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公开(公告)号：CN118681843A
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202410335361.5
申请日：2024-03-22
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明涉及清洗装置、基板处理装置以及清洗方法。清洗装置具备：旋转支承部，该旋转支承部支承基板并使基板旋转；药液供给部，该药液供给部向所述基板的表面供给有机溶剂以外的药液；有机溶剂供给部，该有机溶剂供给部向所述基板的表面供给有机溶剂；以及清洗部件，该清洗部件使用来自所述药液供给部的药液清洗支承于所述旋转支承部的所述基板的表面，接着，在所述基板支承于所述旋转支承部的状态下使用来自所述有机溶剂供给部的有机溶剂清洗所述基板的表面。
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公开(公告)号：CN113948420A
公开(公告)日：2022-01-18
申请号：CN202110796911.X
申请日：2021-07-14
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供一种基板清洗装置、基板处理装置、基板清洗方法及喷嘴。基板清洗装置具备喷嘴，该喷嘴具有：与供给处理液的处理液供给部连接的第一供给口；与供给气体的气体供给部连接的第二供给口；与供给用于降低处理液的表面张力的表面张力抑制气体的表面张力抑制气体供给部连接的第三供给口；排出处理液的第一排出口；以在第一混合位置将气体和从第一排出口排出的处理液混合而生成第一混合流体的方式排出气体的第二排出口；及以在相比于第一混合位置与第一排出口相距的距离较远的第二混合位置，将第一混合流体和表面张力抑制气体混合而生成第二混合流体的方式排出表面张力抑制气体的第三排出口，该基板清洗装置利用第二混合流体的喷流来清洗基板。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113043158A
公开(公告)日：2021-06-29
申请号：CN202011560759.7
申请日：2020-12-25
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 一种清洗装置、研磨装置，清洗装置具备：清洗槽，该清洗槽划定对晶片进行清洗的清洗空间；晶片旋转机构，该晶片旋转机构配置在清洗槽的内侧，保持晶片并使晶片旋转；清洗部件，该清洗部件与晶片的表面接触并清洗晶片的表面，能够绕着在横向上延伸的中心轴线旋转，其轴线方向的长度比晶片的半径长；摆动机构，该摆动机构使清洗部件绕着位于清洗槽的内侧的摆动轴线摆动，从而使清洗部件从晶片的外侧的避让位置移动到晶片的正上方的清洗位置；第二清洗构件，该第二清洗构件清洗晶片的表面；以及第二摆动机构，该第二摆动机构使第二清洗构件绕着位于清洗槽的内侧的第二摆动轴线摆动并通过晶片的中心的正上方。
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公开(公告)号：CN102847688A
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN201210219903.X
申请日：2012-06-28
Applicant: 株式会社荏原制作所
CPC classification number: H01L21/67046 , B08B1/04
Abstract: 提供一种基板清洁方法，即使在基板表面的清洁区域中存在基板的旋转速度和辊清洁构件的旋转速度之间的相对速度为零的点（区域）时，该基板清洁方法能够利用辊清洁构件在整个表面上更均匀地清洁基板表面。基板清洁方法通过在保持辊清洁构件与基板表面接触的同时旋转基板和辊清洁构件，并利用沿着基板的直径方向延伸的辊清洁构件擦洗基板表面，基板清洁方法包括在擦洗清洁基板表面期间，改变基板和辊清洁构件中至少一个的旋转速度或者基板的旋转方向。
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公开(公告)号：CN113043158B
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202011560759.7
申请日：2020-12-25
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 一种清洗装置、研磨装置，清洗装置具备：清洗槽，该清洗槽划定对晶片进行清洗的清洗空间；晶片旋转机构，该晶片旋转机构配置在清洗槽的内侧，保持晶片并使晶片旋转；清洗部件，该清洗部件与晶片的表面接触并清洗晶片的表面，能够绕着在横向上延伸的中心轴线旋转，其轴线方向的长度比晶片的半径长；摆动机构，该摆动机构使清洗部件绕着位于清洗槽的内侧的摆动轴线摆动，从而使清洗部件从晶片的外侧的避让位置移动到晶片的正上方的清洗位置；第二清洗构件，该第二清洗构件清洗晶片的表面；以及第二摆动机构，该第二摆动机构使第二清洗构件绕着位于清洗槽的内侧的第二摆动轴线摆动并通过晶片的中心的正上方。
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公开(公告)号：CN114682547A
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202111590195.6
申请日：2021-12-23
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 提供一种基板清洗装置及基板的清洗方法。基板清洗装置具备：旋转机构，该旋转机构使基板旋转；清洗液供给喷嘴，该清洗液供给喷嘴向所述基板的表面喷出施加了超声波振动的清洗液；以及摆动机构，该摆动机构使所述清洗液供给喷嘴从所述基板的旋转中心附近朝向所述基板的外周端在比所述基板的半面窄的范围内摆动。
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公开(公告)号：CN301977250S
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201130478253.7
申请日：2011-12-09
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 1.本外观设计产品的名称为基板清洗用辊轴。2.本外观设计产品是用于插入到基板清洗用辊中的轴，所述基板清洗用辊用于对实施了研磨处理的基板(半导体晶片等)的表面上所附着的研磨屑等进行清洗。3.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。4.指定主视图为最能表明设计要点的视图。5.左视图与右视图是对称的；仰视图与俯视图是对称的。
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