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公开(公告)号:CN102315067A
公开(公告)日:2012-01-11
申请号:CN201110185088.5
申请日:2011-07-04
申请人: 株式会社其恩斯
发明人: 柏原光宏
CPC分类号: H01J37/28 , G02B21/0004 , G02B21/26 , H01J37/023 , H01J37/16 , H01J37/226 , H01J37/228 , H01J2237/20235
摘要: 本发明提供一种放大观察设备,其可以平滑地切换电子显微镜图像和光学放大观察图像的观察域。该放大观察设备包括:封闭主体部分的端面的一对端面板;安装在主体部分的圆柱形外表面的第一位置上的电子束成像装置;安装在外表面上不同于第一位置的第二位置上的光学成像装置;旋转装置,沿外表面旋转两个成像装置以使得从两个成像装置的每一个到两个成像装置的公共旋转轴的距离保持恒定,并且两个成像装置的光轴都朝向旋转轴;布置在样本室中的样本台,其被布置到基本与旋转轴的高度相同的位置。
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公开(公告)号:CN1580751B
公开(公告)日:2010-05-12
申请号:CN200410042072.9
申请日:2004-04-30
申请人: 三星SDI株式会社
发明人: 咸龙男
CPC分类号: H01J37/20 , H01J2237/2002 , H01J2237/20235 , H01J2237/2522
摘要: 本发明提供一种托架及包括该托架的分析装置。托架包括样品座、样品接收器和样品升降器。样品座容纳样品并具有导向槽。样品座固定于样品接收器上,且与导向槽互锁的导轨形成于样品座中。样品升降器上下提升样品接收器并接受和卸下样品座。样品升降器包括驱动样品接收器上下移动的驱动部分和包括驱动部分并维持封闭状态下的真空度的真空室。因此,托架屏蔽水分,这样通过分析装置能够实现精确的分析。
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公开(公告)号:CN104798172B
公开(公告)日:2017-08-25
申请号:CN201380060806.3
申请日:2013-11-26
申请人: 株式会社日立高新技术
IPC分类号: H01J37/20 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/22 , H01J37/244
CPC分类号: H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/20 , H01J37/228 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/2003 , H01J2237/2004 , H01J2237/2006 , H01J2237/2007 , H01J2237/201 , H01J2237/20235 , H01J2237/2445 , H01J2237/24455 , H01J2237/24475 , H01J2237/2608 , H01J2237/2801
摘要: 本发明涉及的带电粒子束装置将从带电粒子束显微镜(601)发出的一次带电粒子束,照射于构成试样台(600)的至少一部分的发光部件(500)上配置的试样(6),通过发光部件(500)检测透射或散射试样(6)内部的带电粒子,从而取得带电粒子显微镜图像,同时将试样(6)配置于试样台(600)的状态下利用光学显微镜(602)取得光学显微镜图像。
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公开(公告)号:CN104756223A
公开(公告)日:2015-07-01
申请号:CN201380055784.1
申请日:2013-10-29
申请人: 株式会社日立高新技术
IPC分类号: H01J37/20 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/244
CPC分类号: H01J37/16 , H01J37/20 , H01J37/28 , H01J2237/164 , H01J2237/182 , H01J2237/188 , H01J2237/2003 , H01J2237/2006 , H01J2237/20221 , H01J2237/20235 , H01J2237/28
摘要: 本发明的试样收纳容器具备:将试样(6)收纳在与外部的环境状态不同的环境状态下的收纳容器(100);带电粒子线能通过或透过的隔膜(10);试样载物台(103),其设于收纳容器(100)的内部,能在将收纳容器(100)的内外环境状态保持为不同的环境状态的状态下,使试样(6)相对于隔膜(10)的相对位置在水平方向及垂直方向上移动;以及操作部(104),其从收纳容器(100)的外部操作试样载物台(103)的移动,以收纳试样(6)的状态设于带电粒子线装置的真空房间内。
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公开(公告)号:CN101692417B
公开(公告)日:2011-09-14
申请号:CN200910209041.0
申请日:2009-03-24
申请人: 纽富来科技股份有限公司
发明人: 东矢高尚
IPC分类号: H01J37/21 , H01J37/317
CPC分类号: H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/78 , H01J37/21 , H01J2237/20235 , H01J2237/216 , H01J2237/30433
摘要: 提供一种电子束描绘装置用的平台的控制方法,该平台的控制方法是在背面保持掩膜的情况下,不增大焦点调整机构的焦点高度的调整范围,而能够校正掩膜的高度偏移的影响。在XY平台(3)上避开已固定了标记台(4)的区域来搭载Z平台(5),在设置在Z平台(5)上的保持机构(6)上载置掩膜(M)。使焦点调整机构的调整范围的中间值与标记台(4)的高度一致。测定标记台(4)的高度,并且测定掩膜(M)的多个测定点的高度,移动Z平台(5),使这些测定点的高度中的最高值与最低值的中间值的高度与标记台(4)的高度一致。
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公开(公告)号:CN101510506A
公开(公告)日:2009-08-19
申请号:CN200910004114.2
申请日:2009-02-12
申请人: 日新离子机器株式会社
发明人: 日野雅泰
IPC分类号: H01L21/265 , H01J37/317
CPC分类号: H01L21/265 , H01J37/20 , H01J37/304 , H01J37/3171 , H01J2237/20207 , H01J2237/20214 , H01J2237/20228 , H01J2237/20235 , H01J2237/31703
摘要: 本发明提供了一种离子注入方法及设备。使用离子束的束电流、到基板的剂量、以及被设置为1的基板的扫描次数的初始值,计算基板的扫描速度。如果扫描速度处于范围之内,则将当前的扫描次数和当前的扫描速度分别设置为实际的扫描次数和实际的扫描速度。如果扫描速度高于范围的上限,则中断计算处理。如果扫描速度低于范围的下限,则以1递增扫描次数以计算校正的扫描次数。通过使用校正的扫描次数等等计算校正的扫描速度。重复以上步骤直到校正的扫描速度处于容许的扫描速度范围之内。
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公开(公告)号:CN104520965A
公开(公告)日:2015-04-15
申请号:CN201380041332.8
申请日:2013-07-03
申请人: 株式会社日立高新技术
CPC分类号: H01J37/20 , H01J37/18 , H01J37/261 , H01J37/28 , H01J2237/16 , H01J2237/20 , H01J2237/2003 , H01J2237/20235 , H01J2237/20292 , H01J2237/2605 , H01J2237/2608
摘要: 现有的带电粒子束装置都是为了大气压下或与大气压大致相等的压力的气体氛围下的观察而专门制造的装置,而不存在使用通常的高真空型带电粒子显微镜能够简便地进行大气压下或与大气压大致相等的压力的气体氛围下的观察的装置。并且,在现有技术的方法中,没有控制隔膜与试样的距离的方法,存在隔膜破损的可能性高的问题。因此,本发明的特征在于具备:可拆卸的隔膜,其将放置了试样的空间隔离,以便保持放置了试样的空间的压力大于所述壳体内部的压力,并使一次带电粒子束透射或通过;接触防止部件,其防止试样与隔膜接触;以及调整机构,其可使接触防止部件的至少一部分在带电粒子光学镜筒的光轴方向上移动。
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公开(公告)号:CN101510505B
公开(公告)日:2011-10-05
申请号:CN200910004112.3
申请日:2009-02-12
申请人: 日新离子机器株式会社
发明人: 日野雅泰
IPC分类号: H01L21/265 , H01J37/317
CPC分类号: H01L21/265 , H01J37/20 , H01J37/304 , H01J37/3171 , H01J2237/20207 , H01J2237/20214 , H01J2237/20228 , H01J2237/20235 , H01J2237/31703
摘要: 本发明提供了一种离子注入方法及设备。使用离子束的束电流、到基板的剂量,以及基准扫描速度,计算作为其中小数点后面的数字被截掉的整数值的基板的扫描次数。如果扫描次数小于2,则中断处理。如果扫描次数等于或者大于2,则确定扫描次数是偶数还是奇数。如果扫描次数是偶数,则将当前的扫描次数设置为实际的扫描次数。如果扫描次数是奇数,则获得比奇数扫描次数小1的偶数扫描次数,并将获得的偶数扫描次数设置为实际的扫描次数。通过使用实际的扫描次数、束电流以及剂量计算基板的实际的扫描速度。
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公开(公告)号:CN101546134A
公开(公告)日:2009-09-30
申请号:CN200910129718.X
申请日:2009-03-24
申请人: 纽富来科技股份有限公司
发明人: 东矢高尚
IPC分类号: G03F7/20
CPC分类号: H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/78 , H01J37/21 , H01J2237/20235 , H01J2237/216 , H01J2237/30433
摘要: 提供一种电子束描绘装置和电子束描绘方法,该电子束描绘装置在用背面保持掩膜的情况下,不增大焦点调整机构的焦点高度的调整范围,而能够校正掩膜的高度偏移的影响。在XY平台(3)上避开已固定了标记台(4)的区域来搭载Z平台(5),在设置在Z平台(5)上的保持机构(6)的上表面载置掩膜(M)。使焦点调整机构的调整范围的中间值与标记台(4)的高度一致。测定标记台(4)的高度,并且测定掩膜(M)的多个测定点的高度,移动Z平台(5),使这些测定点的高度中的最高值与最低值的中间值的高度与标记台(4)的高度一致。
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公开(公告)号:CN101510505A
公开(公告)日:2009-08-19
申请号:CN200910004112.3
申请日:2009-02-12
申请人: 日新离子机器株式会社
发明人: 日野雅泰
IPC分类号: H01L21/265 , H01J37/317
CPC分类号: H01L21/265 , H01J37/20 , H01J37/304 , H01J37/3171 , H01J2237/20207 , H01J2237/20214 , H01J2237/20228 , H01J2237/20235 , H01J2237/31703
摘要: 本发明提供了一种离子注入方法及设备。使用离子束的束电流、到基板的剂量,以及基准扫描速度,计算作为其中小数点后面的数字被截掉的整数值的基板的扫描次数。如果扫描次数小于2,则中断处理。如果扫描次数等于或者大于2,则确定扫描次数是偶数还是奇数。如果扫描次数是偶数,则将当前的扫描次数设置为实际的扫描次数。如果扫描次数是奇数,则获得比奇数扫描次数小1的偶数扫描次数,并将获得的偶数扫描次数设置为实际的扫描次数。通过使用实际的扫描次数、束电流以及剂量计算基板的实际的扫描速度。
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