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公开(公告)号：CN111132931B
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN201880061822.7
申请日：2018-09-28
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C01B32/956 , C09C1/28 , C09C3/06
Abstract: 根据本发明，提供一种制造覆氢氧化铝的SiC颗粒粉体的方案，所述覆氢氧化铝的SiC颗粒粉体在SiC颗粒的表面具有包含氢氧化铝的覆盖层。本发明涉及一种覆氢氧化铝的SiC颗粒粉体的制造方法，其具备覆盖工序：将包含SiC颗粒、铝酸钠和水的分散体的pH维持为9～12的范围，形成在SiC颗粒的表面具有包含氢氧化铝的覆盖层的覆盖颗粒。
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公开(公告)号：CN105451938A
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201480044902.3
申请日：2014-08-06
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: B24B9/00 , B24B37/11 , B24D13/12 , H01L21/304
Abstract: 本发明涉及一种具有特定的形状的被研磨加工物的研磨加工方法，特别是涉及一种为了高效且均匀地研磨加工被研磨加工物的曲面而使用了以包括具有与该曲面形状相对应的形状的研磨面的研磨垫为特征的研磨加工工具的研磨加工方法。本发明的研磨加工工具的特征在于，包括具有与所述曲面相对应的形状的研磨面的研磨垫以与被研磨加工物的曲面均匀地接触。优选的是，研磨垫的硬度以肖氏A硬度计为5以上，表面材质包括织物、无纺布、无纺布的树脂加工品、合成皮革、合成树脂发泡体、这些材质的复合品中的至少一种。另外，本发明的加工方法的特征在于，使用具有与所述曲面相对应的形状的研磨面的研磨加工工具以与被研磨加工物的曲面均匀地接触，从而加工被研磨加工物的曲面。
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公开(公告)号：CN112739664B
公开(公告)日：2023-07-21
申请号：CN201980061962.9
申请日：2019-06-13
Applicant: 福吉米株式会社 , 国立大学法人京都大学
IPC: C04B35/565 , C04B35/577 , C04B35/628 , C04B35/80
Abstract: 本发明提供：包含烧结助剂和碳化硅颗粒的组合物的烧结体和包含其的成型体中能改善密度和机械强度的方案。本发明涉及一种覆盖碳化硅颗粒粉体，其包含：碳化硅颗粒、和覆盖前述碳化硅颗粒的覆盖层，前述覆盖层包含铝元素，前述碳化硅颗粒的每单位表面积的前述铝元素的质量为0.5mg/m2以上。
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公开(公告)号：CN109071238A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201780021276.X
申请日：2017-03-29
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C01B33/149
Abstract: 本发明提供：在包括使用硅烷偶联剂来使原料二氧化硅改性的阳离子改性二氧化硅分散体的制造中，能够抑制硅烷偶联剂的添加时、添加后的凝胶化的发生，且在使用了具有高二氧化硅浓度的二氧化硅原料的情况下也能够将充足量的阳离子性基团导入二氧化硅颗粒的表面的手段。相对于zeta电位显示出负值的二氧化硅原料，添加具有阳离子性基团的硅烷偶联剂，使前述二氧化硅原料与前述硅烷偶联剂反应而得到阳离子改性二氧化硅。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112739664A
公开(公告)日：2021-04-30
申请号：CN201980061962.9
申请日：2019-06-13
Applicant: 福吉米株式会社 , 国立大学法人京都大学
IPC: C04B35/565 , C04B35/577 , C04B35/628 , C04B35/80
Abstract: 本发明提供：包含烧结助剂和碳化硅颗粒的组合物的烧结体和包含其的成型体中能改善密度和机械强度的方案。本发明涉及一种覆盖碳化硅颗粒粉体，其包含：碳化硅颗粒、和覆盖前述碳化硅颗粒的覆盖层，前述覆盖层包含铝元素，前述碳化硅颗粒的每单位表面积的前述铝元素的质量为0.5mg/m2以上。
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公开(公告)号：CN111132931A
公开(公告)日：2020-05-08
申请号：CN201880061822.7
申请日：2018-09-28
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C01B32/956 , C09C1/28 , C09C3/06
Abstract: 根据本发明，提供一种制造覆氢氧化铝的SiC颗粒粉体的方案，所述覆氢氧化铝的SiC颗粒粉体在SiC颗粒的表面具有包含氢氧化铝的覆盖层。本发明涉及一种覆氢氧化铝的SiC颗粒粉体的制造方法，其具备覆盖工序：将包含SiC颗粒、铝酸钠和水的分散体的pH维持为9～12的范围，形成在SiC颗粒的表面具有包含氢氧化铝的覆盖层的覆盖颗粒。
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公开(公告)号：CN113365964B
公开(公告)日：2023-07-21
申请号：CN201980090295.7
申请日：2019-12-05
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C04B35/628 , C01F7/141 , C01F7/44
Abstract: 本发明提供：具有至少在表面包含能形成无机氧化物的无机物的无机颗粒、和覆盖无机颗粒的覆盖层的覆盖颗粒，其能良好地发挥高分散性、高机械特性等该无机颗粒、该覆盖层的构成材料原本所具有的特性。本发明涉及一种覆盖颗粒，其包含：至少在表面包含能形成无机氧化物的无机物的无机颗粒、和覆盖前述无机颗粒的覆盖层，前述无机颗粒的每单位表面积的前述无机氧化物的量不超过0.150mg/m2。
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公开(公告)号：CN109071238B
公开(公告)日：2023-04-04
申请号：CN201780021276.X
申请日：2017-03-29
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C01B33/149
Abstract: 本发明提供：在包括使用硅烷偶联剂来使原料二氧化硅改性的阳离子改性二氧化硅分散体的制造中，能够抑制硅烷偶联剂的添加时、添加后的凝胶化的发生，且在使用了具有高二氧化硅浓度的二氧化硅原料的情况下也能够将充足量的阳离子性基团导入二氧化硅颗粒的表面的手段。相对于zeta电位显示出负值的二氧化硅原料，添加具有阳离子性基团的硅烷偶联剂，使前述二氧化硅原料与前述硅烷偶联剂反应而得到阳离子改性二氧化硅。
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公开(公告)号：CN113365964A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN201980090295.7
申请日：2019-12-05
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C04B35/628 , C01B13/14 , C01B32/956 , C09C1/28 , C09C3/06 , C09D17/00 , C01F7/02 , C01F7/44 , C04B35/565
Abstract: 本发明提供：具有至少在表面包含能形成无机氧化物的无机物的无机颗粒、和覆盖无机颗粒的覆盖层的覆盖颗粒，其能良好地发挥高分散性、高机械特性等该无机颗粒、该覆盖层的构成材料原本所具有的特性。本发明涉及一种覆盖颗粒，其包含：至少在表面包含能形成无机氧化物的无机物的无机颗粒、和覆盖前述无机颗粒的覆盖层，前述无机颗粒的每单位表面积的前述无机氧化物的量不超过0.150mg/m2。
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