半导体式差压测量装置
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1052538C

    公开(公告)日:2000-05-17

    申请号:CN93117514.3

    申请日:1993-09-10

    Abstract: 一种含有其两侧设有测量室的测量膜片的半导体式差压测量装置,包括第一室与第一室连通的第一连通孔、凹形部分、第二连通孔、应变检出元件,还包括设置在硅基片上的第二室及一个支承基片。该装置在允许的测量检限内检出差压,但当施加过压时,测量膜片直接由测量室的壁支持以防止膜片被过压所损坏。因此,该装置不需要抗过压的附加保护机构。

Patent Agency Ranking