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公开(公告)号：CN109791116A
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：CN201780059601.1
申请日：2017-08-31
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223 , G01N23/207
CPC classification number: G01N23/223 , G01N23/207 , G01N2223/076 , G01N2223/315
Abstract: 一种波长色散型荧光X射线分析装置，包括单一的一维检测器(10)，该一维检测器(10)具有呈直线状而排列的多个检测元件(7)，该波长色散型荧光X射线分析装置包括检测器位置变更机构(11)，该检测器位置变更机构(11)用于针对一维检测器(10)的位置，设定在检测元件(7)的排列方向与分光元件(6)中的分光角度方向平行的平行位置和与该分光元件(6)中的分光角度方向相交叉的交叉位置中的任意者，在平行位置，一维检测器(10)的感光面位于汇聚二次X射线(42)的焦点处，在交叉位置，感光狭缝(9)设置于汇聚二次X射线(42)的焦点处，一维检测器(10)的感光面位于感光狭缝(9)的与分光元件(6)离开的汇聚二次X射线(42)的行进方向侧。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109196340A
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：CN201780028012.7
申请日：2017-08-31
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223 , G01N23/207
Abstract: 本发明的波长分散型荧光X射线分析装置包括：位置敏感型检测器(10)，该位置敏感型检测器(10)通过对应的检测元件(7)，检测不同的分光角度的二次X射线(41)的各强度；测定波谱显示机构(14)，该测定波谱显示机构(14)将检测元件(7)的排列方向的位置和检测元件的检测强度的关系作为测定波谱而显示于显示器(15)中；检测区域设定机构(16)，该检测区域设定机构(16)设定峰值区域和本底区域；定量机构(17)，该定量机构(17)根据峰值区域的峰值强度、本底区域的本底强度与本底补偿系数，计算作为净强度的测定对象的荧光X射线的强度，进行定量分析。
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公开(公告)号：CN109196340B
公开(公告)日：2020-11-03
申请号：CN201780028012.7
申请日：2017-08-31
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223 , G01N23/207
Abstract: 本发明的波长分散型荧光X射线分析装置包括：位置敏感型检测器(10)，该位置敏感型检测器(10)通过对应的检测元件(7)，检测不同的分光角度的二次X射线(41)的各强度；测定波谱显示机构(14)，该测定波谱显示机构(14)将检测元件(7)的排列方向的位置和检测元件的检测强度的关系作为测定波谱而显示于显示器(15)中；检测区域设定机构(16)，该检测区域设定机构(16)设定峰值区域和本底区域；定量机构(17)，该定量机构(17)根据峰值区域的峰值强度、本底区域的本底强度与本底补偿系数，计算作为净强度的测定对象的荧光X射线的强度，进行定量分析。
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公开(公告)号：CN119096138A
公开(公告)日：2024-12-06
申请号：CN202380035692.0
申请日：2023-02-21
Applicant: 株式会社理学
Abstract: 提供一种半导体检查装置、半导体检查系统以及半导体检查方法，通过以能够收纳到实验室内的大小且以足够的强度得到放大像，能够按每个局部对半导体内部的微细结构进行检查。一种使用了放大的X射线像的半导体检查装置，具备：X射线照射部，其由微焦点且高输出的X射线源(120)和将放射出的X射线朝向半导体的试样进行聚光照射的会聚镜(130)构成；试样保持部，其对试样进行保持；反射镜型X射线透镜部(150)，其对透射过试样的X射线进行成像；以及摄像部(190)，其取得所成像的X射线像，构成会聚镜(130)和反射镜型X射线透镜部(150)的各镜具有形成有对于特定波长的X射线具有高反射率的多层膜的反射面。
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公开(公告)号：CN109791116B
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN201780059601.1
申请日：2017-08-31
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223 , G01N23/207
Abstract: 一种波长色散型荧光X射线分析装置，包括单一的一维检测器(10)，该一维检测器(10)具有呈直线状排列的多个检测元件(7)，该波长色散型荧光X射线分析装置包括检测器位置变更机构(11)，该检测器位置变更机构(11)用于针对一维检测器(10)的位置，设定在检测元件(7)的排列方向与分光元件(6)中的分光角度方向平行的平行位置和与该分光元件(6)中的分光角度方向相交叉的交叉位置中的任意者，在平行位置，一维检测器(10)的感光面位于汇聚二次X射线(42)的焦点处，在交叉位置，感光狭缝(9)设置于汇聚二次X射线(42)的焦点处，一维检测器(10)的感光面位于感光狭缝(9)的与分光元件(6)离开的汇聚二次X射线(42)的行进方向侧。
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公开(公告)号：CN114509452A
公开(公告)日：2022-05-17
申请号：CN202111230312.8
申请日：2021-10-21
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/04 , G01N23/046
Abstract: 本发明提供一种成像型X射线显微镜，即使是高能量的X射线也能够增大数值孔径，即使在实验室内也能够以足够的强度得到放大像。具备：包含微焦点且高输出的X射线源(120)和将辐射的X射线向样品聚光照射的聚光镜(130)的X射线照射部；保持样品的样品保持部；将透过了样品的X射线成像的反射镜型X射线镜头部(150)；以及取得所成像的X射线像的摄像部(190)，构成聚光镜(130)以及反射镜型X射线镜头部(150)的各镜具有形成有对特定波长的X射线具有高的反射率的多层膜的反射面。
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