计算装置、方法以及程序
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119557532A

    公开(公告)日:2025-03-04

    申请号:CN202411236117.X

    申请日:2024-09-04

    Abstract: 提供算出结构模型的特征量的计算装置、方法以及程序。一种算出结构模型的特征量的计算装置(100),具备:计算前结构模型取得部(110),其取得周期性地排列有原子的计算前结构模型;计算前信息取得部(120),其取得确定计算前结构模型中的周期性地排列的原子的计算前信息;计算后结构模型取得部(130),其取得以计算前结构模型为原始数据计算出的计算后结构模型;计算后信息取得部(140),其取得通过基于计算前信息将计算后结构模型中的原子聚类化而得到的聚类信息和作为计算后结构模型中的原子的位置信息的原子位置信息;以及特征量算出部(150),其基于聚类信息和原子位置信息算出具有相同的聚类信息的原子的重心位置。

    索勒狭缝、X射线衍射装置以及方法

    公开(公告)号:CN109709118B

    公开(公告)日:2022-04-26

    申请号:CN201811238458.5

    申请日:2018-10-23

    Abstract: 本发明提供一种索勒狭缝、X射线衍射装置以及方法,即便在基于GIXD的测定中X射线照射区域在试料表面上展宽,检测器上的衍射像在面内方向也不会展宽,能够以短的测定时间且高的分辨率来进行测定。索勒狭缝(100)具备多个金属制的薄板(110),所述多个金属制的薄板(110)各自相对于底面垂直,相互隔开规定的角度间隔被排列为拱形,使得从特定的焦点向放射方向通过X射线,该索勒狭缝(100)被设置于以掠入射X射线衍射用的角度被照射至试料并在试料面上被衍射的X射线以测角器圆的中心为特定的焦点来通过的位置而被使用。

    掠入射荧光X射线分析装置和方法

    公开(公告)号:CN107110798B

    公开(公告)日:2019-08-16

    申请号:CN201580069728.2

    申请日:2015-10-02

    Inventor: 表和彦 山田隆

    Abstract: 本发明的掠入射荧光X射线分析装置(1)包括:X射线源(2);弯曲分光元件(4),该弯曲分光元件(4)对从X射线源(2)所放射的X射线(3)进行分光,形成汇聚于试样(S)的表面的一定位置(15)的X射线束(5);狭缝(6),该狭缝(6)设置于弯曲分光元件(4)和试样(S)之间,具有线状开口(61);狭缝移动机构(7),该狭缝移动机构(7)将狭缝(6)移动到与通过线状开口(61)的X射线束(5)相交叉的方向;掠射角设定机构(8),该掠射角设定机构(8)在通过狭缝移动机构(7)移动狭缝(6)后,将X射线束(5)的掠射角(α)设定在所需的角度;检测器(10),该检测器(10)测定从照射了X射线束(5)的试样(S)而产生的荧光X射线(9)的强度。

    X射线反射率测定装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110036284A

    公开(公告)日:2019-07-19

    申请号:CN201780073230.2

    申请日:2017-11-14

    Abstract: 本发明的X射线反射率测定装置包括:照射角度可变机构(10),其使对试样表面(8a)的聚光X射线束(6)的照射角度变化;被固定的位置灵敏型检测器(14);反射强度计算机构(15),其与照射角度可变机构(10)的聚光X射线束(6)的照射角度的变化同步,仅仅针对位置灵敏型检测器(14)中的位于反射X射线束(12)的发散角度幅度内的检测元件(11),就构成反射X射线束(12)的反射X射线(13)的每个反射角度,累加计算对应的检测元件(11)的检测强度。

    处理装置、处理系统、处理方法以及记录介质

    公开(公告)号:CN117807347A

    公开(公告)日:2024-04-02

    申请号:CN202311275932.2

    申请日:2023-09-28

    Abstract: 提供一种计算包含总散射数据和结构模型的数据的结构因子的处理装置、处理系统、处理方法以及记录介质。处理结构因子的处理装置(400)具备:结构因子取得部(410),其取得基于实测到的总散射数据的第1结构因子;数据转换部(420),其将所述第1结构因子分离为短距离相关和长距离相关;以及散射强度计算部(430),其取得表示有限区域内的原子排列的结构模型,计算所述结构模型的短距离散射强度,根据所述短距离散射强度和所述长距离相关来计算第2结构因子。

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