电流探测装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108351373A

    公开(公告)日:2018-07-31

    申请号:CN201680059792.7

    申请日:2016-08-19

    Abstract: 本发明提供一种电流探测装置,将形成在反馈线圈上的屏蔽层形成为平坦的状态而防止绝缘层的龟裂,进而能够提高屏蔽层的饱和磁化。在基板(2)上形成有磁探测部(11、12、13、14)和覆盖它们的下部绝缘层(4)。在下部绝缘层(4)上形成有形成反馈线圈(30)的对置探测部(30a)的多条线圈层(35),在线圈层(35)的两侧形成有高度调整层(36、37)。线圈层(35)和高度调整层(36、37)被上部绝缘层(9)覆盖,在其上形成有屏蔽层(3)。因此,能够将屏蔽层(3)形成为大致平坦的状态。

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