分离装置,包括:形成为支承附连到目标基板的供给基板的下板;以及布置在供给基板之上、配置为通过给供给基板施加真空压力而将供给基板与目标基板分离的多个上板。上板形成为包括:设置在与供给基板的一个边缘区相对的第一区中的第一上板;设置在与供给基板的另一边缘区相对的第三区中的第三上板;以及设置在第一区与第三区之间的第二区中的第二上板。如此,多个上板被布置在基板分离装置中。因此,基板分离装置可以防止应力施加到目标基板的固定部分。

    太阳能硅片制程花篮
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103545233A

    公开(公告)日:2014-01-29

    申请号:CN201310550082.2

    申请日:2013-11-08

    Inventor: 卢韦至

    CPC classification number: Y02P70/521 H01L21/67313 H01L31/18

    Abstract: 本发明公开了一种太阳能硅片制程花篮,属于太阳能电池制备工具技术领域。太阳能硅片制程花篮,花篮上设有卡槽,卡槽的形状为弧形,硅片与花篮卡槽之间为点接触。进一步地,所述花篮横轴卡槽数量为1-300。进一步地,所述卡槽与硅片侧边接触点的个数为1-45。本发明藉由弧形的卡槽设计来回避硅片吸附卡槽边缘的问题,如此在卡槽内的硅片即使稍微移动,也可确保不会吸附在卡槽边缘造成卡槽痕。

    用于形成在一工艺过程晶舟中待定位的背对背的晶片批的方法,及用于形成晶片批的装卸系统

    公开(公告)号:CN101553420B

    公开(公告)日:2013-09-11

    申请号:CN200780042195.4

    申请日:2007-11-22

    Abstract: 本发明涉及一种用于形成在一侧待掺杂的晶片叠、尤其是在一侧待掺杂的太阳能晶片叠的方法,以便用晶片批填装一工艺过程晶舟,在所述工艺过程晶舟上将预定的偶数数量晶片成排地设置在一转送托架的容纳槽中,所述转送托架在一水平面内夹紧并且具有一面向上的堆叠开口。为了增加在工艺过程晶舟中的包装密度并因此增加扩散过程的产量,将成排地设置在转送托架中的晶片的数量的一半以第一晶片叠的形式从转送托架中转送到一位于转送托架外部的固定的准备位置中,然后将成排地设置在转送托架中的晶片的数量的另一半以第二晶片叠的形式从转送托架移出,并且将第二晶片叠这样地旋转,使得第二晶片叠的晶片到达一相对于第一晶片叠的晶片在它的准备位置的位置旋转180°的位置,并且随后将第二晶片叠转送到第一晶片叠的准备位置,使第二晶片叠与第一晶片叠对准,并且然后通过分别使第一晶片和第二晶片叠的相互相配的晶片的无需掺杂的侧面同时且叠合地相互贴紧,使第二晶片叠与第一晶片叠形锁合地组合成包装状的背对背晶片批(BTB晶片批),随后由转送夹持器将BTB晶片批形锁合地拾取,并装到工艺过程晶舟中。

    用于盘形基片的夹持装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN101821845B

    公开(公告)日:2012-11-14

    申请号:CN200880111310.3

    申请日:2008-08-30

    Abstract: 本发明涉及一种用于太阳能晶片(2)的夹持装置,具有至少一个梳状夹持器(1),所述梳状夹持器具有细长的腹板(3),在该腹板上沿着其纵向延伸部分设有多个相互等距离设置的梳元件(4),其中在相邻的各个梳元件(4)的彼此面对的表面之间形成至少一个凹槽(5或6),所述凹槽具有接触面(7)和导向面(8),用于待容纳在凹槽(5或6)中的太阳能晶片(2)。为了将太阳能晶片可靠地容纳和夹持在夹持装置中,在至少一个梳状夹持器(1)的细长的腹板(3)的各个相邻的梳元件(4)之间形成夹持间隙(9),该夹持间隙的外部轮廓(us)具有接触面(7)和导向面(8),夹持间隙具有由两个彼此错开的凹槽(5和6)形成的任意的宽度(bH),它们的深度(t1)或(t2)分别小于每个梳元件(4)的总深度(tges),其中深度(t1)和深度(t2)一起分别形成每个梳元件(4)的总深度(tges),并且所述凹槽(5或6)的外部轮廓(uA1或uA2)在腹板侧上具有一个沟槽(10),该沟槽具有在腹板侧上的倾斜的表面部分(11),所述倾斜的表面部分位于一个相对于夹持间隙(9)的外部轮廓(us)的接触面(7)的平面(13)倾斜地延伸的平面(12)中,使得太阳能晶片(2)的下边缘(21)与外部轮廓(uA1或uA2)的沟槽(10)的倾斜的表面部分(11)接合时由于重力滑动地移动到一个预定位置中,在该预定的位置中在梳状夹持器(1)相对于在夹持间隙(9)的外部轮廓(us)的接触面(7)上的竖直线旋转一个预定的锐角(φ)时,使太阳能晶片(2)以它的面向接触面的表面(13)平面地贴靠在接触面(7)上,并且在该预定的位置中在太阳能晶片(2)的远离接触面(7)的表面(22)和夹持间隙(9)的外部轮廓(us)的平行于该接触面(7)延伸的导向面(8)之间同时提供一个容隙(14)。

    用于清洁载体处的基质的装置

    公开(公告)号:CN102625744A

    公开(公告)日:2012-08-01

    申请号:CN201080034657.X

    申请日:2010-07-22

    CPC classification number: H01L21/67051 B28D5/0076 B28D5/0082 H01L21/67313

    Abstract: 一种用于清洁载体处的基质的装置具有多个长形的管,载体在其内部中具有多个彼此平行地伸延的纵向通道,其借助于开口向外连接在载体的下侧处,管布置在管支承部处并且与液体供给部以传导液体的方式相连接。设置有定心型板,其搭接管并且可在其纵向上在远离管支承部的管的端部区域中的放置位置与工作位置之间移动,工作位置位于放置位置与管支承部之间。定心型板首先贴靠在载体处,使得那么管精确地相对于纵向通道取向。

    用于形成在一工艺过程晶舟中待定位的背对背的晶片批的方法,及用于形成晶片批的装卸系统

    公开(公告)号:CN101553420A

    公开(公告)日:2009-10-07

    申请号:CN200780042195.4

    申请日:2007-11-22

    Abstract: 本发明涉及一种用于形成在一侧待掺杂的晶片叠、尤其是在一侧待掺杂的太阳能晶片叠的方法,以便用晶片批填装一工艺过程晶舟,在所述工艺过程晶舟上将预定的偶数数量晶片成排地设置在一转送托架的容纳槽中,所述转送托架在一水平面内夹紧并且具有一面向上的堆叠开口。为了增加在工艺过程晶舟中的包装密度并因此增加扩散过程的产量,将成排地设置在转送托架中的晶片的数量的一半以第一晶片叠的形式从转送托架中转送到一位于转送托架外部的固定的准备位置中,然后将成排地设置在转送托架中的晶片的数量的另一半以第二晶片叠的形式从转送托架移出,并且将第二晶片叠这样地旋转,使得第二晶片叠的晶片到达一相对于第一晶片叠的晶片在它的准备位置的位置旋转180°的位置,并且随后将第二晶片叠转送到第一晶片叠的准备位置,使第二晶片叠与第一晶片叠对准,并且然后通过分别使第一晶片和第二晶片叠的相互相配的晶片的无需掺杂的侧面同时且叠合地相互贴紧,使第二晶片叠与第一晶片叠形锁合地组合成包装状的背对背晶片批(BTB晶片批),随后由转送夹持器将BTB晶片批形锁合地拾取,并装到工艺过程晶舟中。

    用于对物品尤其对薄的盘片进行清洗的设备和方法

    公开(公告)号:CN101361166A

    公开(公告)日:2009-02-04

    申请号:CN200780001569.8

    申请日:2007-12-10

    Inventor: N·伯格

    Abstract: 本发明涉及一种用于对薄的晶片(6)进行清洗的设备,其中所述晶片(6)以其一个侧面固定在支座装置(2)上并且分别在两个相邻的基片之间构成中间空隙(7),其中所述设备主要包括用于将流体送入所述中间空隙(7)中的喷淋装置(16)、可以加注流体的池(14)以及用于使所述支座装置(2)旋转的回转装置(15),其中设计所述池(14)的尺寸,使得其接纳所述支座装置(2)。按本发明,可选择要么所述喷淋装置(16)可以相对于固定的支座装置(2)运动,要么所述支座装置(2)可相对于固定的喷淋装置(16)运动,要么不仅所述支座装置(2)而且所述喷淋装置(16)可相对于彼此运动。这种方法的突出之处在于,优选在清洗过程中首先用暖的流体进行喷淋,其中所述支座装置(2)在所述池的内部运动,并且随后用冷的流体进行超声清洗并且再度用暧的流体进行喷淋。

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