磁阻效应元件的制造方法

    公开(公告)号:CN101488554A

    公开(公告)日:2009-07-22

    申请号:CN200910007723.3

    申请日:2007-02-16

    IPC分类号: H01L43/12 H01L43/08 H01L43/10

    摘要: 本发明的磁阻效应元件的制造方法包括下列步骤:形成构造体,该构造体包括:包括磁化方向根据外部磁场而变化的磁化自由层、磁化方向固定于一个方向的磁化固定层、以及置于磁化自由层和磁化固定层之间的中间层的磁阻效应薄膜;置于磁阻效应薄膜的磁化固定层上的磁耦合层;置于磁耦合层上的铁磁层;置于铁磁层上的反铁磁层;在与磁阻效应薄膜的薄膜表面平行并与磁化固定层的磁化方向垂直的方向上对磁化自由层施加偏置磁场的偏置机构部;以及用以使电流在从磁化固定层至磁化自由层的方向上通过的一对电极;以及对磁化自由层赋予初始磁化方向,该初始磁化方向相对于磁化固定层的磁化方向的角度大于等于100°且小于160°。