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公开(公告)号：CN101937172A
公开(公告)日：2011-01-05
申请号：CN201010214856.0
申请日：2010-06-28
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/075 , G03F7/00 , G02F1/1333 , H01L21/768 , H01L23/532 , C08G77/04
CPC classification number: G03F7/0233 , C08G77/12 , C08G77/18 , C08G77/20 , G02F1/136286 , G03F7/0757 , G03F7/40
Abstract: 本发明涉及一种正型放射线敏感性组合物、固化膜、层间绝缘膜及其形成方法、显示元件以及硅氧烷聚合物。本发明提供一种与醌二叠氮基化合物的相容性高，在ITO膜蚀刻步骤中能形成耐抗蚀剂剥离液性优良的层间绝缘膜的聚硅氧烷类正型放射线敏感性组合物。该组合物含有[A]硅氧烷聚合物和[B]醌二叠氮基化合物，上述[A]硅氧烷聚合物中的芳基相对于Si原子的含量为超过60摩尔％并在95摩尔％以下。[A]硅氧烷聚合物是至少含有下述式(1)所示的化合物的水解性硅烷化合物的水解缩合物。
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公开(公告)号：CN101907828A
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN201010198420.7
申请日：2010-06-07
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/075 , G02F1/1362 , G03F7/00
Abstract: 本发明涉及放射线敏感性组合物、保护膜、层间绝缘膜以及它们的形成方法。所述放射线敏感性组合物可以形成透明性、耐热性等优异，同时对ITO基板密合性以及耐裂性高的保护膜和层间绝缘膜，而且具有足够分辨率。本发明的放射线敏感性组合物包括：[A]硅氧烷聚合物，[B]选自由式(1)和(3)分别表示的化合物构成的群组中的至少一种硅烷化合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂或放射线敏感性碱产生剂。[A]硅氧烷聚合物优选为式(4)的水解性硅烷化合物的水解缩合物。还可以进一步含有[D]脱水剂。作为[C]放射线敏感性酸产生剂优选使用选自由三苯基锍盐和四氢噻吩鎓盐构成的群组中的至少一种。(R1O)3Si-R2-Si(OR3)3 (1)(R7)q-Si-(OR8)4-q (4)
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公开(公告)号：CN1692142A
公开(公告)日：2005-11-02
申请号：CN200380100479.6
申请日：2003-10-20
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: C09D183/08 , C08L83/08 , G02B6/138 , G02B2006/121 , G03F7/001 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0757 , C08L2666/24 , C08L2666/34 , C08L2666/28
Abstract: 本发明涉及辐射线固化型组合物，其含有(A)水解性硅烷化合物的水解物或其缩合物、以及(B)光致产酸剂，且该组合物中硅烷醇(Si－OH)基的含量相对于全部硅上连接的基团为0.1～0.5；所述水解性硅烷化合物用通式(1)：(R1)p(R2)qSi(X)4－p－q表示，式中，R1是含有氟原子的碳原子数为1～12的非水解性有机基团，R2是碳原子数为1～12的非水解性有机基团(不包括含有氟原子的基团)，X是水解性基团，p是1或2的整数，q是0或1的整数。对于具有在可见光区域至近红外区域的广泛范围波长的光线，该组合物的波导损耗少，且耐裂性和照射辐射线而引起的图案化性等优良。
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公开(公告)号：CN102549496B
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：CN201080046633.6
申请日：2010-10-14
CPC classification number: G03F7/0233 , G03F7/0226 , G03F7/40
Abstract: 本发明涉及含有[A]碱可溶性树脂、[B]1,2-醌二叠氮化合物以及[C]自由基捕获剂的放射线敏感性树脂组合物。上述放射线敏感性树脂组合物可充分满足透光率高等的作为层间绝缘膜通常所要求的各性能，且可以以高分辨率提供层间绝缘膜，同时保存稳定性也优异，其中随着为提高制品的成品率而采取的工艺的效率化，该层间绝缘膜的耐热尺寸稳定性、耐热变色性、与基板的密合性等优异。
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公开(公告)号：CN101907828B
公开(公告)日：2013-10-16
申请号：CN201010198420.7
申请日：2010-06-07
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/075 , G02F1/1362 , G03F7/00
Abstract: 本发明涉及放射线敏感性组合物、保护膜、层间绝缘膜以及它们的形成方法。所述放射线敏感性组合物可以形成透明性、耐热性等优异，同时对ITO基板密合性以及耐裂性高的保护膜和层间绝缘膜，而且具有足够分辨率。本发明的放射线敏感性组合物包括：[A]硅氧烷聚合物，[B]选自由式(1)和(3)分别表示的化合物构成的群组中的至少一种硅烷化合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂或放射线敏感性碱产生剂。[A]硅氧烷聚合物优选为式(4)的水解性硅烷化合物的水解缩合物。还可以进一步含有[D]脱水剂。作为[C]放射线敏感性酸产生剂优选使用选自由三苯基锍盐和四氢噻吩鎓盐构成的群组中的至少一种。(R1O)3Si-R2-Si(OR3)3 (1)(R7)q-Si-(OR8)4-q (4)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101877277A
公开(公告)日：2010-11-03
申请号：CN201010167248.9
申请日：2010-04-27
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: Y02E10/542 , Y02E10/549
Abstract: 本发明提供一种能够准确地在具有金属配线高差的基板上进行涂布，同时可以形成维持高光电转换效率，并且具有优异耐腐蚀性的屏蔽膜的树脂组合物。进一步，提供一种能够仅通过涂布工序以及加热工序这种比较简易的工序，以低成本形成屏蔽膜的树脂组合物，以及含有该具有耐腐蚀性的屏蔽膜、并且光电转换效率优异的染料敏化太阳能电池用电极。本发明是一种染料敏化太阳能电池用电极，具有通过树脂组合物所形成的屏蔽膜，其特征在于上述树脂组合物，含有[A]具有选自羧基、环氧基和(甲基)丙烯酰基所构成的群组中的至少1种反应性官能基的共聚物。
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公开(公告)号：CN1300199C
公开(公告)日：2007-02-14
申请号：CN03808889.4
申请日：2003-09-30
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08F220/10 , G02B6/12
CPC classification number: C08F222/1006 , G02B6/1221 , G02B6/138 , G02B2006/12069
Abstract: 本发明提供含有(A)、(B)、(C)作为组成成分的用于形成光波导的感光性树脂组合物，其具有优异的图案形成性、折射率、耐热性、传输特性等。其中(A)为二(甲基)丙烯酸酯，其结构中具有如下述通式(1)所示结构，通式(1)中，R1为-(OCH2CH2)m-、-(OCH(CH3)CH2)m-或-OCH2CH(OH)CH2-；X为-C(CH3)2-、-CH2-、-O-或-SO2-；Y为氢原子或卤原子；m为0～4的整数；(B)为单(甲基)丙烯酸酯，其结构中具有如下述通式(2)所示结构，通式(2)中，R2为-(OCH2CH2)p-、-(OCH(CH3)CH2)p-或-OCH2CH(OH)CH2-；Y为氢原子、卤原子、Ph-C(CH3)2-、Ph-或具有1～20个碳原子数的烷基；p为0～4的整数；Ph为苯基；(C)为光自由基聚合引发剂。
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公开(公告)号：CN101727002B
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：CN200910207034.7
申请日：2009-10-27
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种感射线性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜以及它们的制造方法。目的是提供一种感射线性树脂组合物，其对射线具有高敏感度，具有在显影工序中即使超出最佳显影时间也还能够形成良好图案形状的显影裕度。本发明是含有[A]碱可溶性树脂、[B]1，2-醌二叠氮化合物以及[C]分子中具有至少一个乙烯性不饱和键、且具有来源于三羟甲基丙烷或季戊四醇的骨架或者异氰尿酸酯骨架的化合物。[A]碱可溶性树脂为(a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐与含有(a2)具有环氧基的不饱和化合物的不饱和化合物的共聚物即可。
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公开(公告)号：CN101727002A
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200910207034.7
申请日：2009-10-27
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及一种感射线性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜以及它们的制造方法。目的是提供一种感射线性树脂组合物，其对射线具有高敏感度，具有在显影工序中即使超出最佳显影时间也还能够形成良好图案形状的显影裕度。本发明是含有[A]碱可溶性树脂、[B]1，2-醌二叠氮化合物以及[C]分子中具有至少一个乙烯性不饱和键、且具有来源于三羟甲基丙烷或季戊四醇的骨架或者异氰尿酸酯骨架的化合物。[A]碱可溶性树脂为(a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐与含有(a2)具有环氧基的不饱和化合物的不饱和化合物的共聚物即可。
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公开(公告)号：CN101609256A
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：CN200910149137.2
申请日：2009-06-17
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明是涉及一种保护膜形成用感射线性树脂组合物及保护膜的形成方法，该树脂组合物作为保护膜的透明度高、与透明导电膜间的粘着性优越、高硬度，且耐摩擦性优越。一种触摸面板的保护膜形成用感射线性树脂组合物，其特征在于包含：(A)碱溶性树脂、(B)在1分子中具有1个羧基的乙烯类不饱和化合物、(C)感射线性聚合引发剂。
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