-
公开(公告)号：CN105514765B
公开(公告)日：2019-07-09
申请号：CN201510661352.6
申请日：2015-10-12
申请人： 波音公司
发明人： 韦德·劳伦斯·克伦纳特
IPC分类号： H01S3/02
CPC分类号： H01S3/1305 , G02B26/06 , G02F1/0147 , H01S3/0085 , H01S3/1307 , H01S3/1317 , H01S3/23
摘要： 本发明涉及用于控制激光束的波前的激光系统和方法。提供了用于控制初级激光束的波前的激光系统(10)和相关的方法。激光系统(10)包括用于生产初级激光束的激光介质(12)和初级激光束被引导至的至少一个光学元件(14)。激光系统(10)还包括用于生产次级激光束的次级激光源(16)。激光系统(10)可进一步包括空间光调制器(18)，被配置为接收次级激光束并且空间调制次级激光束来产生具有空间强度模式的空间调制的次级激光束。空间调制的次级激光束可以入射在激光介质(12)或至少一个光学元件(14)中的至少一个上从而选择性地修改空间调制的次级激光束入射在其上的激光介质(12)或至少一个光学元件(14)的部分的温度。
-
公开(公告)号：CN105264429B
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201480031860.X
申请日：2014-05-29
申请人： 浜松光子学株式会社
CPC分类号： G02B27/0068 , G01J9/00 , G02B26/06 , G02F2203/18
摘要： 一种自适应光学系统中，包括：空间光调制器，其对入射到包含排列成二维状的N个区域的调制面的光学像的相位进行空间调制；和从上述空间光调制器接收调制后的上述光学像的波前传感器，其具有与上述N个区域分别对应的N个透镜排列成二维状的透镜阵列和检测包含由该透镜阵列所形成的K个会聚光斑的光强度分布的光检测元件，在该自适应光学系统中，确定上述空间光调制器的上述区域与形成于上述波前传感器的上述会聚光斑的对应关系。
-
公开(公告)号：CN105264428B
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201480031849.3
申请日：2014-05-29
申请人： 浜松光子学株式会社
CPC分类号： G02B27/0068 , G01J9/00 , G01M11/02 , G02B26/06 , G02F1/01 , G02F1/13 , G02F2203/18
摘要： 自适应光学系统包括：对入射到调制面上的光学像的相位进行空间调制的空间光调制器；和从所述空间光调制器接收调制后的所述光学像的波前传感器，其包括由多个透镜二维状排列而成的透镜阵列，和对包含由所述透镜阵列形成的会聚光斑的光强度分布进行检测的光检测元件，所述自适应光学系统基于根据所述光强度分布得到的所述光学像的波前形状，对显示在所述空间光调制器上的相位图案进行控制来补偿波前畸变，在所述自适应光学系统中调整所述调制面与所述波前传感器的对应关系。
-
公开(公告)号：CN108197693A
公开(公告)日：2018-06-22
申请号：CN201710857657.3
申请日：2017-09-21
申请人： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
CPC分类号： G06N3/006 , G01J9/00 , G01J2009/002 , G02B26/06 , G06T5/001
摘要： 本发明属于波前探测和图像恢复领域，针对相位差法在大尺度和高频波前畸变重构时的多维多极值引起的重构精度失准的问题，发明了压缩进化混合粒子群优化算法，该算法解决了局部梯度类算法易陷入局部极值的问题，同时保持了局部梯度算法的高精度特点，增强了相位差法波前探测和图像恢复的适应能力。本发明的算法流程图如图1所示，由随机初值的压缩进化粒子群算法先获得全局极值的粗糙预估，再采用局部梯度的BFGS算法进行高精度的二步逼近。采用的粒子群算法引入了压缩因子，平衡了全局和局部的搜索能力，并引进了整体粒子群的自然选择进化；采用的BFGS算法，是一种成熟稳定的拟牛顿局部搜索算法。通过‘二步法‘策略，本发明可以大大增强相位差法优化求解在大尺度和高频波前畸变的恢复能力，提高相位差法的适应能力。
-
公开(公告)号：CN104781724B
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201380058975.3
申请日：2013-11-07
申请人： 浜松光子学株式会社
CPC分类号： G03H1/0841 , G02B21/06 , G02B26/06 , G02B27/0927 , G02B27/0944 , G03H1/0005 , G03H1/0808 , G03H1/2294 , G03H2001/005 , G03H2001/0094 , G03H2001/085 , G03H2001/221 , G03H2210/20 , G03H2225/32 , G03H2225/52
摘要： 提供能够简单地求得用于高精度地实现所希望的强度分布的相位分布的相位调制方法。以在靶面(TA)上调制光(P2)具有规定的强度分布的方式计算出显示于相位调制面(20a)的相位分布并使该相位分布显示于相位调制面(20a)，使读出光(P1)入射到相位调制面(20a)而生成调制光(P2)。在计算相位分布的时候，以将相位调制面(20a)上的区域分割成N个区域(A1……AN)并且区域(A1……AN)上的强度分布的积分值互相相等的方式设定它们的大小。另外，以将靶面(TA)上的区域分割成N个区域(B1……BN)并且区域(B1……BN)上的强度分布的积分值互相相等的方式设定它们的大小。通过求得从区域(An)到区域(Bn)的光路长度(Ln)并根据光路长度(Ln)决定区域(An)的相位，从而计算出相位分布。
-
公开(公告)号：CN106896498A
公开(公告)日：2017-06-27
申请号：CN201710133919.1
申请日：2017-03-08
申请人： 华南师范大学
CPC分类号： G02B27/0012 , G02B26/02 , G02B26/06 , G02B27/4233
摘要： 本发明公开了一种拉盖尔高斯涡旋光束的产生/三维重建装置及方法，该拉盖尔高斯涡旋光束的产生装置包括：激光器，用于发出高斯光束；第一凸透镜，用于扩束高斯光束；第二凸透镜，用于准直扩束后的高斯光束；计算机，用于产生叉形的衍射光栅，并将该叉形的衍射光栅加载到数字微镜器件上，对数字微镜器件的入射光束进行振幅或/和位相调制；数字微镜器件，用于将准直的部分相干高斯光束进行振幅或/和相位调制来产生不同阶数的拉盖尔高斯涡旋光束。本发明具有很高的损伤阈值，同时有非常快的响应速度，且装置结构简单易懂，稳定性好，制造成本低，在机械加工，生物医学治疗，军事领域，信息传输，微操控等方面应用广泛。
-
公开(公告)号：CN106716220A
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201580051817.4
申请日：2015-06-22
申请人： 西铁城时计株式会社
发明人： 田边绫乃
CPC分类号： H04L27/389 , G02B21/00 , G02B21/0028 , G02B21/0032 , G02B21/0036 , G02B21/0072 , G02B21/0076 , G02B21/0088 , G02B21/082 , G02B26/06 , G02B27/0068 , G02F1/13 , G02F2203/18 , G02F2203/50 , H01J3/14 , H04L27/361
摘要： 本发明的相位调制设备(3)具有：第1相位调制元件(11)，其根据施加至多个第1电极中的各电极的电压来调制光束的相位，所述多个第1电极形成为，将与由包含物镜(4)的光学系统产生的波像差的第2像差成分相对于第1像差成分的第1比所对应的相位分布反极性的相位调制量赋予光束；第2相位调制元件(12)，其根据施加至多个第2电极中的各电极的电压来调制光束的相位，所述多个第2电极形成为，将与第2像差成分相对于第1像差成分的第2比所对应的相位分布反极性的相位调制量赋予光束；以及控制电路(13)，其根据从物镜到光束的聚光位置为止的距离来控制施加至多个第1电极及多个第2电极的电压。
-
公开(公告)号：CN106707501A
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201611182162.7
申请日：2016-12-20
申请人： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
CPC分类号： G02B26/06 , G01B11/2441 , G01M11/00 , G01M11/0271
摘要： 本发明公开了一种移相装置以及标定方法。所述移相装置包括：光程匹配模块和移相模块；所述光程匹配模块包括第一光纤、第一透镜、第二光纤、第二透镜和电机；所述第一光纤、第一透镜、第二光纤和第二透镜依次设置在同一光轴上；所述电机驱动第二光纤和第二透镜沿光轴方向移动；所述移相模块包括光楔对和移相器，所述移相器驱动光楔对中的一块光楔沿垂直于光轴的方向移动。本发明还公开了一种标定方法。所述移相装置以及标定方法能实现高精度移相。
-
公开(公告)号：CN106646856A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201611174460.1
申请日：2016-12-19
申请人： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
CPC分类号： G02B26/06 , G02B26/0858 , G03F7/2004 , G03F7/70033
摘要： 本发明提供了一种用于EUV光刻的变形镜，包括：基底；所述基底上设置的第一电极层；设置在所述第一电极层上的形变层，所述形变层包括PLZT膜；设置在所述形变层上的第二电极层；设置在所述第二电极层上的平滑层；设置在所述平滑层上的EUV多层膜结构。本发明还提供了一种用于EUV光刻的变形镜的制备方法。本发明提供的用于EUV光刻的变形镜结构无电磁噪音干扰，非接触，形变量大，可采用连续变化光场进行控制，易制作。
-
公开(公告)号：CN103159792B
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：CN201210530306.9
申请日：2012-12-10
申请人： 三星电子株式会社
CPC分类号： G03F7/027 , C07C13/28 , C07C15/18 , G02B5/32 , G02B26/00 , G02B26/02 , G02B26/06 , G03F7/001 , G03F7/031 , G03F7/105 , G03H1/0476 , G03H1/12 , G03H1/2294 , G03H2001/0264 , G03H2001/183 , G03H2001/2655 , G03H2225/25 , G03H2260/54
摘要： 光折变复合物及使用其的空间光调制器和全息图像显示器，所述光折变复合物包括表示为以下化学式1A-1C的至少一种碳硼烷化合物，其中所述光折变复合物呈现出光电导性和光学非线性。化学式1A 化学式1B 化学式1C
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
222 条记录 (耗时 0.026 秒)
