放大观察设备
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102315067A

    公开(公告)日:2012-01-11

    申请号:CN201110185088.5

    申请日:2011-07-04

    发明人: 柏原光宏

    IPC分类号: H01J37/26 H01J37/20 H01J37/22

    摘要: 本发明提供一种放大观察设备,其可以平滑地切换电子显微镜图像和光学放大观察图像的观察域。该放大观察设备包括:封闭主体部分的端面的一对端面板;安装在主体部分的圆柱形外表面的第一位置上的电子束成像装置;安装在外表面上不同于第一位置的第二位置上的光学成像装置;旋转装置,沿外表面旋转两个成像装置以使得从两个成像装置的每一个到两个成像装置的公共旋转轴的距离保持恒定,并且两个成像装置的光轴都朝向旋转轴;布置在样本室中的样本台,其被布置到基本与旋转轴的高度相同的位置。

    托架及包括该托架的分析装置

    公开(公告)号:CN1580751B

    公开(公告)日:2010-05-12

    申请号:CN200410042072.9

    申请日:2004-04-30

    发明人: 咸龙男

    摘要: 本发明提供一种托架及包括该托架的分析装置。托架包括样品座、样品接收器和样品升降器。样品座容纳样品并具有导向槽。样品座固定于样品接收器上,且与导向槽互锁的导轨形成于样品座中。样品升降器上下提升样品接收器并接受和卸下样品座。样品升降器包括驱动样品接收器上下移动的驱动部分和包括驱动部分并维持封闭状态下的真空度的真空室。因此,托架屏蔽水分,这样通过分析装置能够实现精确的分析。

    平台的控制方法
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101692417B

    公开(公告)日:2011-09-14

    申请号:CN200910209041.0

    申请日:2009-03-24

    发明人: 东矢高尚

    IPC分类号: H01J37/21 H01J37/317

    摘要: 提供一种电子束描绘装置用的平台的控制方法,该平台的控制方法是在背面保持掩膜的情况下,不增大焦点调整机构的焦点高度的调整范围,而能够校正掩膜的高度偏移的影响。在XY平台(3)上避开已固定了标记台(4)的区域来搭载Z平台(5),在设置在Z平台(5)上的保持机构(6)上载置掩膜(M)。使焦点调整机构的调整范围的中间值与标记台(4)的高度一致。测定标记台(4)的高度,并且测定掩膜(M)的多个测定点的高度,移动Z平台(5),使这些测定点的高度中的最高值与最低值的中间值的高度与标记台(4)的高度一致。

    离子注入方法及设备
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101510505B

    公开(公告)日:2011-10-05

    申请号:CN200910004112.3

    申请日:2009-02-12

    发明人: 日野雅泰

    IPC分类号: H01L21/265 H01J37/317

    摘要: 本发明提供了一种离子注入方法及设备。使用离子束的束电流、到基板的剂量,以及基准扫描速度,计算作为其中小数点后面的数字被截掉的整数值的基板的扫描次数。如果扫描次数小于2,则中断处理。如果扫描次数等于或者大于2,则确定扫描次数是偶数还是奇数。如果扫描次数是偶数,则将当前的扫描次数设置为实际的扫描次数。如果扫描次数是奇数,则获得比奇数扫描次数小1的偶数扫描次数,并将获得的偶数扫描次数设置为实际的扫描次数。通过使用实际的扫描次数、束电流以及剂量计算基板的实际的扫描速度。

    电子束描绘装置和电子束描绘方法

    公开(公告)号:CN101546134A

    公开(公告)日:2009-09-30

    申请号:CN200910129718.X

    申请日:2009-03-24

    发明人: 东矢高尚

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 提供一种电子束描绘装置和电子束描绘方法,该电子束描绘装置在用背面保持掩膜的情况下,不增大焦点调整机构的焦点高度的调整范围,而能够校正掩膜的高度偏移的影响。在XY平台(3)上避开已固定了标记台(4)的区域来搭载Z平台(5),在设置在Z平台(5)上的保持机构(6)的上表面载置掩膜(M)。使焦点调整机构的调整范围的中间值与标记台(4)的高度一致。测定标记台(4)的高度,并且测定掩膜(M)的多个测定点的高度,移动Z平台(5),使这些测定点的高度中的最高值与最低值的中间值的高度与标记台(4)的高度一致。

    离子注入方法及设备
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101510505A

    公开(公告)日:2009-08-19

    申请号:CN200910004112.3

    申请日:2009-02-12

    发明人: 日野雅泰

    IPC分类号: H01L21/265 H01J37/317

    摘要: 本发明提供了一种离子注入方法及设备。使用离子束的束电流、到基板的剂量,以及基准扫描速度,计算作为其中小数点后面的数字被截掉的整数值的基板的扫描次数。如果扫描次数小于2,则中断处理。如果扫描次数等于或者大于2,则确定扫描次数是偶数还是奇数。如果扫描次数是偶数,则将当前的扫描次数设置为实际的扫描次数。如果扫描次数是奇数,则获得比奇数扫描次数小1的偶数扫描次数,并将获得的偶数扫描次数设置为实际的扫描次数。通过使用实际的扫描次数、束电流以及剂量计算基板的实际的扫描速度。