公开(公告)号：CN109715601B

公开(公告)日：2022-02-25

申请号：CN201780053070.5

申请日：2017-07-05

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 吉野智晴 ,  远津正挥 ,  西田章浩 ,  山下敦史

IPC: C07C251/08 ,  C23C16/18 ,  C07F15/04

公开(公告)号：CN109923119A

公开(公告)日：2019-06-21

申请号：CN201780068589.0

申请日：2017-10-05

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 吉野智晴 ,  冈田奈奈 ,  西田章浩 ,  山下敦史

IPC: C07F15/06 ,  C07C257/14 ,  C23C16/18

Abstract: 本发明涉及薄膜形成用原料，其含有下述通式(1)表示的化合物(式中，R1表示碳数1～5的直链或支链状的烷基，R2表示氢或碳数1～5的直链或支链状的烷基，R3和R4各自独立地表示碳数1～5的直链或支链状的烷基，A表示碳数1～4的链烷二基，M表示铜、铁、镍、钴或锰。)

公开(公告)号：CN111943978B

公开(公告)日：2025-01-14

申请号：CN202010407574.6

申请日：2020-05-14

Applicant: 三星电子株式会社 ,  株式会社ADEKA

Inventor： 柳承旻 ,  斋藤昭夫 ,  小出幸宜 ,  山下敦史 ,  原野一树 ,  朴圭熙 ,  李沼姈 ,  林载顺 ,  曹仑廷

IPC: C07F9/00 ,  H01L21/3205

Abstract: 本文中描述了金属化合物和使用其制造半导体器件的方法。所述金属化合物包括化学式1的材料，其中M为Nb或Ta；R为取代或未取代的C3‑C10烷基；和X1、X2、X3、X4和X5各自独立地选自F、Cl、Br和I。[化学式1]#imgabs0#

公开(公告)号：CN116323880A

公开(公告)日：2023-06-23

申请号：CN202180065994.3

申请日：2021-09-22

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 山下敦史 ,  根津亨 ,  城户裕喜 ,  西泽大树 ,  生井杏那

IPC: C11B3/14

Abstract: 本发明提供一种能够得到降低了缩水甘油类的含量，并且风味良好的油脂的食用油脂的制造方法。本发明提供：包含满足以下的条件(I)和(II)的连续脱臭工序的、缩水甘油类的含量为1.5质量ppm以下的食用油脂的制造方法。(I)连续进行脱臭处理2次以上；(II)脱臭处理中的油脂温度均为200℃以上，并且第n+1次脱臭处理的油脂温度比第n次脱臭处理的油脂温度低10℃以上。

公开(公告)号：CN116113327A

公开(公告)日：2023-05-12

申请号：CN202180053908.7

申请日：2021-09-02

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 城户裕喜 ,  山下敦史 ,  茂木和之

IPC: A23G1/36

Abstract: 本发明提供：在抑制随时间推移的反霜现象的发生的同时，得到呈现良好的口溶性的油性点心的非调质型硬质黄油组合物。该非调质型硬质黄油组合物满足下述条件(1)～(3)。条件(1)：25℃下的SFC为27～67％。条件(2)：构成甘油三酯中的、三饱和甘油三酯的含量为20～65质量％。条件(3)：三饱和甘油三酯中的、含有月桂酸残基(La)的混酸型三饱和甘油三酯(LaSS)的含量为51～65质量％，其中，S表示碳原子数16以上的饱和脂肪酸残基。

公开(公告)号：CN109923119B

公开(公告)日：2022-03-18

申请号：CN201780068589.0

申请日：2017-10-05

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 吉野智晴 ,  冈田奈奈 ,  西田章浩 ,  山下敦史

IPC: C07F15/06 ,  C07C257/14 ,  C23C16/18

Abstract: 本发明涉及薄膜形成用原料，其含有下述通式(1)表示的化合物(式中，R1表示碳数1～5的直链或支链状的烷基，R2表示氢或碳数1～5的直链或支链状的烷基，R3和R4各自独立地表示碳数1～5的直链或支链状的烷基，A表示碳数1～4的链烷二基，M表示铜、铁、镍、钴或锰。)

公开(公告)号：CN116210072A

公开(公告)日：2023-06-02

申请号：CN202180053507.1

申请日：2021-08-23

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 青木雄太郎 ,  木村将之 ,  山下敦史

IPC: H01L21/302

Abstract: 蚀刻方法，是通过原子层蚀刻法对含有基体和在其表面形成的金属氧化膜的层叠体中的该金属氧化膜进行蚀刻的方法，其具有：在收容了该层叠体的处理气氛内导入选自醇化合物、醛化合物及酯化合物中的至少一种的被氧化性化合物的第1工序；和在该第1工序后在该处理气氛内导入氧化性气体的第2工序。

公开(公告)号：CN114761524A

公开(公告)日：2022-07-15

申请号：CN202080064618.8

申请日：2020-10-23

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 城户裕喜 ,  西泽大树 ,  山下敦史 ,  茂木和之 ,  根津亨

IPC: C11B3/10 ,  C11B3/14 ,  A23D9/02

Abstract: 本发明提供能够效率良好地得到MCPD类、缩水甘油类的含量得到了充分降低的油脂的纯化油脂的制造方法。该纯化油脂的制造方法包含：使油脂与白土和沸石接触的接触处理。

公开(公告)号：CN113195784A

公开(公告)日：2021-07-30

申请号：CN201980082940.0

申请日：2019-12-03

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 樱井淳 ,  畑濑雅子 ,  吉野智晴 ,  西田章浩 ,  山下敦史

IPC: C23C16/18 ,  C23C16/40 ,  C23C16/455

Abstract: 一种原子层沉积法用薄膜形成原料，其含有由下述通式(1)表示的醇盐化合物。(式中，R1表示氢原子或碳原子数1～5的烷基。R2和R3分别独立地表示碳原子数1～5的烷基。z1表示1～3的整数。)

公开(公告)号：CN112789367A

公开(公告)日：2021-05-11

申请号：CN201980065368.7

申请日：2019-09-24

Applicant: 株式会社ADEKA

Inventor： 冈田奈奈 ,  吉野智晴 ,  山下敦史

IPC: C23C16/18 ,  C23C16/455 ,  H01L21/365

Abstract: 本发明的目的在于提供一种用于原子层沉积法的薄膜形成用原料，其含有下述通式(1)表示的化合物(式中，R1～R4各自独立地表示碳数1～5的烷基，A1表示碳数1～5的链烷二基)。