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公开(公告)号:CN108698194A
公开(公告)日:2018-10-23
申请号:CN201780010678.X
申请日:2017-01-27
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: B24B37/24 , B24B37/22 , B24D11/00 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种抛光垫,该抛光垫在对表面具有凸部和凹部中的至少一者的抛光对象物进行的抛光中,能够充分地抛光到抛光对象物的表面中的凸部的附近部分、凹部的内表面。抛光垫具有由多根长度为3mm以上的纤维(12)在基部(11)的表面立起而成的立毛部(1),并且纤维(12)的根数为10000根/cm2以上。
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公开(公告)号:CN106281221B
公开(公告)日:2017-11-03
申请号:CN201610663520.X
申请日:2016-08-12
Applicant: 福吉米株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够以充分的研磨速度对合金、金属氧化物的表面进行研磨且能够获得高品质的镜面的研磨材料、研磨用组合物及研磨方法。所述研磨材料含有α化率为80%以上且体积基准的累积粒径分布中的50%粒径为0.15μm以上且0.35μm以下的氧化铝。研磨用组合物含有该研磨材料且pH为7以下。该研磨材料及研磨用组合物用于含有合金和金属氧化物中的至少一者的研磨对象物的研磨。
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公开(公告)号:CN107109195A
公开(公告)日:2017-08-29
申请号:CN201580071187.7
申请日:2015-11-26
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: C09G1/02 , B24B37/00 , B24B37/044 , C04B41/91 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 提供廉价且可对陶瓷进行高品质的镜面精加工的研磨用组合物。一种研磨用组合物,其含有由碳化物形成的磨粒,且用于研磨陶瓷。
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公开(公告)号:CN106281221A
公开(公告)日:2017-01-04
申请号:CN201610663520.X
申请日:2016-08-12
Applicant: 福吉米株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够以充分的研磨速度对合金、金属氧化物的表面进行研磨且能够获得高品质的镜面的研磨材料、研磨用组合物及研磨方法。所述研磨材料含有α化率为80%以上且体积基准的累积粒径分布中的50%粒径为0.15μm以上且0.35μm以下的氧化铝。研磨用组合物含有该研磨材料且pH为7以下。该研磨材料及研磨用组合物用于含有合金和金属氧化物中的至少一者的研磨对象物的研磨。
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公开(公告)号:CN104271805A
公开(公告)日:2015-01-07
申请号:CN201380021506.4
申请日:2013-04-24
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: C11D11/0029 , C11D1/143 , C11D1/22 , C11D1/24 , C23G1/06 , C23G1/02 , C11D1/12 , C11D3/20
Abstract: 本发明提供合金材料用清洗剂,其含有具有SO3M基(其中,M表示抗衡离子)的阴离子性表面活性剂,并且具有1.5以上且4以下的范围的pH。优选的是,合金材料用清洗剂还含有有机酸。另外,提供合金材料的制造方法,其包括使用该合金材料用清洗剂来清洗合金材料的工序。
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公开(公告)号:CN107708926A
公开(公告)日:2018-02-16
申请号:CN201680038710.0
申请日:2016-05-18
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: B24B29/02 , B24B37/22 , B24B37/24 , B24B37/26 , B32B5/12 , B32B5/245 , B32B27/36 , B32B2305/22 , B32B2307/72 , B32B2307/732
Abstract: 本发明提供一种研磨垫,其在对表面具有凸部和凹部中的至少一者的研磨对象物进行研磨时,能够充分研磨至研磨对象物的表面中凸部的附近部分、凹部的内表面。研磨垫具有立毛部(1),所述立毛部(1)是多个长度为2mm以上的纤维(12)在基部(11)的表面立起而成的,纤维(12)的质量为250g/m2以上。该研磨垫用于含有金属、合金、或者金属氧化物材料、且表面具有凸部(21)和凹部(22)中的至少一者的研磨对象物(2)的研磨。
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公开(公告)号:CN105451938A
公开(公告)日:2016-03-30
申请号:CN201480044902.3
申请日:2014-08-06
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: B24B9/00 , B24B37/11 , B24D13/12 , H01L21/304
Abstract: 本发明涉及一种具有特定的形状的被研磨加工物的研磨加工方法,特别是涉及一种为了高效且均匀地研磨加工被研磨加工物的曲面而使用了以包括具有与该曲面形状相对应的形状的研磨面的研磨垫为特征的研磨加工工具的研磨加工方法。本发明的研磨加工工具的特征在于,包括具有与所述曲面相对应的形状的研磨面的研磨垫以与被研磨加工物的曲面均匀地接触。优选的是,研磨垫的硬度以肖氏A硬度计为5以上,表面材质包括织物、无纺布、无纺布的树脂加工品、合成皮革、合成树脂发泡体、这些材质的复合品中的至少一种。另外,本发明的加工方法的特征在于,使用具有与所述曲面相对应的形状的研磨面的研磨加工工具以与被研磨加工物的曲面均匀地接触,从而加工被研磨加工物的曲面。
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