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公开(公告)号：CN105190227B
公开(公告)日：2018-02-09
申请号：CN201480015329.3
申请日：2014-03-17
申请人： SNU精度株式会社
摘要： 本发明涉及一种能够检测颜色信息的三维形状检测装置，该装置利用干涉光对检测对象的形状进行检测，其特征在于，包括：光源，用于发射光线；光线分割器，用于对从所述光源发射的光线进行反射或对通过检测对象反射的光线进行透射；透镜部，用于使通过所述光线分割器反射的光线聚集到所述检测对象；光线检测部，用于检测从所述检测对象反射的光线；及光线调节部，配置在所述光源和所述光线分割器之间的光路上，用于阻断从所述光源的中心区域发射的光线，从而减弱在所述透镜部中产生的光线的干涉。
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公开(公告)号：CN105772305A
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：CN201510944230.8
申请日：2015-12-16
申请人： SNU精度株式会社
IPC分类号： B05B15/04
CPC分类号： B05B14/00
摘要： 本发明涉及一种薄膜沉积装置，本发明的薄膜沉积装置的特征在于，包括：腔室，其形成有内部空间，在形成上表面的遮断膜的一区域中形成有供沉积对象基板配设的开口部；原料供应部，其在所述腔室的内部空间内移动的同时向所述遮断膜提供沉积原料；及原料收集部，其在所述开口部的至少一侧设置在所述原料供应部和所述遮断膜之间，用于收集向遮断膜喷射的沉积原料。由此，能够防止沉积物质不必要地供应到腔室内部空间的同时，能够再利用通过原料收集部收集到的沉积物质。
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公开(公告)号：CN105552013A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201510659366.4
申请日：2015-10-12
申请人： SNU精度株式会社
CPC分类号： H01L21/682 , H01L51/001 , H01L51/0011
摘要： 本发明涉及基板旋转对准装置，本发明的基板旋转对准装置为在沉积工艺中在掩模上对准基板的装置，包括：连接柱，与用于安装所述基板的安装部连接；旋转载物台，设置为圆形，用于固定所述连接柱，在外周面上交替形成有向内侧凹陷的凹陷部和向外侧凸出的凸出部；动力传递部，包括彼此按规定间隔隔开配置的多个滚轮销，其中至少一个所述滚轮销在对所述旋转载物台的区域的凹陷部加压紧贴的状态下进行旋转，以向所述旋转载物台传递动力；及固定部，在彼此按规定间隔隔开配置的多个固定销中至少一个固定销紧贴于所述旋转载物台的另一区域的凹陷部，从而使固定部具有与所述动力传递部向所述旋转载物台的加压力相反方向的力的矢量。
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公开(公告)号：CN102428344B
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：CN201080022149.X
申请日：2010-04-12
申请人： SNU精度株式会社
CPC分类号： G01B11/24
摘要： 本发明涉及一种三维形貌检测方法。该方法用于检测被检测体，所述被检测体具备基板和配置在所述基板上的焊锡球，其特征是包括：中心部确定步骤，获得焊锡球的图像后确定焊锡球的中心部；图像获得步骤，在被检测体上形成正弦波图纹，并获得同时包括基板上面和焊锡球的整合图像；相位值确定步骤，在整合图像中选定通过焊锡球中心部的虚拟直线—基准线，并在所述基准线的焊锡球的中心部获取投影了正弦波图纹部分的相位值后，将其定为焊锡球中心部的相位值，在位于基准线的基板上获取投影了正弦波图纹部分的相位值后，将其定为基板的相位值；及高度计算步骤，由焊锡球中心部的相位值和基板的相位值之间的差，计算从基板上面到焊锡球中心部的高度。
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公开(公告)号：CN103574083A
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：CN201210356945.8
申请日：2012-09-21
申请人： SNU精度株式会社
摘要： 本发明涉及一种利用倾斜驱动的闸门阀，本发明的利用倾斜驱动的闸门阀，用于开闭设置于腔室的开口部，其特征在于，包括：闸门，沿着与上述开口部的表面平行的第一轴或与上述开口部的表面垂直的第二轴中的任一轴移动，以与上述腔室的外壁接触或解除接触来开闭上述开口部；驱动部，供给上述第一轴方向的移动力；楔部，安装在上述闸门，外表面形成有斜面；及方向转换部，与上述驱动部连接，为了将从上述驱动部提供的第一轴方向的移动力转换成第二轴方向的移动力并供给到上述闸门，上述方向转换部的外表面形成有斜面，使得能够从上述楔部滑移。根据本发明，提供一种可通过"L"字型驱动实现坚固密封的利用倾斜驱动的闸门阀。
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公开(公告)号：CN103460368A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201280018215.5
申请日：2012-04-13
申请人： SNU精度株式会社
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01B11/24 , G01B2210/56 , H01L22/12 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： 本发明涉及一种TSV检测用干涉仪以及利用该干涉仪的检测方法，本发明的TSV检测用干涉仪在检测TSV时，利用可变视场光阑检测TSV的直径及深度，从而能够缩短检测时间，并且减少结果数据容量，其中可变视场光阑将光线的焦点调节到TSV的入口和底面。而且，本发明利用远心透镜，从而即使在如TSV那样纵横比大的情况下也能确保到达底面的光量，从而提高检测精度，其中远心透镜使向TSV入射的光线实质上成为直线光。
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公开(公告)号：CN1965612B
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：CN200580016225.5
申请日：2005-01-29
申请人： SNU精度株式会社
IPC分类号： H01L51/40
摘要： 本发明涉及用于沉积有机材料的装置和方法，更具体地，涉及这样一种用于沉积有机材料的装置和方法：其设计成在沉积有机材料的过程中阻止传输到装置的腔内的大尺寸基板的下垂。该装置包括：腔，其具有与外部隔离的内部空间，入口设置在所述腔的一侧以允许基板输入腔内或从腔内传输出，且门用于打开或关闭所述入口；基板安装台板，其设置在所述腔的上部，通过用压力来固定住传输到所述腔内的基板的两端、并且使两端处于固定状态的基板一侧朝外移动而向基板施加拉伸力以阻止基板下垂；旋转提升器，其耦连到所述基板安装台板上表面的中心处，用于旋转、提升或降低所述基板安装台板；以及加热器和有机材料蒸发皿，其设置在所述腔的下部，用于将有机材料蒸发到所述基板上。
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公开(公告)号：CN101331801B
公开(公告)日：2010-10-20
申请号：CN200680047301.3
申请日：2006-12-15
申请人： 斗山MECATEC株式会社
IPC分类号： H01L51/48
CPC分类号： Y02E10/549
摘要： 本发明公开了一种用于沉积有机薄膜的坩埚组件。该坩埚组件包括：本体，用以容纳用于薄膜的沉积的有机材料；盖，其固定到所述本体的上部并具有用于以气相散射所述有机材料的喷嘴；并且所述喷嘴从盖的顶部向下延伸。因此，它防止了熔融的有机材料从本体和盖的接合部溢出而由此污染包括加热器的加热装置和坩埚组件的壁。可以容易地安装或分离折流板。通过控制有机材料蒸汽的散射角度和图案，可以减少浪费的有机材料的量。它防止了有机材料的沉积被局部地集中，例如被集中到基材的中心部分。
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公开(公告)号：CN101352100B
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN200680050145.6
申请日：2006-12-27
申请人： 斗山MECATEC株式会社
IPC分类号： H05B33/04
CPC分类号： H01L51/524 , H01L51/56
摘要： 本发明涉及用于封装有机发光二极管的方法和装置。根据本发明的用于利用盖封装玻璃基片的封装方法包括步骤：(a)运送在其上形成有有机发光层的玻璃基片以及具有施加到其上的由紫外线固化树脂制成的粘合剂的盖，并且分别将玻璃基片和盖固定到上和下载物台；(b)通过上和下载物台之间的相对运动，使玻璃基片和盖紧密接触，并且初次朝向彼此压靠；以及(c)通过在玻璃基片和盖彼此紧密接触的状态下由于室中的压力增加产生的压力差，再次朝向彼此压靠玻璃基片和盖。具体地，当处理室处于真空状态时执行所述步骤(b)，以及将处理室从真空状态变成大气压或正压状态来执行所述步骤(c)。
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公开(公告)号：CN104603968B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201280074524.4
申请日：2012-08-28
申请人： SNU精度株式会社
CPC分类号： H05B33/04 , H01L51/5253 , H01L51/56
摘要： 本发明涉及一种有机发光二极管封装工艺用沉积装置，本发明的有机发光二极管封装工艺用沉积装置，对配置在腔室部内的有机发光二极管基板沉积原料而进行封装(encapsulating)，其特征在于，包括：多个流动部，配置在所述腔室部内，内部形成有供原料流动的流动通道，所述多个流动部的端面彼此相接；喷嘴部，一体安装于所述多个流动部，在所述喷嘴部的内部形成有与所述流动部连接的喷射通道，用于将从所述流动部供给的原料喷射到基板侧；以及原料供给部，向所述多个流动部分别供给气化的原料。由此，提供一种能够在无间断区段的情况下，以均匀的厚度对大面积基板沉积原料的有机发光二极管封装工艺用沉积装置。
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