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公开(公告)号：CN209570528U
公开(公告)日：2019-11-01
申请号：CN201822128961.7
申请日：2018-12-18
Applicant: 株式会社理学
Inventor： 井上稔
IPC: G01N23/223
Abstract: 本实用新型提供一种无需在试料架与用于荧光X射线分析装置的夹具之间转移试料的用于荧光X射线分析装置的夹具。用于荧光X射线分析装置的夹具，为与荧光X射线分析装置共用在中央处具有供试料配置的凹部或者孔的X射线衍射装置的试料架的夹具，具备：基座部件，其具有与所述试料架的下表面抵接的第一上表面、和以在与所述第一上表面之间具有高低差的方式而形成的第二上表面；以及环，其具有所述试料架的外侧侧面以及设置有所述高低差的区域的外侧侧面与内侧侧面抵接的圆筒部、和被设置在所述圆筒部的下端部并与所述第二上表面抵接的法兰，并且在与所述试料架以及所述基座部件之间夹入对所述试料的表面进行覆盖的薄膜。
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公开(公告)号：CN221899091U
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN202420132578.1
申请日：2024-01-19
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/2204 , G01N23/223
Abstract: 本实用新型提供一种样品支架，其使样品的更换作业简便，并且不会在X射线荧光分析装置的内部散开。一种X射线荧光分析用的样品支架，具有：筒状体，其具有设置在上端面一部分上的孔，并且下端开口；接盘，其配置在所述筒状体的内侧，用于载置样品；弹性体，其向上方对所述接盘施力；以及支撑部件，其由树脂形成，具有在端部设有爪部且通过按压向内侧弹性变形的弓部，并且与所述弹性体的下端接触，其中，所述筒状体形成有用于所述爪部嵌合的嵌合部和所述弓部的一部分向外侧露出的露出部。
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公开(公告)号：CN222838021U
公开(公告)日：2025-05-06
申请号：CN202420604984.3
申请日：2024-03-27
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/2204 , G01N23/223
Abstract: 本实用新型提供一种样品架以及侧照式X射线荧光分析装置，该样品架的样品更换作业简便且可防止装置内部的污染，并且能够进行高精度的分析。该样品架是被用于侧照式X射线荧光分析装置的样品架，具有：被测物按压件，其一部分与包含样品并具有平行平板的表面和背面的被测物的表面的1次X射线照射部分的周围抵接；以及弹簧，其从背面侧对所述被测物施力而将所述被测物按压在所述被测物按压件上。
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公开(公告)号：CN112394074B
公开(公告)日：2025-05-27
申请号：CN202010804679.5
申请日：2020-08-12
Applicant: 株式会社理学
Inventor： 伊藤幸一郎
IPC: G01N23/20025 , G01N23/2204
Abstract: 本发明提供一种X光分析用试料保持装置，该X光分析用试料保持装置将填充有试料的试料支架(10)保持于基体构件(20)，并以包覆试料支架(10)的周围的方式向基体构件(20)装配气密构件(30)，由此形成密闭空间内的试料保持结构。在气密构件(30)形成有向装配部(21)嵌入并而被装配的嵌合部(35)。
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公开(公告)号：CN119881636A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202411486100.X
申请日：2024-10-23
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01R31/34 , G01N23/207 , G01N23/20016 , G01N23/20025
Abstract: 提供一种能够保证以固定速度驱动、能够维持各测定的可追溯性的监视模块和监视系统。一种监视X射线衍射装置所使用的步进电机的动作的监视模块，具备：检测部(164)，其检测步进电机的特定的旋转位置，并产生检测信号；计测部(165)，其计测检测信号的时间间隔；判定部(166)，其判定相当于检测信号的时间间隔的计测值是否与相当于基于向步进电机的动作指示而决定的特定的旋转位置间的旋转时间的基准值一致；以及信息传递部(167)，其在计测值与基准值不一致的情况下，向外部传递动作异常信息。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119671906A
公开(公告)日：2025-03-21
申请号：CN202411306874.X
申请日：2024-09-19
Applicant: 株式会社理学
Inventor： 太田卓见
IPC: G06T5/80
Abstract: 提供一种校正装置、校正方法以及校正程序，通过用自动推定出的校正量校正分布图的移位，不费事，能够降低人为性，能够提高校正的再现性。一种校正X射线粉末衍射的分布图的校正装置(400)，具备设定基准分布图的基准分布图设定部(420)、设定推定与试样高度有关的校正量的推定方法的推定方法设定部(430)、基于推定方法推定校正量的校正量推定部(440)以及基于校正量校正被检分布图的校正部(460)，校正量是使校正后的被检分布图与基准分布图的一致度最大的值。
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公开(公告)号：CN119534505A
公开(公告)日：2025-02-28
申请号：CN202411185168.4
申请日：2024-08-27
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/2055 , G06T7/00 , G06N3/08
Abstract: 根据本发明的一个方案，提供一种生成X射线衍射分布图的信息处理系统。该信息处理系统具有数据组取得部、子类设定部、结晶相选择部以及分布图生成部。数据组取得部取得包含多个结晶相信息的数据组。子类设定部将数据组所包含的结晶相信息设定为第1子类和第2子类中的任意一个子类。第1子类的数量为1以上，第2子类的数量为0以上，第1子类与第2子类的总计数量为2以上。结晶相选择部从第1子类、或者第1子类和第2子类这两者选择结晶相信息并设为选择数据。在第1子类的数量存在多个的情况下，在选择数据中按每个第1子类包含至少1个结晶相信息。分布图生成部基于选择数据生成X射线衍射分布图。
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公开(公告)号：CN119534500A
公开(公告)日：2025-02-28
申请号：CN202411749527.4
申请日：2019-11-21
Applicant: 株式会社理学
Inventor： 佐藤孝
IPC: G01N23/20 , G01N23/20025
Abstract: 提供一种迅速地进行基于细孔性络合物结晶（晶体海绵）的单晶X射线结构解析、使得包括关联信息的管理在内容易的用户友好的单晶X射线结构解析装置和方法。单晶X射线结构解析装置具备：试样保持架，包括能够在形成于内部的多个微细孔吸藏试样的细孔性络合物结晶；测角仪，安装并转动试样保持架；X射线照射部，对安装于测角仪的试样保持架中所保持的试样照射来自所述X射线源的X射线；X射线检测测定部，检测通过试样衍射或者散射的X射线来进行测定；以及结构解析部，基于由X射线检测测定部测定出的衍射或者散射X射线来进行试样的结构解析，结构解析部基于使细孔性络合物结晶吸藏试样的工序中的吸藏结果，进行试样的结构解析。
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公开(公告)号：CN112711058B
公开(公告)日：2025-01-24
申请号：CN202011128545.2
申请日：2020-10-20
Applicant: 株式会社理学
Abstract: 本发明提供处理装置、系统、X射线测定方法以及记录介质，对用现有的方法不能覆盖的高的计数率也能削减计数遗漏的影响。具备：存储部(220)，其通过光子计数型的半导体检测器对入射X射线的脉冲信号进行计数，并存储读出的输出值；和算出部(230)，其基于读出输出值来算出计数值，算出部(230)使用相对于针对曝光的脉冲检测率的增加而脉冲信号的表观的时间常数单调减少的模型。在这样的模型中，不管多高的计数率都能得到对应的表观的时间常数。其结果，对用现有的方法不能覆盖的高的计数率也能削减计数遗漏的影响。
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公开(公告)号：CN119096138A
公开(公告)日：2024-12-06
申请号：CN202380035692.0
申请日：2023-02-21
Applicant: 株式会社理学
Abstract: 提供一种半导体检查装置、半导体检查系统以及半导体检查方法，通过以能够收纳到实验室内的大小且以足够的强度得到放大像，能够按每个局部对半导体内部的微细结构进行检查。一种使用了放大的X射线像的半导体检查装置，具备：X射线照射部，其由微焦点且高输出的X射线源(120)和将放射出的X射线朝向半导体的试样进行聚光照射的会聚镜(130)构成；试样保持部，其对试样进行保持；反射镜型X射线透镜部(150)，其对透射过试样的X射线进行成像；以及摄像部(190)，其取得所成像的X射线像，构成会聚镜(130)和反射镜型X射线透镜部(150)的各镜具有形成有对于特定波长的X射线具有高反射率的多层膜的反射面。
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