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公开(公告)号：CN117213391A
公开(公告)日：2023-12-12
申请号：CN202310390333.9
申请日：2023-04-13
Applicant: 法博思(宁波)半导体设备有限公司 , 上海电机学院
Abstract: 本发明公开了一种基于空间载波技术的最优系统误差设计方法，包括以下步骤：S1、获取待测镜待测表面的PV值；S2、令系统回程误差OPD所占权重与待测表面PV值所占权重相等，误差范围在±15％之间；S3、计算待测镜相对于参考镜的最优倾角α；S4、计算最优倾角α所对应的最优载波条纹数N。本发明采用上述的一种基于空间载波技术的最优系统误差设计方法，可以针对不同类型、不同规格的待测镜引入不同数量的载波条纹，将系统回程误差控制在合理范围内，使后续相位提取过程中既不会出现频谱混叠，又尽可能的保留了更多的面形信息，提升了利用SPSI技术测量面形的精度。
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公开(公告)号：CN119714121B
公开(公告)日：2025-05-16
申请号：CN202510213599.5
申请日：2025-02-26
Applicant: 法博思(宁波)半导体设备有限公司
Abstract: 本申请公开了一种基于多信号相位提取的两平面绝对面形检测方法及装置，涉及光学干涉测量技术领域，利用初始位置的波前相位分布数据和多个旋转后的波前相位分布数据的平均值，得到旋转非对称误差；然后将参考镜沿着X轴平移，并测量平移后的波前相位分布数据，根据平移后的波前相位分布数据得出旋转对称误差，将旋转对称误差和与旋转非对称误差进行结合即可到所求解的面形误差。本申请提供的一种基于多信号相位提取的两平面绝对面形检测方法及装置消除了待测镜翻转所带来的误差，提高了测量精度，简化了测量步骤，且提高了面形检测的稳定性。
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公开(公告)号：CN119714121A
公开(公告)日：2025-03-28
申请号：CN202510213599.5
申请日：2025-02-26
Applicant: 法博思(宁波)半导体设备有限公司
Abstract: 本申请公开了一种基于多信号相位提取的两平面绝对面形检测方法及装置，涉及光学干涉测量技术领域，利用初始位置的波前相位分布数据和多个旋转后的波前相位分布数据的平均值，得到旋转非对称误差；然后将参考镜沿着X轴平移，并测量平移后的波前相位分布数据，根据平移后的波前相位分布数据得出旋转对称误差，将旋转对称误差和与旋转非对称误差进行结合即可到所求解的面形误差。本申请提供的一种基于多信号相位提取的两平面绝对面形检测方法及装置消除了待测镜翻转所带来的误差，提高了测量精度，简化了测量步骤，且提高了面形检测的稳定性。
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公开(公告)号：CN119687777A
公开(公告)日：2025-03-25
申请号：CN202510220383.1
申请日：2025-02-27
Applicant: 法博思(宁波)半导体设备有限公司
IPC: G01B9/02
Abstract: 本申请公开了一种基于移相分布收敛准则的图像重组与筛选方法及装置，通过获取多组干涉图像，将每组干涉图像的每帧图像映射到预定义的移相量目标值集合中，得到映射函数，然后采用移相收敛策略进行初级、次级、三级、四级和多级筛选，逐步优化，以筛选出移相分布最为准确的组合，在筛选过程中计算MAD指标评估像素点的移相准确性，根据离散系数评估多级筛选结果的整体移相数据集中度，从而确定出符合预设精度要求的干涉图组合。本申请提供的一种基于移相分布收敛准则的图像重组与筛选方法及装置不仅提高了相位测量的准确性，而且通过减少对复杂算法的依赖，降低了计算成本；此外，该方法的自适应筛选机制使其能够在多变的测量环境中保持高效。
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公开(公告)号：CN117128877B
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202311394444.3
申请日：2023-10-26
Applicant: 法博思(宁波)半导体设备有限公司
IPC: G01B11/06
Abstract: 本申请公开了一种薄膜厚度检测方法、计算机及系统，涉及光学薄膜厚度测量技术领域，方法包括：通过获取光源的波长范围以及薄膜样品的折射率函数得到所有仿真反射光谱曲线和所有仿真反射光谱曲线的零点；采集实测反射光谱，并将实测反射光谱进行分解得到实测反射光谱Imf2分量的所有零点；根据评价函数获取所有仿真反射光谱曲线的零点中与实测反射光谱Imf2分量的所有零点差异最小的一组，并得到薄膜样品的实测厚度；获取CCD相机采集到的干涉图中的条纹个数；根据厚度校正公式校正薄膜样品的实测厚度，得到最终厚度。本申请提供的薄膜厚度检测方法、计算机及系统在测量厚度小于1mm的薄膜时，不仅精度高，而且还具备强大的稳定性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119164283B
公开(公告)日：2025-03-18
申请号：CN202411649564.8
申请日：2024-11-19
Applicant: 法博思(宁波)半导体设备有限公司
IPC: G01B9/02015
Abstract: 本发明提供了一种斐索干涉仪及干涉测量系统，涉及激光相干技术领域，该斐索干涉仪包括沿光的传播方向依次设置的激光器、偏振分光棱镜、准直镜、参考镜和测试镜，还包括成像系统；偏振分光棱镜与参考镜之间设置有四分之一波片，四分之一波片倾斜设置。该斐索干涉仪采用了偏振分光棱镜和四分之一波片，偏振分光棱镜具有对P偏振光/S偏振光的截光能力，可以消除分光棱镜本身产生的杂光，四分之一波片的倾斜设置可以减少四分之一波片本身产生的杂光，因此，该斐索干涉仪降低了杂光的影响。
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公开(公告)号：CN118758210B
公开(公告)日：2025-01-24
申请号：CN202410956705.4
申请日：2024-07-17
Applicant: 法博思(宁波)半导体设备有限公司
IPC: G01B11/24
Abstract: 本申请公开了一种基于多表面形貌测量的最小二乘迭代模型抗振方法及装置，涉及光学干涉测量技术领域，通过获取混叠干涉图组，利用快速傅里叶变换分离混叠干涉图组中每个像素所包含的信号，并进行解析得到不同表面的初始相位；根据初始相位和初始移相量计算变化补偿因子；根据最小二乘法拟合方法和变化补偿因子计算干涉条纹强度公式中的未知参数；根据最小二乘法拟合方法和未知参数计算移相量；根据移相量判断是否达到迭代精度，若达到迭代精度，则输出相位值；若未达到迭代精度，则继续进行迭代。本申请解决了现有技术利用波长移相技术测量透明元件多表面形貌时检测精度低和干涉图像质量差的问题，提高了透明元件多表面形貌的测量精度。
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公开(公告)号：CN119164283A
公开(公告)日：2024-12-20
申请号：CN202411649564.8
申请日：2024-11-19
Applicant: 法博思(宁波)半导体设备有限公司
IPC: G01B9/02015
Abstract: 本发明提供了一种斐索干涉仪及干涉测量系统，涉及激光相干技术领域，该斐索干涉仪包括沿光的传播方向依次设置的激光器、偏振分光棱镜、准直镜、参考镜和测试镜，还包括成像系统；偏振分光棱镜与参考镜之间设置有四分之一波片，四分之一波片倾斜设置。该斐索干涉仪采用了偏振分光棱镜和四分之一波片，偏振分光棱镜具有对P偏振光/S偏振光的截光能力，可以消除分光棱镜本身产生的杂光，四分之一波片的倾斜设置可以减少四分之一波片本身产生的杂光，因此，该斐索干涉仪降低了杂光的影响。
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公开(公告)号：CN118565329B
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202410854988.1
申请日：2024-06-28
Applicant: 法博思(宁波)半导体设备有限公司
Abstract: 本申请公开了一种跨区域相位解包裹方法、装置及计算机可读存储介质，涉及光学干涉检测技术领域，通过选取最大面积的连通区域做相位解包运算，对解包结果进行Zernike多项式展开，获取前四项Zernike展开项及各项对应的系数，根据前四项Zernike展开项及各项对应的系数在待解包裹区域内进行平面拟合，得到拟合标准平面，并确定每个连通区域的相位解包结果与拟合标准平面之间的周期数差异，将每个连通区域的相位解包结果与其对应的周期数差异进行相加，得到最终的跨区域相位解包结果。本申请解决了不连续表面的相位解包问题，通过本申请提供的方法对不连续表面进行相位解包裹，可以获得最终完整且准确的相位解包裹结果。
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公开(公告)号：CN116810636A
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202310529611.4
申请日：2023-05-11
Applicant: 法博思(宁波)半导体设备有限公司
Abstract: 本发明公开了一种含衬底的半导体硅片的研磨厚度控制方法及装置，一种含衬底的半导体硅片的研磨厚度控制方法包括在对待研磨硅片的硅片层进行研磨的情况下，获取接触式探头探测的第一数值和非接触式红外探头探测的第二数值，其中，所述待研磨硅片包括衬底层和所述硅片层，所述第一数值为待研磨硅片的总厚度，所述第二数值为所述硅片层的光程；在所述第一数值或者所述第二数值满足第一预设条件的情况下，停止对所述硅片层的研磨，得到目标研磨硅片。
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