公开(公告)号：CN107416761A

公开(公告)日：2017-12-01

申请号：CN201610343965.X

申请日：2016-05-23

Applicant: 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 ,  中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

Inventor： 李凤莲 ,  倪景华

IPC: B81C1/00 ,  B81B1/00

CPC classification number: B81C1/00619 ,  B81B1/004 ,  B81C1/00396

Abstract: 本发明涉及一种半导体器件及其制造方法和电子装置。所述方法包括：提供晶圆，所述晶圆具有第一表面和与之相对的第二表面，在所述第一表面上形成有前端器件，在所述第二表面上形成具有若干第一开口的第一掩膜层，其中所述晶圆的第二表面从所述晶圆的中心由内向外至少划分为第一区域和第二区域；在所述第一掩膜层上以及所述第二表面上形成第二掩膜层；图案化所述第二掩膜层，以露出所述第二区域中的所述第一开口；以露出的所述第一开口为掩膜蚀刻所述晶圆，以在第二区域中形成若干凹槽；去除剩余的所述第二掩膜层；以所述第一区域中的所述第一开口为掩膜原位蚀刻所述晶圆，以在所述第一区域和所述第二区域中形成深度一致的图案。

公开(公告)号：CN106458574A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201480075314.6

申请日：2014-12-22

Applicant: 罗伯特·博世有限公司

Inventor： J·贡斯卡 ,  J·赖因穆特 ,  M·阿梅托沃布拉

IPC: B81C1/00

CPC classification number: B81C1/00119 ,  B81B1/004 ,  B81B7/02 ,  B81B2203/0315 ,  B81C1/00293 ,  B81C2201/112 ,  B81C2201/115 ,  B81C2203/0109 ,  B81C2203/0145 ,  B81C2203/019

Abstract: 一种用于制造微机械结构元件(100)的方法，该方法具有以下步骤：-在结构元件(100)的MEMS元件(5)中或盖元件(6)中构造进入开口MEMS元件(5)和盖元件(6)之间构造至少一个空腔(8a、8b)；-以及，借助于激光(9)在一个限定的气氛下封闭通到所述至少一个空腔(8a、8b)中的进入开口(7)。(7)；-连接MEMS元件(5)与盖元件(6)，其中，在

公开(公告)号：CN106966355A

公开(公告)日：2017-07-21

申请号：CN201610919302.8

申请日：2016-10-21

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 陈东村 ,  朱家骅

IPC: B81B3/00 ,  B81B7/00 ,  B81C1/00 ,  G01L9/12

CPC classification number: B81B1/004 ,  B81B2201/025 ,  B81B2201/0264 ,  B81C1/00087 ,  B81C1/00309 ,  B81C2201/019 ,  G01L9/00 ,  B81B3/0032 ,  B81B7/0009 ,  B81C1/0015 ,  G01L9/12

Abstract: 微电子机械系统(MEMS)压力传感器包括第一衬底、第二衬底和感测结构。第二衬底基本平行于第一衬底。感测结构位于第一衬底和第二衬底之间，并且接合至第一衬底的部分和第二衬底的部分，其中，第一衬底和第二衬底之间的第一间隔与外侧连通，并且第二衬底和感测结构之间的第二间隔与外侧连通或隔离。本发明的实施例还涉及微电子机械系统压力传感器的制造方法。

公开(公告)号：CN106517083A

公开(公告)日：2017-03-22

申请号：CN201610998732.3

申请日：2016-11-11

Applicant: 中国建筑材料科学研究总院

Inventor： 黄康胜 ,  冯跃冲 ,  宋普光 ,  张敬 ,  于浩洋 ,  樊志恒

IPC: B81C1/00 ,  B81C3/00 ,  B81B1/00

CPC classification number: B81C3/008 ,  B81B1/004 ,  B81C1/00214

Abstract: 本发明是关于一种微通道阵列及其制备方法，制备方法包括：一次拉丝、一次排棒、二次拉丝、二次排棒、三次拉丝、成型，根据三次拉丝的缩小倍数Z1计算微通道阵列中微通道的孔直径；根据第三次拉丝的缩小倍数Z2，计算第三复丝棒中第一复丝和第二复丝的排列顺序，所述的计算的方法为，第三次拉丝的缩小倍数为Z2，则所述的微通道阵列坯体中每个正六边形的对边距Y3等于Y2/Z2，所述的孔间距d1为Y3的X倍，则所述的第三复丝棒中的相邻两个第一复丝由X-1个第二复丝隔开，所述的X为正整数，所述的X-1为X的整数部分减1得到的自然数。本发明提出的制备方法，制备微孔直径与孔间距可控制的微通道阵列，更加适于工业化生产。

公开(公告)号：CN105866398A

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：CN201610243172.0

申请日：2016-04-19

Applicant: 东南大学

Inventor： 沙菁* ,  石鸿佼 ,  陈云飞 ,  袁志山

IPC: G01N33/487 ,  B81B1/00

CPC classification number: G01N33/48721 ,  B81B1/004

Abstract: 本发明提供一种纳米笼结构的纳米通道，包括呈三明治结构的顶部SiN薄膜层、中间SiO2夹层和底部SiN薄膜层；所述顶部SiN薄膜层上加工有一个孔面积略大于待测抗原的最大截面小于待测抗体的最小截面的小纳米孔，所述底部SiN薄膜层上与小纳米孔轴向对齐处加工有一个孔径大于小纳米孔的大纳米孔，所述小纳米孔和大纳米孔之间的SiO2被腐蚀成中空纳米笼结构。将纳米笼结构纳米通道的两端连接两个充满离子溶液的液池单元，将抗原和抗体添加同一液池中，即靠近小纳米孔一侧。当在正反向电压下都测得离子电流变化时，说明抗原和抗体没有特异性结合。如果只在正向电压下测得离子电流变化，说明抗原抗体发生特异性结合，由此可以实现对抗原或抗体分子的辨识检测。

公开(公告)号：CN104843635B

公开(公告)日：2018-11-23

申请号：CN201510086498.2

申请日：2015-02-17

Applicant: 罗伯特·博世有限公司

Inventor： D·哈贝雷尔

IPC: B81C1/00 ,  B81B3/00

CPC classification number: B81B1/004 ,  B81B7/02 ,  B81B2201/04 ,  B81B2201/047 ,  B81B2203/0353 ,  B81C1/00087 ,  B81C1/00103 ,  B81C2201/0194 ,  B81C2203/0172

Abstract: 本发明涉及一种用于制造微机械部件的方法以及一种微机械部件。方法包括以下步骤：提供具有第一外表面和第二外表面的衬底，第二外表面背离第一外表面；构造穿过衬底从衬底的第一外表面直到衬底的第二外表面的通孔；在衬底的第二外表面上安装光学功能层，其中，光学功能层遮盖通孔；在衬底的第一外表面处如此移除衬底的第一区段，使得形成相对于衬底的第二外表面倾斜的第三外表面，第三外表面背离衬底的第二外表面，其中，倾斜的第三外表面包围通孔；通过分离衬底的具有通孔的第一部分和光学功能层的安装在第一部分处的第二部分与衬底的剩余部和光学功能层的剩余部来分离微机械部件。

公开(公告)号：CN105858591A

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：CN201610188420.6

申请日：2016-03-29

Applicant: 中国科学院高能物理研究所

Inventor： 张天冲 ,  伊福廷 ,  王波 ,  刘静 ,  张新帅 ,  孙钢杰 ,  王雨婷

IPC: B81C1/00 ,  B81B1/00

CPC classification number: B81C1/00087 ,  B81B1/004

Abstract: 本发明提供了一种金属微结构及其制作方法，其中方法首先在一平整的基片的表面涂覆一层光刻胶，并对光刻胶进行曝光、显影，以在基片的表面形成光刻胶图形，然后令基片发生形变，以使得所述光刻胶图形随所述基片一同发生形变，接着在基片表面上的非光刻胶图形处，进行金属镀膜，最后去除光刻胶和基片，得到金属微结构。本发明实现了具有不同轴线方向通孔的金属微结构，其在光学成像领域有重要应用价值。

公开(公告)号：CN103562729A

公开(公告)日：2014-02-05

申请号：CN201280021808.7

申请日：2012-05-01

Applicant: 先进流体逻辑公司

Inventor： 多诺万·博尔特 ,  卡丽·格雷厄姆 ,  瓦姆西·帕姆拉 ,  迈克尔·波来克 ,  拉玛克里什那·西斯塔 ,  维吉·斯里尼瓦桑

IPC: G01N35/08 ,  C12Q1/68 ,  G01N21/00 ,  B01F3/08

CPC classification number: G01N27/44791 ,  B01F1/0027 ,  B01F13/0071 ,  B01F13/0076 ,  B01F2001/0055 ,  B01F2215/0037 ,  B01L3/502761 ,  B01L3/502792 ,  B01L2200/0605 ,  B01L2200/0668 ,  B01L2200/10 ,  B01L2200/16 ,  B01L2300/0816 ,  B01L2300/0867 ,  B01L2300/089 ,  B01L2400/0406 ,  B01L2400/0418 ,  B01L2400/0427 ,  B01L2400/043 ,  B01L2400/0487 ,  B81B1/004

Abstract: 一种混合微滴的方法，所述方法包括：在表面上提供微滴，使所述微滴形成具有底部区域和两个端部的第一“U”形状，且同时合并所述端部并使所述微滴在所述底部区域处分离，以形成与所述第一“U”形状实质上相反的第二“U”形状。

公开(公告)号：CN108238583A

公开(公告)日：2018-07-03

申请号：CN201611214759.5

申请日：2016-12-26

Applicant: 中国石油天然气股份有限公司

Inventor： 郝鹏飞 ,  何枫 ,  高叶

IPC: B81C1/00 ,  B82B1/00 ,  B81B1/00

CPC classification number: B81C1/00 ,  B81B1/004 ,  B81C1/00015 ,  B81C1/00055 ,  B82B1/00

Abstract: 本发明提供了一种阶梯型微纳米尺度槽道模型及其制备方法，该阶梯型微纳米尺度槽道模型包括基底(9)，基底(9)的上表面内含有依次连通的微槽道发展段(3)、纳米槽道(4)和微槽道测量段(5)，基底(9)还设有通孔状的入口(1)和出口(7)，纳米槽道(4)的底面到基底(9)的上表面的距离小于微槽道发展段(3)的底面到基底(9)的上表面的距离，纳米槽道(4)的底面到基底(9)的上表面的距离小于微槽道测量段(5)的底面到基底(9)的上表面的距离。该阶梯型微纳米尺度槽道模型结构简单，通过两次刻蚀的刻蚀方法可以实现纳米级槽道的制备，同时可以通过微槽道测量段内的流动可视化测量得到纳米槽道内部的流动速度。

公开(公告)号：CN107285269A

公开(公告)日：2017-10-24

申请号：CN201710488194.8

申请日：2017-06-23

Applicant: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所

Inventor： 黄河

IPC: B81B1/00 ,  B81C1/00

CPC classification number: B81B1/004 ,  B81C1/00214

Abstract: 本发明公开了一种微机电系统器件，包括衬底和功能薄膜层，所述衬底包括第一表面、第二表面和背通孔，所述第一表面和所述第二表面相对，所述功能薄膜层设置在所述第一表面上，所述背通孔贯穿所述第一表面和所述第二表面，所述功能薄膜层具有多个第一通孔，所述第一通孔与所述背通孔连通。本发明还公开了一种微机电系统器件的制备方法。本发明中的微机电系统器件成本低，可用于制作流体传感器和生物分子筛等器件，其衬底采用普通硅片即可，制备工艺步骤少，便于优化器件性能，达到较高的良率，均采用干法工艺进行刻蚀，具有较好的兼容性。