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公开(公告)号：CN117761889A
公开(公告)日：2024-03-26
申请号：CN202311723423.1
申请日：2023-12-13
摘要： 本发明公开了一种反射式中长波双波段共消旋共反扫光学系统，包括卡赛格林反射系统、共光路前组、DT棱镜、二维快反镜以及中波后组和长波后组；其中：物方成像光束经过卡赛格林反射系统后一次成像，经过共光路前组形成的望远系统后，再经过DT棱镜、二维反扫镜、后组共用组后到达分光镜，该分光镜45°放置，通过该分光镜透射长波，反射中波；经分光镜反射的中波光束经过中波后组后成像在中波探测器上；经分光镜透射的长波光束经过长波后组后成像在长波探测器上。本发明大大降低了光学系统的复杂程度，结构紧凑。
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公开(公告)号：CN114114490B
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202111476204.9
申请日：2021-12-06
申请人： 湖北久之洋红外系统股份有限公司
IPC分类号： G02B5/08 , G02B1/14 , C23C14/08 , C23C14/10 , C23C14/12 , C23C14/16 , C23C14/18 , C23C14/22 , C23C14/30
摘要： 本发明公开了一种超低应力耐久性金属反射膜及其制备方法和应用。该金属反射膜，依次包括Cr膜层、Al或Ag反射层、介质保护层或增强层和防潮防霉憎水膜层，其中Cr膜层的厚度为10～50nm；当选择Ag膜层时，Cr膜层和Al膜层之间还包括Cu膜层。其制备为：基片进行基础清洗和离子束清洗，然后依次镀制Cr膜层、Al反射层(或Cu膜层和Ag反射层)、介质保护层或增强层、防潮防霉憎水膜，即得金属反射膜。该反射膜全膜系膜层应力低，膜层应力可调控，薄膜附着力、耐摩擦和环境稳定性优良，同时可根据光学元件的需求实现宽波段高反，且反射率高，可以广泛应用于对光学元件面形精度要求高、成像像质要求高的光学系统中。
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公开(公告)号：CN115877559A
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202211547525.8
申请日：2022-12-05
摘要： 本发明公开了一种折反组合长焦距多档变焦可见光与微光光学系统，从物方到像方依次包括反射式物镜组、目镜组、变倍组、补偿组、后固定组、折转反射镜、滤光片组、旋转反射镜和探测器；反射式物镜组、目镜组、变倍组、补偿组、后固定组、折转反射镜、滤光片组和旋转反射镜为可见光和微光光学系统共用组；通过旋转反射镜绕Y轴旋转90°实现可见光和微光光学系统的分时成像；成像通道采用二次成像后组变焦结构形式，通过反射式物镜组将光线口径大幅压缩，在二次成像后组用小口径的变倍组和补偿组的透镜沿光轴轴向运动实现变焦，减小体积和重量。本发明在极小的空间内实现了超长焦距大口径变焦光学系统的设计，大幅度减小了光学系统的体积和重量。
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公开(公告)号：CN117872677A
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202410275870.3
申请日：2024-03-12
摘要： 本发明提供了一种随机结构金属网栅电磁屏蔽薄膜的制备方法，包括如下步骤：S1.对基底表面进行清洗；S2.在基底表面先后形成负性光刻胶层和正性光刻胶层；S3.使用真空接触式掩膜曝光技术，曝光随机结构金属网栅图案并显影，使正性光刻胶层和负性光刻胶层上分别形成上下连通的纵截面为倒梯形的第一显影窗口和纵截面为矩形的第二显影窗口，第二显影窗口的宽度大于第一显影窗口底面的宽度，使第一显影窗口和第二显影窗口的纵截面呈倒“T”型；S4.在显影后的基底表面镀制金属薄膜，并剥离，得到随机结构金属网栅电磁屏蔽薄膜。该制备方法能在大面积的任意形状平面基底上制备线宽2μm的随机结构金属网栅，制备精度高。
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公开(公告)号：CN114114490A
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202111476204.9
申请日：2021-12-06
申请人： 湖北久之洋红外系统股份有限公司
IPC分类号： G02B5/08 , G02B1/14 , C23C14/08 , C23C14/10 , C23C14/12 , C23C14/16 , C23C14/18 , C23C14/22 , C23C14/30
摘要： 本发明公开了一种超低应力耐久性金属反射膜及其制备方法和应用。该金属反射膜，依次包括Cr膜层、Al或Ag反射层、介质保护层或增强层和防潮防霉憎水膜层，其中Cr膜层的厚度为10～50nm；当选择Ag膜层时，Cr膜层和Al膜层之间还包括Cu膜层。其制备为：基片进行基础清洗和离子束清洗，然后依次镀制Cr膜层、Al反射层(或Cu膜层和Ag反射层)、介质保护层或增强层、防潮防霉憎水膜，即得金属反射膜。该反射膜全膜系膜层应力低，膜层应力可调控，薄膜附着力、耐摩擦和环境稳定性优良，同时可根据光学元件的需求实现宽波段高反，且反射率高，可以广泛应用于对光学元件面形精度要求高、成像像质要求高的光学系统中。
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公开(公告)号：CN117826386A
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202311726864.7
申请日：2023-12-13
申请人： 湖北久之洋红外系统股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种150倍超大变倍比中波红外光学系统，包括卡赛格林反射系统、调焦组、连续变焦前组、连续变焦后固定组、连续变焦切换组、长焦后组和超长焦后组；物方成像光束依次经过连续变焦前组、连续变焦后固定组、连续变焦切换组成像在探测器上，构成短中焦连续变焦通道，焦距范围10mm～150mm；物方成像光束经过卡赛格林反射系统一次成像，再经过调焦组入射，若连续变焦切换组切出光路，长焦后组切入光路，构成长焦光学通道，焦距为1000mm；若连续变焦切换组、长焦后组切出光路，超长焦后组切入光路，则构成超长焦光学通道，焦距为1500mm。本发明具有大口径、长焦距、大视场的特点，三通道均具有良好的成像质量。
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公开(公告)号：CN116009238A
公开(公告)日：2023-04-25
申请号：CN202211603306.7
申请日：2022-12-13
摘要： 本发明公开了一种二维旋转带杂光抑制的光路切换装置，俯仰切换电机带动切换反射镜相对于水平面在俯仰0°和135°之间切换，方位切换电机带动切换反射镜相对于主架安装底面在方位0°和90°之间切换，在俯仰切换的两个极限位均设有俯仰限位开关组件和俯仰限位磁铁组件，在方位切换的两个极限位均设有方位限位开关组件和方位限位磁铁组件；当切换反射镜位于俯仰0°、方位0°时为切出光路状态，切换反射镜背面面向主光路，切换反射镜背面的黑漆对主光路的杂光抑制，当切换反射镜位于俯仰135°、方位90°时为切入光路状态，入射光通过切换反射镜反射而不通过主光路。本发明不对离轴反射主光路造成遮挡、带杂光抑制，重复定位精度高。
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公开(公告)号：CN114114583A
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202111489831.6
申请日：2021-12-08
申请人： 湖北久之洋红外系统股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种适用于高低温光学检测的高面形精度双层真空窗口，包括圆筒形的腔体，腔体的两端均设有内端面和内螺纹、侧壁设有平面凸台，两个石英窗口作为圆形平面透镜分别配合的密封粘接在腔体两端的内端面上，两个压圈分别与腔体两端的内螺纹配合从而压紧石英窗口，平面凸台上设有真空标准刀口和与腔体内壁连通的通孔，真空标准刀口通过密封圈与用于抽真空的金属阀门密封连接，金属阀门外接抽真空设备将腔体抽取超高真空后关闭。本发明采用双层真空窗口，为高低温下对光学系统波前误差进行干涉测量提供了无气流扰动、不凝露的窗口，而且加工难度低、装调时间短、适配性强。
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