本发明公开了一种随机结构金属网栅电磁屏蔽薄膜设计及制备方法，其在二维平面生成规则周期点阵；对规则周期点阵中的每个点做随机扰动，得到非规则随机点阵；将随机点阵分割为Delaunay三角网，划分为泰森多边形，得到随机结构金属网栅图案；检查随机结构金属网栅的结构参数是否达到预期标准，包括网孔随机程度、光学透过率、次级衍射分布和电磁屏蔽效能；若没有达到标准，则重复进行规则周期点阵的随机扰动和泰森多边形划分，直至达到预期标准；本发明设计并制备了一种随机结构金属网栅电磁屏蔽薄膜，易于设计和加工，还可根据光学系统对光学性能和电磁屏蔽效能的具体要求对随机结构金属网栅的结构参数进行针对性调整，可应用于不同的工况环境。