用于将铜电沉积在表面上的表面活性的条件性抑制剂

    公开(公告)号:CN101437983A

    公开(公告)日:2009-05-20

    申请号:CN200780016279.0

    申请日:2007-04-02

    发明人: D·米舍莱

    IPC分类号: C25D3/38 C25D3/40

    CPC分类号: C25D3/38 C25D3/40

    摘要: 本发明涉及用于铜电镀的电解液,其包含聚(亚烷基-双胍)盐作为抑制剂。由聚(亚烷基-双胍)盐产生的抑制作用受铜表面上的促进剂的浓度调节。聚(亚烷基-双胍)盐的表面活性作用使得其在阴极和电解液接触期间立即地由电解液/空气界面传递至电解液/铜界面。根据本发明的电解液适于获得平滑且光亮的电镀涂层并适于在用于微电子中的具有亚微米-尺寸凹陷的表面上沉积铜。

    一种用于五金制品的高性能镀铬工艺

    公开(公告)号:CN106757233A

    公开(公告)日:2017-05-31

    申请号:CN201611124766.6

    申请日:2016-12-08

    发明人: 黄奇涵

    摘要: 本发明公开了一种用于五金制品的高性能镀铬工艺,其步骤包括脱脂、蒸汽处理、抛丸处理、除蜡、除油、镀酸铜打底、镀镍打底、镀金光镍、铬酸镀液返刻蚀、镀铬、钝化、吹风和烘烤,在此过程中还进行了多次清洗及酸活化。本发明用于五金制品的高性能镀铬工艺其镀层沉积速度快,镀层微裂纹条数更多,镀层具有更好的耐腐蚀性能,采用本工艺处理的镀铬镀层硬度均远高于传统标准镀铬镀层硬度,在结合力合格的情况下,具有更好的耐磨性和耐腐蚀性,可显著延长工件的使用寿命。