公开(公告)号：CN111771260B

公开(公告)日：2024-07-19

申请号：CN201980014614.6

申请日：2019-02-15

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 石桥知淳

IPC: H01L21/304

Abstract: 提供清洗力较高的基板清洗装置和基板清洗方法。提供基板清洗装置，具备：基板旋转机构，该基板旋转机构使基板旋转；以及第一喷嘴和第二喷嘴，该第一喷嘴和第二喷嘴朝向旋转的所述基板的规定面喷射超声波清洗液，所述第一喷嘴与所述第二喷嘴保持于一个壳体。

公开(公告)号：CN107078046B

公开(公告)日：2020-11-27

申请号：CN201580058746.0

申请日：2015-10-20

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 石桥知淳

IPC: H01L21/304

Abstract: 本发明提供一种可清洗基板的最边缘部的基板清洗辊以及使用其的基板清洗装置。基板清洗装置(10)具备：主轴(11)，保持基板(S)；下部基板清洗辊(13)，具有圆柱形状，以长度方向与基板(S)的表面平行的方式接触基板(S)，并绕长度方向的旋转轴旋转，用于擦洗清洗基板(S)的表面；上下驱动机构，将下部基板清洗辊(13)按压于基板(S)的下侧表面使得长度方向与基板(S)的表面成水平；以及旋转驱动机构，使被上下驱动机构按压于基板(S)的下侧表面的下部基板清洗辊(13)绕旋转轴旋转。下部基板清洗辊(13)在长度方向的至少一端侧具备边缘结(135)，该边缘结(135)具有倾斜面(1351)，在下部基板清洗辊(13)接触基板(S)时，倾斜面(1351)与基板(S)的周缘的斜面部B的最边缘部(侧部R)抵接触碰。

公开(公告)号：CN111771260A

公开(公告)日：2020-10-13

申请号：CN201980014614.6

申请日：2019-02-15

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 石桥知淳

IPC: H01L21/304

Abstract: 提供清洗力较高的基板清洗装置和基板清洗方法。提供基板清洗装置，具备：基板旋转机构，该基板旋转机构使基板旋转；以及第一喷嘴和第二喷嘴，该第一喷嘴和第二喷嘴朝向旋转的所述基板的规定面喷射超声波清洗液，所述第一喷嘴与所述第二喷嘴保持于一个壳体。

公开(公告)号：CN104971916B

公开(公告)日：2020-07-07

申请号：CN201510151490.X

申请日：2015-04-01

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 石桥知淳

IPC: B08B3/02 ,  B08B3/08 ,  B08B1/02 ,  B08B13/00 ,  H01L21/67 ,  F26B5/08 ,  F26B21/00

Abstract: 一边向旋转的半导体晶片等衬底的表面提供清洗液一边清洗衬底的清洗装置中，通过使清洗液在衬底的整个半径流动而使清洗度提高。清洗装置具有：保持衬底(W)并将衬底(W)的中心轴作为旋转轴而使衬底(W)旋转的多根主轴(51)；朝向衬底(W)的上表面排出清洗液(L)的单管喷嘴(41)，单管喷嘴(41)以清洗液(L)着落于衬底W的中心(O)的近前，着落的清洗液(L)在衬底(W)的上表面朝向衬底(W)的中心流动的方式排出清洗液(L)。从单管喷嘴(41)排出的清洗液(L)着落后在衬底(W)的上表面的液流通过衬底(W)的中心(O)。

公开(公告)号：CN107393846A

公开(公告)日：2017-11-24

申请号：CN201710316200.1

申请日：2017-05-08

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 深谷孝一 ,  石桥知淳 ,  中野央二郎

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B08B3/02 ,  B08B3/024 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6708

Abstract: 基板清洗装置包括：基板保持机构(70)，所述基板保持机构(70)对基板(W)进行保持；基板旋转机构(72)，所述基板旋转机构(72)使保持于基板保持机构(70)的基板(W)旋转；以及双流体喷嘴(46)，所述双流体喷嘴(46)使双流体喷流向旋转着的所述基板(W)的表面喷出。双流体喷嘴(46)由导电性材料构成。由此，能够对从双流体喷嘴(46)作为双流体喷流而喷出的液滴的带电量进行抑制。

公开(公告)号：CN104275317A

公开(公告)日：2015-01-14

申请号：CN201410317584.5

申请日：2014-07-03

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 石桥知淳

IPC: B08B1/02 ,  B08B3/08 ,  B08B3/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明提供一种快速地从基板上去除用于辊形清洗件进行的清洗的清洗液的基板清洗装置。其具有：对基板(W)进行保持并使其旋转的基板保持部(71～74、75)；将清洗液供给到基板(W)的第1区域(R1)的清洗液供给喷管(87)；在清洗液的存在下通过与基板(W)滑动接触而对基板(W)进行清洗的辊形清洗件(77)；以及将由纯水或者药液构成的流体供给到基板(W)的第2区域(R2)的流体供给喷管(88)。第2区域(R2)相对于辊形清洗件(77)位置第1区域(R1)的相反侧，流体的供给方向是从基板(W)的中心侧朝向外周侧的方向。

公开(公告)号：CN107393846B

公开(公告)日：2024-04-09

申请号：CN201710316200.1

申请日：2017-05-08

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 深谷孝一 ,  石桥知淳 ,  中野央二郎

IPC: H01L21/67

Abstract: 基板清洗装置包括：基板保持机构(70)，所述基板保持机构(70)对基板(W)进行保持；基板旋转机构(72)，所述基板旋转机构(72)使保持于基板保持机构(70)的基板(W)旋转；以及双流体喷嘴(46)，所述双流体喷嘴(46)使双流体喷流向旋转着的所述基板(W)的表面喷出。双流体喷嘴(46)由导电性材料构成。由此，能够对从双流体喷嘴(46)作为双流体喷流而喷出的液滴的带电量进行抑制。

公开(公告)号：CN108780746B

公开(公告)日：2024-03-22

申请号：CN201780016142.9

申请日：2017-02-28

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 石桥知淳

IPC: H01L21/304

Abstract: 提供更高性能的基板清洗装置、基板清洗方法、基板处理装置以及基板干燥装置。提供基板清洗装置，该基板清洗装置具有：基板保持旋转机构，该基板保持旋转机构保持基板并使该基板旋转；第一清洗机构，该第一清洗机构使清洗器具与所述基板接触而对所述基板进行清洗，或者通过双流体喷流对所述基板进行清洗，或者使用臭氧水对所述基板进行清洗；以及第二清洗机构，该第二清洗机构使用超声波清洗液对所述基板进行清洗。

公开(公告)号：CN113276024A

公开(公告)日：2021-08-20

申请号：CN202110546709.1

申请日：2015-10-29

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 石桥知淳

IPC: B24B53/017 ,  B24B37/10 ,  B24B37/30 ,  B24B55/06 ,  B08B1/00 ,  B08B3/04 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明提供辊部件、笔部件以及基板处理装置。在表面上形成有突块的辊清洗部件中，提高各突块的清洗力。用于擦洗基板S的被清洗面的辊清洗部件(50)在表面具有多个突块(54)。各突块(54)具有与辊清洗部件(50)的旋转方向c不平行地延伸的缝(542)，由于该缝(542)而在辊清洗部件(50)的周向c上具有多个上游边缘(541e1、541e2)，该上游边缘(541e1、541e2)是在因辊清洗部件(50)进行旋转而使突块(54)的清洗面(541)与基板S的被清洗面接触时最先与被清洗面接触的边缘。

公开(公告)号：CN113165142A

公开(公告)日：2021-07-23

申请号：CN201980075357.7

申请日：2019-10-31

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 水野稔夫 ,  桧森洋辅 ,  马场枝里奈 ,  石桥知淳 ,  小畠严贵

IPC: B24B41/06 ,  H01L21/304

Abstract: 能够进行基板的表面的抛光清洗与基板的边缘部分的清洗双方。公开一种清洗组件，具备：旋转载台，用于支承圆形的基板，且具有比基板的直径小的直径；抛光清洗部，一边与支承于该旋转载台的该基板的正面接触，一边将该基板的正面抛光清洗；抛光清洗部移动机构，用于使该抛光清洗部相对于该基板移动；抛光清洗部控制机构，控制该抛光清洗部移动机构的动作；以及边缘清洗部，一边与支承于该旋转载台的该基板的边缘部分接触，一边将该基板的边缘部分清洗。