公开(公告)号：CN101983257A

公开(公告)日：2011-03-02

申请号：CN200980110563.3

申请日：2009-04-03

Applicant: 阿基里斯株式会社

Inventor： 芦泽弘树 ,  铃木贵司 ,  中村真弓

IPC: C23C18/18

CPC classification number: C23C18/30 ,  C23C18/2086

Abstract: 本发明要提供一种镀敷物和其制造方法。本发明提供了一种镀敷物，是在成型品的表面上形成了含有导电性高分子微粒和粘合剂的涂膜层，并且通过无电镀法借助吸附的催化剂金属在该涂膜层上形成了金属镀膜的镀敷物，其中，相对于1质量份所述导电性高分子微粒存在0.1～10质量份所述粘合剂，所述涂膜层的厚度为0.5～100μm，所述涂膜层上吸附的所述催化剂金属的块体大小为150nm以下，并且所述涂膜层上吸附的所述催化剂金属的单位面积的量为0.1～3.0μg/cm2。

公开(公告)号：CN101578392B

公开(公告)日：2011-04-13

申请号：CN200780049747.4

申请日：2007-12-11

Applicant: 阿基里斯株式会社

Inventor： 芦泽弘树 ,  铃木贵司

IPC: C23C18/18 ,  B32B15/08 ,  C09D5/24

Abstract: 本发明提供镀覆制品及其制造方法。镀覆制品是通过在基材的表面上形成含有导电性高分子微粒和粘合剂的涂膜层，再在该涂膜层上采用无电解镀法形成金属镀膜而获得的，相对于1质量份的上述导电性高分子微粒，存在0.1～10质量份的上述粘合剂，上述涂膜层的厚度为20～500nm。

公开(公告)号：CN101578392A

公开(公告)日：2009-11-11

申请号：CN200780049747.4

申请日：2007-12-11

Applicant: 阿基里斯株式会社

Inventor： 芦泽弘树 ,  铃木贵司

IPC: C23C18/18 ,  B32B15/08 ,  C09D5/24

Abstract: 本发明提供镀覆制品及其制造方法。镀覆制品是通过在基材的表面上形成含有导电性高分子微粒和粘合剂的涂膜层，再在该涂膜层上采用无电解镀法形成金属镀膜而获得的，相对于1质量份的上述导电性高分子微粒，存在0.1～10质量份的上述粘合剂，上述涂膜层的厚度为20～500nm。

公开(公告)号：CN109306478B

公开(公告)日：2021-08-03

申请号：CN201810838084.4

申请日：2018-07-26

Applicant: TDK株式会社 ,  阿基里斯株式会社

Inventor： 折笠诚 ,  堀川雄平 ,  上林义广 ,  阿部寿之 ,  芦泽弘树 ,  森美穗 ,  田村美咲

IPC: C23C18/16 ,  C23C18/20 ,  C23C18/30 ,  C23C18/31

Abstract: 本发明所涉及的片材(1)具备：树脂层(4)，包含粘结剂(2)和聚吡咯颗粒(3)；非电解镀膜(7)，被设置于树脂层(4)的一个主面(4a)侧并具有第1非电解镀膜(5)和第2非电解镀膜(6)；及透明基材(8)，被设置于树脂层(4)的另一个主面(4b)侧。聚吡咯颗粒(3)中的至少一部分具有从树脂层(4)的一个主面(4a)露出的露出面(3a)，露出面(3a)分散于树脂层(4)的一个主面(4a)上。第1非电解镀膜(5)以围绕聚吡咯颗粒(3)各自的露出面(3a)的方式被设置于树脂层(4)的一个主面(4a)上。第2非电解镀膜(6)以覆盖第1非电解镀膜(5)的方式被设置，第2非电解镀膜(6)的一个主面(6a)具备对应于第1非电解镀膜(5)的凹部(6r)。

公开(公告)号：CN101983257B

公开(公告)日：2013-05-15

申请号：CN200980110563.3

申请日：2009-04-03

Applicant: 阿基里斯株式会社

Inventor： 芦泽弘树 ,  铃木贵司 ,  中村真弓

IPC: C23C18/18

CPC classification number: C23C18/30 ,  C23C18/2086

Abstract: 本发明要提供一种镀敷物和其制造方法。本发明提供了一种镀敷物，是在成型品的表面上形成了含有导电性高分子微粒和粘合剂的涂膜层，并且通过无电镀法借助吸附的催化剂金属在该涂膜层上形成了金属镀膜的镀敷物，其中，相对于1质量份所述导电性高分子微粒存在0.1～10质量份所述粘合剂，所述涂膜层的厚度为0.5～100μm，所述涂膜层上吸附的所述催化剂金属的块体大小为150nm以下，并且所述涂膜层上吸附的所述催化剂金属的单位面积的量为0.1～3.0μg/cm2。

公开(公告)号：CN1541832A

公开(公告)日：2004-11-03

申请号：CN200410031553.X

申请日：2004-03-24

Applicant: 阿基里斯株式会社

Inventor： 原泽纯一 ,  铃木卓郎 ,  芦泽弘树

IPC: B32B27/30 ,  D06N3/00 ,  E04H15/00

CPC classification number: G02B5/208 ,  Y10T428/31504

Abstract: 本发明提供具有光线遮蔽效果的遮热性的薄膜或片材。其是具有光线遮蔽效果的着色片材，其特征在于：所述片材至少含有反射层和着色层，其通过在该反射层暴露于光的一侧层压该着色层而构成，其中，该反射层在780～1350nm的波长范围具有60％以上的日射反射率，且该着色层在780～1350nm的波长范围具有30％以上的光透过率，同时在380～780nm的波长范围具有10～80％的日射吸收率。

公开(公告)号：CN105986253B

公开(公告)日：2019-09-27

申请号：CN201510050729.4

申请日：2015-01-30

Applicant: 阿基里斯株式会社

Inventor： 芦泽弘树

IPC: C23C18/31 ,  C23C18/18

Abstract: 本发明的课题是提供一种密合性优异的镀敷物及其制造方法。解决手段是一种镀敷物，其在基材的表面上具有涂膜层，在该涂膜层上具有金属镀膜，所述涂膜层含有导电性高分子微粒和粘合剂，所述金属镀膜是通过利用无电解镀法使金属析出而形成的，其特征在于，通过所述金属析出，在该涂膜层的靠近金属镀膜的部分的一部分中也形成有金属镀敷组织。

公开(公告)号：CN109306478A

公开(公告)日：2019-02-05

申请号：CN201810838084.4

申请日：2018-07-26

Applicant: TDK株式会社 ,  阿基里斯株式会社

Inventor： 折笠诚 ,  堀川雄平 ,  上林义广 ,  阿部寿之 ,  芦泽弘树 ,  森美穗 ,  田村美咲

IPC: C23C18/16 ,  C23C18/20 ,  C23C18/30 ,  C23C18/31

Abstract: 本发明所涉及的片材(1)具备：树脂层(4)，包含粘结剂(2)和聚吡咯颗粒(3)；非电解镀膜(7)，被设置于树脂层(4)的一个主面(4a)侧并具有第1非电解镀膜(5)和第2非电解镀膜(6)；及透明基材(8)，被设置于树脂层(4)的另一个主面(4b)侧。聚吡咯颗粒(3)中的至少一部分具有从树脂层(4)的一个主面(4a)露出的露出面(3a)，露出面(3a)分散于树脂层(4)的一个主面(4a)上。第1非电解镀膜(5)以围绕聚吡咯颗粒(3)各自的露出面(3a)的方式被设置于树脂层(4)的一个主面(4a)上。第2非电解镀膜(6)以覆盖第1非电解镀膜(5)的方式被设置，第2非电解镀膜(6)的一个主面(6a)具备对应于第1非电解镀膜(5)的凹部(6r)。

公开(公告)号：CN105986253A

公开(公告)日：2016-10-05

申请号：CN201510050729.4

申请日：2015-01-30

Applicant: 阿基里斯株式会社

Inventor： 芦泽弘树

IPC: C23C18/31 ,  C23C18/18

Abstract: 本发明的课题是提供一种密合性优异的镀敷物及其制造方法。解决手段是一种镀敷物，其在基材的表面上具有涂膜层，在该涂膜层上具有金属镀膜，所述涂膜层含有导电性高分子微粒和粘合剂，所述金属镀膜是通过利用无电解镀法使金属析出而形成的，其特征在于，通过所述金属析出，在该涂膜层的靠近金属镀膜的部分的一部分中也形成有金属镀敷组织。

公开(公告)号：CN100569508C

公开(公告)日：2009-12-16

申请号：CN200410031553.X

申请日：2004-03-24

Applicant: 阿基里斯株式会社

Inventor： 原泽纯一 ,  铃木卓郎 ,  芦泽弘树

IPC: B32B27/30 ,  D06N3/00 ,  E04H15/00

CPC classification number: G02B5/208 ,  Y10T428/31504

Abstract: 本发明提供具有光线遮蔽效果的遮热性的薄膜或片材。其是具有光线遮蔽效果的着色片材，其特征在于：所述片材至少含有反射层和着色层，其通过在该反射层暴露于光的一侧层压该着色层而构成，其中，该反射层在780～1350nm的波长范围具有60%以上的日射反射率，且该着色层在780～1350nm的波长范围具有30%以上的光透过率，同时在380～780nm的波长范围具有10～80%的日射吸收率。