晶种层激光诱导的沉积
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103668109A

    公开(公告)日:2014-03-26

    申请号:CN201310385527.6

    申请日:2013-08-30

    Applicant: FEI公司

    CPC classification number: C23C16/0281 C23C16/047 C23C16/18

    Abstract: 一种在基底表面上以第一靶图案生成靶沉积材料层的方法。将该基底表面放置在真空中并且将其暴露于具有用于一种晶种沉积材料的前体分子的第一化学蒸气中,由此形成已经吸附了这些前体分子的第一基底表面区域。然后,将一个带电粒子束以第二靶图案应用于第一基底表面区域上,该第二靶图案大体上与第一靶图案相同,由此以第三靶图案形成一个晶种层。将该晶种层暴露于具有靶沉积材料前体分子的第二化学蒸气中,这些前体分子被吸附至该晶种层上。最后,将一个激光束应用于该晶种层和邻近区域,由此在已经暴露于该激光束的该晶种层上以及其附近形成一个靶沉积材料层。

    用于使光束对准至带电粒子束的方法

    公开(公告)号:CN109243953B

    公开(公告)日:2023-04-18

    申请号:CN201810744936.3

    申请日:2018-07-09

    Applicant: FEI 公司

    Abstract: 公开了一种用于观测和对准带电粒子束(CPB)系统(诸如电子显微镜或聚焦粒子束系统)的样本腔室中的光束的方法和系统。该方法包括在样本腔室内部提供具有校准表面的成像辅助设备,该校准表面被配置成使得当利用光照亮,并且同时被CPB照亮时,在也被光照亮的区中通过CPB引起的二次辐射的强度相对于具有较低光照明水平的区中通过CPB引起的二次辐射的强度是不同的,由此在校准表面上提供光束的图像。该光束的图像可以被用来使光束与带电粒子束对准。

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