-
公开(公告)号：CN101802264A
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN200880106054.9
申请日：2008-09-05
申请人： 荷兰应用自然科学研究组织TNO
CPC分类号： C23C18/1678 , C23C18/1639 , C23C18/1641 , C23C18/31 , C23C18/34 , C23C18/36 , C23C18/40 , C23C18/405 , C23C18/44 , Y10T428/31678
摘要： 本发明提供一种用于在基本无催化剂的基材上无电沉积金属的方法，该方法包括：(a)提供基本无催化剂的基材；以及(b)将所述基本无催化剂的基材暴露于无电镀液中以便在基材上沉积金属，该溶液包含金属离子及用于将金属离子还原成金属的还原剂，其中至少基材表面的温度(T1)或者是被加热到的温度(T1)高于溶液的温度(T2)。
-
公开(公告)号：CN100594262C
公开(公告)日：2010-03-17
申请号：CN200480026282.7
申请日：2004-06-25
申请人： 惠普开发有限公司
CPC分类号： C23C18/1601 , C23C18/1603 , C23C18/1608 , C23C18/161 , C23C18/1658 , C23C18/1678 , C23C18/1879 , C23C18/28 , C23C18/30 , C23C18/31 , C23C18/405 , C23C18/44 , H05K3/182 , H05K2203/013 , H05K2203/1157
摘要： 提供了在衬底上沉积金属图案的方法和系统。因此，可在衬底上形成无电镀活性层。然后可使用喷墨技术独立地喷墨无电镀沉积组合物的至少两种组分到各种衬底上。金属组合物可被喷墨到无电镀活性层上。金属组合物可包含金属盐和任选的添加剂。可在喷墨金属组合物前或后喷墨还原剂组合物以在衬底上形成无电镀组合物。金属盐和还原剂反应形成可在电子器件或其它产品形成中使用的金属图案。所述可喷墨组合物在宽的条件范围内稳定，并允许在喷墨配方和衬底选择上的广泛自由。
-
公开(公告)号：CN101646496A
公开(公告)日：2010-02-10
申请号：CN200880010411.1
申请日：2008-03-25
申请人： 康宁股份有限公司
CPC分类号： B05D7/22 , B01D63/061 , B01D63/066 , B01D67/0046 , B01D67/0069 , B01D2323/42 , B05C7/04 , B05D1/00 , B05D3/0493 , C04B38/0096 , C23C18/1216 , C23C18/1628 , C23C18/1644 , C23C18/1678 , C23C18/42 , C04B35/00 , C04B38/0006
摘要： 一种用于向具有多个贯穿孔道的基材例如蜂窝结构施涂均匀膜涂层的方法和装置，其中，贯穿孔道的平均直径小于或等于3毫米。该方法包括向基材提供包含成膜材料的液体前体，并且施加跨基材的压差。该压差使得液体前体均匀地行进通过贯穿孔道，在贯穿孔道的壁上沉积成膜材料，并且在贯穿孔道的壁上形成膜。该装置包括能够固定基材并且能够保持跨多个贯穿孔道的压差的室。
-
公开(公告)号：CN1875469A
公开(公告)日：2006-12-06
申请号：CN200480031670.4
申请日：2004-08-26
申请人： 纳米墨水公司
发明人： 小珀西·范登·克罗克 , 利内特·德默斯 , 纳比尔·A.·阿姆鲁 , 罗伯特·埃勒加尼安
CPC分类号： C23C18/06 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C23C18/08 , C23C18/161 , C23C18/1612 , C23C18/1658 , C23C18/1666 , C23C18/1667 , C23C18/1678 , G03F7/0002 , H01L21/288 , H01L21/76838 , H05K3/105 , H05K3/1241 , Y10S438/929
摘要： 本发明涉及一种使用针尖形成金属纳结构的纳米蚀刻沉积方法，其用于微电子学、催化和诊断学。AFM针尖可涂布有金属前体，该前体在衬底上构图。构图的前体可通过加热转化为金属态。可得到高分辨率和极好的对准性。
-
公开(公告)号：CN1633520A
公开(公告)日：2005-06-29
申请号：CN02815036.8
申请日：2002-08-12
申请人： 株式会社荏原制作所
CPC分类号： C23C18/1669 , C23C18/1619 , C23C18/1678 , H01L21/288 , H01L21/76843 , H01L21/76849 , H01L21/76864 , H01L21/76874
摘要： 本发明提供了一种镀膜装置，其能够容易地在材料的将要被镀膜的表面上形成均匀的镀膜。该镀膜装置包括：保持器，其用于保持材料，使材料的将要被镀膜的表面朝上，而且所述将要被镀膜的表面的周部被密封住；热流体容纳部分，其用于容纳热流体，所述热流体能够接触由保持器保持着的材料的背侧表面，以加热所述材料；以及镀液供应部分，其用于向由保持部分保持着的材料的将要被镀膜的表面供应镀液。
-
公开(公告)号：CN106637154A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201611008985.8
申请日：2016-11-14
申请人： 中国石油天然气集团公司 , 中国石油天然气集团公司管材研究所
IPC分类号： C23C18/36
CPC分类号： C23C18/1675 , C23C18/1632 , C23C18/1646 , C23C18/1678 , C23C18/36
摘要： 本发明提供了一种利用机械研磨技术在小尺寸金属管内壁制备纳米Ni‑P镀层的装置和方法，该装置由金属管、加热带、控温器、支撑架、镀液罐、封头、传送带、电机、氧化铝球等部件组成，将镀镍液和氧化铝球加入金属管内，并用封头封堵住金属管的两端，再通过电机带动金属管转动使得氧化铝球与管壁碰撞产生机械研磨作用，从而将机械研磨技术与化学镀结合起来用于在小尺寸金属管内壁制备性能优良的纳米Ni‑P镀层。本发明能够有效克服金属管内壁与化学镀液不能有效接触和无法有效实施机械研磨作用的问题，进而可在小尺寸金属管内壁制备出结构致密、表面光滑、粘附性好、耐蚀性好的纳米Ni‑P镀层，提高金属管在油气田腐蚀环境中的服役性能。
-
公开(公告)号：CN101801627A
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN200880105890.5
申请日：2008-09-05
申请人： 荷兰应用自然科学研究组织TNO
发明人： 罗兰·安东尼·塔肯 , 瑞纳图斯·马瑞乌斯·德兹瓦特 , 阿元·霍维斯塔德
IPC分类号： B29C33/00
CPC分类号： B29C37/0032 , B29C2037/0035 , C23C18/1619 , C23C18/1676 , C23C18/1678 , C23C18/1879 , C23C18/1893 , C23C18/2086 , C23C18/22 , C23C18/30 , C23C18/31 , C23C18/405 , Y10T428/29
摘要： 本发明提供一种用于制备其上或其内涂敷有金属层或合金层的模制品的方法，该方法使用模具，该方法包括模制步骤和金属化步骤，其中所述模制步骤和金属化步骤均在所述模具中执行，并且其中所述金属化步骤包括无电镀过程。本发明还涉及包括由所述方法获得的模制品的装置。
-
公开(公告)号：CN101796217A
公开(公告)日：2010-08-04
申请号：CN200880105171.3
申请日：2008-11-14
申请人： 欧姆龙株式会社
CPC分类号： H05K3/387 , C23C18/06 , C23C18/08 , C23C18/14 , C23C18/1667 , C23C18/1678 , C23C18/1893 , C23C18/2086 , C23C18/31 , G02B5/0808 , G02B27/1073 , G02B27/144 , H05K3/181 , H05K2203/1157 , H05K2203/121 , Y10T428/31678 , Y10T428/31681 , Y10T428/31692
摘要： 本发明所涉及的金属膜的制造方法，包括以下步骤：使用含有具有3个以上反应基团的加成聚合性化合物、具有酸性基团的加成聚合性化合物、具有碱性基团的加成聚合性化合物、和具有亲水性官能团的加成聚合性化合物的底层组合物形成有机膜的有机膜形成步骤；将所述酸性基团转化为金属(M1)盐的金属盐生成步骤；通过使用金属(M2)离子水溶液进行处理，将所述酸性基团的金属(M1)盐转化为金属(M2)盐的金属固定步骤，所述金属(M2)离子水溶液含有离子化倾向比所述金属(M1)离子低的金属(M2)离子；将所述金属(M2)离子还原，在所述有机膜表面形成金属膜的还原步骤。由此，提供了能够在任意的基材上低成本地形成金属膜以及金属图案的金属膜的制造方法、底层组合物、由该方法制造的金属膜以及其应用。
-
公开(公告)号：CN100583401C
公开(公告)日：2010-01-20
申请号：CN200480031670.4
申请日：2004-08-26
申请人： 纳米墨水公司
发明人： 小珀西·范登·克罗克 , 利内特·德默斯 , 纳比尔·A.·阿姆鲁 , 罗伯特·埃勒加尼安
CPC分类号： C23C18/06 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C23C18/08 , C23C18/161 , C23C18/1612 , C23C18/1658 , C23C18/1666 , C23C18/1667 , C23C18/1678 , G03F7/0002 , H01L21/288 , H01L21/76838 , H05K3/105 , H05K3/1241 , Y10S438/929
摘要： 本发明涉及一种使用针尖形成金属纳结构的纳米蚀刻沉积方法，其用于微电子学、催化和诊断学。AFM针尖可涂布有金属前体，该前体在衬底上构图。构图的前体可通过加热转化为金属态。可得到高分辨率和极好的对准性。
-
公开(公告)号：CN1681965A
公开(公告)日：2005-10-12
申请号：CN03822311.2
申请日：2003-05-23
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： C23C18/31 , H01L21/288
CPC分类号： C23C18/1619 , C23C18/1669 , C23C18/1678
摘要： 通过使保持于基板保持部上的基板和板的间隔接近，从处理液喷出部喷出处理液，可以对基板进行无电解镀。由于处理液流过基板和板之间的间隙，所以在基板上产生处理液流，可以向基板上供给新鲜的处理液。其结果，即使在处理液为少量的情况下，也能在基板上形成均匀性良好的镀膜。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
35 条记录 (耗时 0.014 秒)
