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公开(公告)号：CN104919076B
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201380070851.7
申请日：2013-11-27
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: C23C16/40 , B24B37/042 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C23C4/11 , C23C4/134 , C23C4/18 , C23C14/08 , C23C30/00 , Y10T428/24355
Abstract: 提供一种具备具有与以往不同的质感的新型表面的物品。由本发明提供的带有含金属氧化物的膜的物品具备基材、以及在该基材的表面设置的含金属氧化物的膜，前述含金属氧化物的膜的维氏硬度为350以上、表面粗糙度Ra为300nm以下、且20°光泽度值为50以上。
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公开(公告)号：CN102725374B
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201180007110.5
申请日：2011-01-21
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: H01L21/304 , C09K3/14 , C09G1/02 , H01L21/02
CPC classification number: C09K3/1463 , B24B37/044 , C09G1/02 , H01L21/02024 , H01L21/02032
Abstract: 提供一种研磨用组合物，其用于研磨半导体晶片表面以将具有台阶的半导体的表面平坦化并且由此再生所述半导体晶片。所述研磨用组合物至少包括台阶消除剂，所述台阶消除剂吸附至半导体晶片表面并且起到防止在研磨期间蚀刻在所述表面上的台阶底部的作用。所述台阶消除剂为，例如，水溶性高分子或表面活性剂，更具体地，聚乙烯醇类、聚乙烯吡咯烷酮类、聚乙二醇类、纤维素类、羧酸型表面活性剂、磺酸型表面活性剂、磷酸酯型表面活性剂或氧化烯类聚合物。
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公开(公告)号：CN104684684A
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201380051652.1
申请日：2013-10-01
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: B24B37/015
CPC classification number: B24B37/015
Abstract: 研磨方法使用研磨垫和向研磨垫供给的研磨用组合物研磨合金材料。研磨用组合物含有包含二氧化硅或氧化铝的研磨材料，研磨结束时的研磨垫的表面温度为20℃以下。合金材料的制造方法具有使用研磨垫和向研磨垫供给的研磨用组合物研磨合金材料的研磨工序。研磨用组合物含有包含二氧化硅或氧化铝的研磨材料，研磨结束时的研磨垫的表面温度为20℃以下。
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公开(公告)号：CN104271805A
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201380021506.4
申请日：2013-04-24
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: C11D11/0029 , C11D1/143 , C11D1/22 , C11D1/24 , C23G1/06 , C23G1/02 , C11D1/12 , C11D3/20
Abstract: 本发明提供合金材料用清洗剂，其含有具有SO3M基(其中，M表示抗衡离子)的阴离子性表面活性剂，并且具有1.5以上且4以下的范围的pH。优选的是，合金材料用清洗剂还含有有机酸。另外，提供合金材料的制造方法，其包括使用该合金材料用清洗剂来清洗合金材料的工序。
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公开(公告)号：CN108698194A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201780010678.X
申请日：2017-01-27
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: B24B37/24 , B24B37/22 , B24D11/00 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种抛光垫，该抛光垫在对表面具有凸部和凹部中的至少一者的抛光对象物进行的抛光中，能够充分地抛光到抛光对象物的表面中的凸部的附近部分、凹部的内表面。抛光垫具有由多根长度为3mm以上的纤维(12)在基部(11)的表面立起而成的立毛部(1)，并且纤维(12)的根数为10000根/cm2以上。
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公开(公告)号：CN106574170A
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201580042530.5
申请日：2015-05-01
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: B24B37/24 , B24B37/00 , B24B37/044 , C09G1/02 , C09K3/1463
Abstract: [课题]本发明提供能够以高的研磨速度对钛合金材料进行研磨，并且研磨后能够得到表面的平滑性优异、具有高光泽的表面的研磨完的钛合金材料的钛合金材料研磨用组合物。[解决手段]一种钛合金材料研磨用组合物，其用于对钛合金材料进行研磨，所述钛合金材料研磨用组合物含有如下的化合物及磨粒，所述化合物具有以比钛高的溶解度使相对于前述钛合金材料的总质量以大于0.5质量％的含量存在的、除钛以外的金属元素的至少1种溶解的功能。
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公开(公告)号：CN105452416A
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201480044100.2
申请日：2014-07-17
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: C09K3/1436 , B24B1/00 , B24B37/00 , C09G1/02 , C09K3/1445 , C09K3/1463
Abstract: 本发明课题在于，提供一种能够提高合金材料表面的平滑性并得到高光泽的表面、能够得到使划痕等显著减少的高品质的镜面的研磨用组合物。提供一种研磨用组合物，其用于研磨合金材料的用途，其包含磨粒和添加剂，所述添加剂不与特定的金属种类形成络合物、并吸附在合金表面发挥防腐蚀效果。
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公开(公告)号：CN103945983A
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN201280057209.0
申请日：2012-11-19
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: B24B37/00
CPC classification number: C09G1/02 , B24B29/00 , B24B37/044
Abstract: 本发明提供一种有效的研磨方法，其将包含主成分和0.1质量％以上的维氏硬度(HV)与主成分相差5以上的元素的合金材料研磨成优异的镜面。该研磨方法中使用的研磨用组合物含有磨粒和氧化剂。合金材料优选为铝合金、钛合金、不锈钢、镍合金或铜合金。另外，在使用前述研磨用组合物研磨之前，优选对合金材料进行预磨。
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