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公开(公告)号：CN114114475B
公开(公告)日：2023-01-03
申请号：CN202111485771.0
申请日：2021-12-07
申请人： 湖北久之洋红外系统股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种用于硒化锌基片的高附着力高表面质量的增透膜及其制备方法和应用。该增透膜依次包括第一硫化锌层、硒化锌层、第二硫化锌层、氟化镱层和第三硫化锌层，其中第一硫化锌层厚度为5‑15nm，硒化锌层厚度为150‑600nm，第二硫化锌层厚度为5‑15nm，氟化镱层厚度为500‑1600nm，第三硫化锌层厚度为10‑20nm。其制备方法为：将预处理后的基片表面依次镀制第一硫化锌层、硒化锌层、第二硫化锌层、氟化镱层和第三硫化锌层即得增透膜。该增透膜与硒化锌基片附着力优异，膜层表面没有毫米级花斑现象，表面质量高，使用寿命长，可广泛应用于红外硒化锌透镜、硒化锌棱镜等军用和民用光学零件制造领域。
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公开(公告)号：CN114114490A
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202111476204.9
申请日：2021-12-06
申请人： 湖北久之洋红外系统股份有限公司
IPC分类号： G02B5/08 , G02B1/14 , C23C14/08 , C23C14/10 , C23C14/12 , C23C14/16 , C23C14/18 , C23C14/22 , C23C14/30
摘要： 本发明公开了一种超低应力耐久性金属反射膜及其制备方法和应用。该金属反射膜，依次包括Cr膜层、Al或Ag反射层、介质保护层或增强层和防潮防霉憎水膜层，其中Cr膜层的厚度为10～50nm；当选择Ag膜层时，Cr膜层和Al膜层之间还包括Cu膜层。其制备为：基片进行基础清洗和离子束清洗，然后依次镀制Cr膜层、Al反射层(或Cu膜层和Ag反射层)、介质保护层或增强层、防潮防霉憎水膜，即得金属反射膜。该反射膜全膜系膜层应力低，膜层应力可调控，薄膜附着力、耐摩擦和环境稳定性优良，同时可根据光学元件的需求实现宽波段高反，且反射率高，可以广泛应用于对光学元件面形精度要求高、成像像质要求高的光学系统中。
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公开(公告)号：CN114107890A
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202111434690.8
申请日：2021-11-29
申请人： 湖北久之洋红外系统股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种用于红外光学窗口表面的高硬度SiCN增透保护薄膜及其制备方法。通过非平衡反应磁控溅射技术制备得到，具体为：在真空度3×10‑3～5×10‑3mbar、工作温度300～500℃、电源功率2000～2300W的条件下，以流量为5～10sccm的N2为前驱气体、流量为30～45sccm的Ar为工作气体，靶基距220～270mm，反应溅射高纯SiC靶，沉积3500～4300s制备高硬度SiCN增透保护薄膜。所得保护薄膜折射率可根据红外光学窗口所需进行调控，在目标波段有较高的光学透过率，同时具有高硬度、抗砂尘、磨损、雨蚀等恶劣环境能力，具有广泛的应用前景。
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公开(公告)号：CN115710686B
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202211572790.1
申请日：2022-12-08
摘要： 本发明公开了一种高附着力Cu薄膜电极，由下至上依次为光学基片、电加热膜、过渡连接层、Cu薄膜；所述过渡连接层采用金属铬膜，厚度为12nm～15nm；本发明所得金属薄膜电极具有优良牢固度，和光学基片表面膜层的附着力优良；可以实现膜层焊接不穿孔脱落、电阻值低，易于在其表面采用焊接的方式连接引线，且多次通电稳定可靠，环境适应性好；形状和轮廓可以根据设计要求进行定制，设计合适结构的镀膜治具即可实现各种形状金属薄膜电极的镀制。
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公开(公告)号：CN114114490B
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202111476204.9
申请日：2021-12-06
申请人： 湖北久之洋红外系统股份有限公司
IPC分类号： G02B5/08 , G02B1/14 , C23C14/08 , C23C14/10 , C23C14/12 , C23C14/16 , C23C14/18 , C23C14/22 , C23C14/30
摘要： 本发明公开了一种超低应力耐久性金属反射膜及其制备方法和应用。该金属反射膜，依次包括Cr膜层、Al或Ag反射层、介质保护层或增强层和防潮防霉憎水膜层，其中Cr膜层的厚度为10～50nm；当选择Ag膜层时，Cr膜层和Al膜层之间还包括Cu膜层。其制备为：基片进行基础清洗和离子束清洗，然后依次镀制Cr膜层、Al反射层(或Cu膜层和Ag反射层)、介质保护层或增强层、防潮防霉憎水膜，即得金属反射膜。该反射膜全膜系膜层应力低，膜层应力可调控，薄膜附着力、耐摩擦和环境稳定性优良，同时可根据光学元件的需求实现宽波段高反，且反射率高，可以广泛应用于对光学元件面形精度要求高、成像像质要求高的光学系统中。
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公开(公告)号：CN117872513B
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202410282201.9
申请日：2024-03-13
摘要： 本发明提供了一种中波红外高透过率疏水光学元件及其制备方法，中波红外高透过率疏水光学元件包括基底和设置在基底表面的中波红外高透过率疏水薄膜，中波红外高透过率疏水薄膜由全氟辛基三乙氧基硅烷改性的多孔二氧化硅纳米颗粒与交联剂混合得到的疏水涂料涂覆在所述基底表面并烘干固化制得。该中波红外高透过率疏水光学元件的疏水性能好，且在中波红外波段透过率高。
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公开(公告)号：CN117702052A
公开(公告)日：2024-03-15
申请号：CN202311725334.0
申请日：2023-12-15
摘要： 本发明提供了一种耐压型蓝宝石窗口三波段增透膜及其制备方法，制备方法包括如下步骤：蓝宝石基片的镀膜前准备及离子刻蚀清洗；离子束溅射交替镀制二氧化硅和氧化钽：开启双离子源，主离子源：束压1150V~1250V，束流850A~950A，加速电压350V~450V，次离子源：束压240V~260V，束流180A~220A，加速电压480V~520V，靶材氧气流量：二氧化硅沉积时28sccm~32sccm，氧化钽沉积时38sccm~42sccm；镀膜结束后，进行热处理；离子刻蚀后镀制全氟聚醚聚合物膜层。本发明的方法显著提升了增透膜的耐压性能，使得膜层对于海洋环境的适应性提升。
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公开(公告)号：CN116056437A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202211573651.0
申请日：2022-12-08
申请人： 湖北久之洋红外系统股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种随机结构金属网栅电磁屏蔽薄膜设计及制备方法，其在二维平面生成规则周期点阵；对规则周期点阵中的每个点做随机扰动，得到非规则随机点阵；将随机点阵分割为Delaunay三角网，划分为泰森多边形，得到随机结构金属网栅图案；检查随机结构金属网栅的结构参数是否达到预期标准，包括网孔随机程度、光学透过率、次级衍射分布和电磁屏蔽效能；若没有达到标准，则重复进行规则周期点阵的随机扰动和泰森多边形划分，直至达到预期标准；本发明设计并制备了一种随机结构金属网栅电磁屏蔽薄膜，易于设计和加工，还可根据光学系统对光学性能和电磁屏蔽效能的具体要求对随机结构金属网栅的结构参数进行针对性调整，可应用于不同的工况环境。
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公开(公告)号：CN117872513A
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202410282201.9
申请日：2024-03-13
摘要： 本发明提供了一种中波红外高透过率疏水光学元件及其制备方法，中波红外高透过率疏水光学元件包括基底和设置在基底表面的中波红外高透过率疏水薄膜，中波红外高透过率疏水薄膜由全氟辛基三乙氧基硅烷改性的多孔二氧化硅纳米颗粒与交联剂混合得到的疏水涂料涂覆在所述基底表面并烘干固化制得。该中波红外高透过率疏水光学元件的疏水性能好，且在中波红外波段透过率高。
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