光电跟踪仪方位跟踪精度的检测方法

    公开(公告)号:CN104932541A

    公开(公告)日:2015-09-23

    申请号:CN201510250710.4

    申请日:2015-05-18

    Abstract: 本发明涉及一种光电跟踪仪方位跟踪精度的检测方法,依次包括下述步骤:一:在被测仪器的正前方,放置无穷远目标发生器,两者的距离为d;二:无穷远目标发生器转动;模拟目标的直线运动速度v与模拟目标的转速ω,转动时间t,及模拟目标回转圆心与被测仪器的回转圆心的距离d有关,函数关系为:v=[d×tan(ωt)]/t ;三:目标发生器模拟出无穷远处目标的方位运动状态,提供给被测仪器,被测仪器跟踪目标,通过对跟踪视频图像的处理得到被测仪器的跟踪精度。本发明可以实现在小方位范围内对左右来回运动目标的检测,可以实现定性和精确的定量检测、可以实现全天候检测,提高检测效率和精度。

    周视观瞄仪跟踪精度检测装置及检测方法

    公开(公告)号:CN104833481A

    公开(公告)日:2015-08-12

    申请号:CN201510252963.5

    申请日:2015-05-18

    Abstract: 本发明涉及一种周视观瞄仪跟踪精度检测装置和检测方法,检测装置包括目标运动单元、设置于目标运动单元上的目标模拟单元、伺服控制单元和人机测控单元,各个单元均设置有控制处理器和数据交换单元,各个数据交换单元通过电缆联接通讯;目标运动单元包括双轴四框架结构的转台;本发明的检测方法有九个步骤,其原理是通过目标模拟单元模拟出无穷远处目标的方位运动状态,提供给被测仪器,被测仪器跟踪目标,通过对跟踪视频图像的处理得到被测仪器的跟踪精度;本发明可以同时完成俯仰、方位两个运动形式下的跟踪精度检测,满足武器装备中的跟踪系统的研制和战场靠前检测的需求。

    一种减小光学窗口用四面体非晶碳膜残余应力的方法

    公开(公告)号:CN107841711B

    公开(公告)日:2019-05-03

    申请号:CN201711067629.8

    申请日:2017-11-03

    Abstract: 本发明涉及一种减小光学窗口用四面体非晶碳膜残余应力的方法,将准备好的基片迅速放入真空室的基底夹具上,工作气体为氩气其纯度99.999%;所述真空室通过机械泵和分子泵抽到真空度为5.0×10‑4Pa;打开氩气阀门,流量为15sccm,控制真空度为5.0×10‑2Pa;设置基底偏压‑150V,使用微波辅助激励源产生等离子体,对基片进行溅射清洗;清洗过程控制时间2分钟;然后静置5分钟冷却基底,循环5次,实际溅射清洗时间10分钟,全部清洗工艺费时35分钟;清洗完毕后,通过靶材对基片进行薄膜沉积,同时通过调节基底偏压、磁路偏压和氩气流量完成对薄膜沉积形成的四面体非晶碳膜的应力调控。

    光波偏振态高速静态测量装置及测量方法

    公开(公告)号:CN103267576B

    公开(公告)日:2015-05-13

    申请号:CN201310176136.3

    申请日:2013-05-14

    Abstract: 本发明属于光电测试技术领域,具体是一种光波偏振态高速静态测量装置及测量方法。本发明要克服现有技术需要机械转动、结构复杂或者难以实现高速测量的缺陷和不足。所采用的技术方案如下:一种光波偏振态高速静态测量装置,包括沿x轴顺序排列的铌酸锂晶体、偏振片、光强探测器和外加电压控制系统;所述铌酸锂晶体利用的是其横向电光效应;所述偏振片端面垂直于待测光线传播方向,偏振片的透振方向与y轴夹角可调;所述光强探测器的光强接收面垂直于x轴;外加电压控制系统对施加在z轴方向的电压进行控制。本发明适用于光纤通讯偏振态检测控制以及对设备的机械稳定性要求高的卫星或飞机等空间基平台对目标光束进行偏振探测的技术领域。

    一种基于光学的侦察系统
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117685826A

    公开(公告)日:2024-03-12

    申请号:CN202311800280.X

    申请日:2023-12-25

    Abstract: 本申请实施例提供一种基于光学的侦察系统,包括:壳体、光学探测组件和驱动机构。光学探测组件设置于所述壳体,所述光学探测组件包括多个摄像装置,各所述摄像装置沿所述壳体的周向依次间隔排列,且所述摄像装置连接于所述壳体,所述摄像装置包括载体件和摄像头,所述载体件包括上侧板和所述下侧板,所述上侧板和所述下侧板可活动地连接,所述上侧板和所述下侧板均与所述壳体可活动地连接,上侧板和所述下侧板上分别设置有若干摄像头,光学探测组件用于探测目标物的光学位置坐标。驱动机构设置于壳体,所述驱动机构与各所述摄像装置的上侧板和下侧板传动连接,以驱动上侧板和下侧板相对运动,调节所述上侧板和下侧板上摄像头的总垂直视场角度。

    一种管道弯曲度测量装置及方法

    公开(公告)号:CN107747913A

    公开(公告)日:2018-03-02

    申请号:CN201711132922.8

    申请日:2017-11-15

    CPC classification number: G01B11/24

    Abstract: 本发明公开了一种管道弯曲度测量装置及方法,该装置包括设置有反射镜的第一凹形夹持件和设置有自准直仪的第二凹形夹持件,自准直仪包括光学组件和CCD传感器,CCD传感器的信号输出端依次通过图像处理模块、DSP微处理器与计算机连接;该方法包括步骤:一、初始化CCD传感器并获取背景灰度图像;二、光点成像;三、光点图像的获取;四、光点图像滤波;五、光点像元的获取;六、十字丝光点图像中心光点像元的定位;七、测量管道弯曲度。本发明采用夹持件将反射镜和自准直仪固定在管道的两端获取管道弯曲度,获取数据不易受环境影响,通过计算机获取CCD传感器上光点像元,并通过转动惯量最小对中心光点像元定位,实现了对管状物体微小偏角的高精度测量。

    一种减小光学窗口用四面体非晶碳膜残余应力的方法

    公开(公告)号:CN107841711A

    公开(公告)日:2018-03-27

    申请号:CN201711067629.8

    申请日:2017-11-03

    CPC classification number: C23C14/0605 C23C14/345 C23C14/3492

    Abstract: 本发明涉及一种减小光学窗口用四面体非晶碳膜残余应力的方法,将准备好的基片迅速放入真空室的基底夹具上,工作气体为氩气其纯度99.999%;所述真空室通过机械泵和分子泵抽到真空度为5.0×10-4Pa;打开氩气阀门,流量为15sccm,控制真空度为5.0×10-2Pa;设置基底偏压-150V,使用微波辅助激励源产生等离子体,对基片进行溅射清洗;清洗过程控制时间2分钟;然后静置5分钟冷却基底,循环5次,实际溅射清洗时间10分钟,全部清洗工艺费时35分钟;清洗完毕后,通过靶材对基片进行薄膜沉积,同时通过调节基底偏压、磁路偏压和氩气流量完成对薄膜沉积形成的四面体非晶碳膜的应力调控。

    苹果品质检测装置及检测方法

    公开(公告)号:CN106442358A

    公开(公告)日:2017-02-22

    申请号:CN201610884770.6

    申请日:2016-10-11

    Abstract: 本发明涉及苹果品质检测装置及检测方法,该装置主要包括沿光轴方向顺序排列的镀膜平面反射镜、带通滤光片、成像透镜和图像传感器;检测时,平面反射镜按照平行于苹果果柄与花萼连线方向放置,苹果离开平面镜距离约等于苹果直径,成像透镜以苹果顶端与苹果经平面镜所成像底端连线为视轴,确定光学系统光轴方向,同时成像透镜的视场角以能同时覆盖苹果底端和苹果像顶端为满足要求,根据此要求确定成像透镜离开平面反射镜的距离,待成像透镜位置确定,带通滤光片和图像传感器根据确定的光轴分别设置于成像透镜的两侧且均垂直于光轴设置。本发明能够实现对苹果内外部品质的同时检测,可利用一个图像传感器一次获取苹果表面全部图像。

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