平面内MEMS光开关
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113885125A

    公开(公告)日:2022-01-04

    申请号:CN202110748803.5

    申请日:2021-07-02

    Abstract: 平面内MEMS光开关。一种光开关包括:由基板支撑的第一总线波导、经由弹簧悬挂在第一总线波导上方的光学天线、以及将基板与光学天线耦合并且被配置成控制光学天线相对于第一总线波导的方位的叉指电极。当施加到叉指电极的电压差小于下阈值时,光学天线处于偏离第一总线波导的第一方位,当施加到叉指电极的电压差大于上阈值时,光学天线处于偏离第一总线波导的第二方位,并且第二方位处的偏移大于第一方位处的偏移。

    具有停止控件的MEMS光开关
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113885122A

    公开(公告)日:2022-01-04

    申请号:CN202110748727.8

    申请日:2021-07-02

    Abstract: 具有停止控件的MEMS光开关。一种光开关包括:由基板支撑的总线波导;由基板支撑的致动电极,该致动电极具有在垂直于基板和总线波导的方向上突出的鳍部;以及反应电极,其具有被配置成与致动电极形成梳状驱动器的叉指鳍部。当反应电极与致动电极之间的电压差小于下阈值时,反应电极被定位在距总线波导第一距离处,当反应电极与致动电极之间的电压差大于上阈值时,反应电极被定位在距总线波导第二距离处,并且第二距离小于第一距离。

    用于制造具有电连接部的硅层系统的方法

    公开(公告)号:CN119731116A

    公开(公告)日:2025-03-28

    申请号:CN202380060152.8

    申请日:2023-07-10

    Abstract: 一种用于制造硅层系统(310)的方法,包括以下步骤:提供具有表面的载体衬底,其中,载体衬底设有形成在所述表面上的绝缘层;在所述绝缘层上施加第一硅层;将第一硅层结构化,用于在第一硅层中形成沟槽,其中,沟槽至少在局部延伸穿过第一硅层;将第一硅层钝化,其中,沟槽被填充,并且,在第一硅层的背离绝缘层的一侧上形成第一钝化层;将第一钝化层结构化,其中,在第一硅层中形成第一牺牲区域和功能区域,并且,第一牺牲区域在第一硅层的背离绝缘层的一侧上至少在局部没有第一钝化层。从施加起重复这些步骤,由此在另外的硅层中形成牺牲区域和功能区域;接着去除所有牺牲区域。这些步骤实施成,使得形成包括至少一个专用功能区域的电连接部(390),通过所述电连接部能在两个元件(380)之间建立电连接,其中,所述至少一个专用功能区域仅用于电连接部(390)。

    用于制造微机电结构的方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119731115A

    公开(公告)日:2025-03-28

    申请号:CN202380060150.9

    申请日:2023-07-20

    Abstract: 一种用于制造微机电结构的方法,包括提供载体衬底(110),其具有中心层(140)和表面以及布置在中心层的一侧上且施加在所述表面上的绝缘层(122);在绝缘层上施加硅层(150a);对硅层进行结构化以形成在局部延伸穿过硅层的沟槽(156);对硅层进行钝化,其中,沟槽被填充并形成钝化层(154);对钝化层进行结构化,其中,形成牺牲区域(153)和功能区域(152),且牺牲区域局部地没有钝化层;去除载体衬底(110)的一部分以形成新表面,并在新表面上形成第二绝缘层(172)。接着,在第二绝缘层上重复施加、结构化和钝化用于第二硅层(180a)并且针对第二钝化层(184)重复结构化而形成牺牲区域和功能区域,并且去除所有牺牲区域。

    具有悬臂耦合器的MEMS光开关
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113885123A

    公开(公告)日:2022-01-04

    申请号:CN202110748785.0

    申请日:2021-07-02

    Abstract: 具有悬臂耦合器的MEMS光开关。一种光开关包括:由基板支撑的总线波导、悬挂在总线波导上方的耦合波导、与耦合波导耦合并且与耦合波导相邻的反应电极、由基板支撑并且被配置成经由反应电极控制耦合波导相对于总线波导的方位的致动电极、以及与耦合波导耦合并且设置在距总线波导固定距离处的光学天线。当反应电极与致动电极之间的电压差小于下阈值时,耦合波导被定位在距总线波导第一距离处,当反应电极与致动电极之间的电压差大于上阈值时,耦合波导被定位在距总线波导第二距离处,并且第二距离小于第一距离。

    微机械结构元件
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107720686B

    公开(公告)日:2022-12-06

    申请号:CN201710680047.0

    申请日:2017-08-10

    Abstract: 提出一种具有主延伸平面的微机械结构元件,其中,所述微机械结构元件包围第一空腔并且包围第二空腔,其中,在所述第一空腔中存在第一压力并且在所述第二空腔中存在第二压力,其中,微机械结构元件的基本上平行于所述主延伸平面延伸的第一层在所述第一空腔与所述第二空腔之间基本上垂直于主延伸平面地伸入微机械结构元件的基本上平行于所述主延伸平面延伸的第二层中。

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