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公开(公告)号：CN105474104A
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201480046673.9
申请日：2014-08-18
Applicant: 株式会社村田制作所
IPC: G03F9/00 , H01L21/027 , H05K3/00
CPC classification number: H05K3/184 , G03F9/7084 , G03F9/7088 , H01L23/544 , H01L2223/54426 , H01L2924/0002 , H05K1/0269 , H05K2201/09918 , H05K2203/0557 , H05K2203/1527 , H05K2203/166 , H01L2924/00
Abstract: 提供一种曝光装置，即便是设于工件的背面的对准标记，也能可靠地使其与掩模对准标记对位，并能高精度地将掩模图案曝光于工件上。本发明的曝光装置包括：掩模(13)，该掩模(13)设有掩模对准标记(131)；掩模保持件(12)，该掩模保持件(12)对掩模(13)进行保持；平台(15)，该平台(15)对工件(14)进行装设并加以固定，该工件(14)在面(145)上具有工件对准标记(141)，该面(145)是设有掩模对准标记(131)的面(135)所面对的面的相反一侧的面。平台(15)包括光学零件，当对装设的工件(14)的工件对准标记(141)进行摄像时，该光学零件使光在内部奇数次反射，以在比工件(14)的尺寸靠外侧的位置形成像，平台驱动装置根据通过该光学零件形成的像将掩模对准标记(131)和工件对准标记(141)对位。
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公开(公告)号：CN102043349B
公开(公告)日：2014-01-08
申请号：CN201010521849.5
申请日：2010-10-18
Applicant: 株式会社村田制作所
IPC: G03F7/20
Abstract: 提供一种构造简单的，能够高精度地使掩模图案在基板表面上曝光的曝光装置及曝光方法。具有支撑形成有掩模图案的掩模(4)的掩模支撑部(5)、支撑成为曝光对象的基板(2)的基板支撑部(3)、使所述掩模(4)的下表面和所述基板(2)的上表面之间形成密闭空间(7)的密封构件(6)、以及向所述密闭空间(7)供给气体或从所述密闭空间(7)排出气体的给排部(8)。调整掩模支撑部(5)和/或基板支撑部(3)的温度的同时，通过从光源(9)照射的光使掩模图案在基板(2)的表面上曝光。
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公开(公告)号：CN102043349A
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN201010521849.5
申请日：2010-10-18
Applicant: 株式会社村田制作所
IPC: G03F7/20
Abstract: 提供一种构造简单的，能够高精度地使掩模图案在基板表面上曝光的曝光装置及曝光方法。具有支撑形成有掩模图案的掩模(4)的掩模支撑部(5)、支撑成为曝光对象的基板(2)的基板支撑部(3)、使所述掩模(4)的下表面和所述基板(2)的上表面之间形成密闭空间(7)的密封构件(6)、以及向所述密闭空间(7)供给气体或从所述密闭空间(7)排出气体的给排部(8)。调整掩模支撑部(5)和/或基板支撑部(3)的温度的同时，通过从光源(9)照射的光使掩模图案在基板(2)的表面上曝光。
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公开(公告)号：CN101312874A
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：CN200680043235.2
申请日：2006-10-30
Applicant: 株式会社村田制作所
Abstract: 提供一种即使具有调零误差或偏置·噪声也能够用比较简单的控制闭环来实现稳定的独立行驶的二轮车的防止翻倒控制装置。是一种具有：车体(A)、前轮(2)、对前轮进行转向的致动器(7)、后轮(3)、以及后轮驱动部(4)的二轮车，具有：安装于上述车体以使检测轴(8a)比车体前方向着向下规定角度的方向倾斜、且检测出绕检测轴的角速度ω的角速度传感器(8)；以及输出用于控制致动器(7)的转向角指令信号δr的控制单元(12)。在由角速度传感器(8)所检测出的角速度ω中包含左右倾斜方向的角速度ω1和方位角方向的角速度ω2，由于调零误差或偏置·噪声包含在方位角指令中，所以能够防止二轮车翻倒。
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公开(公告)号：CN105474104B
公开(公告)日：2017-10-10
申请号：CN201480046673.9
申请日：2014-08-18
Applicant: 株式会社村田制作所
IPC: G03F9/00 , H01L21/027 , H05K3/00
CPC classification number: H05K3/184 , G03F9/7084 , G03F9/7088 , H01L23/544 , H01L2223/54426 , H01L2924/0002 , H05K1/0269 , H05K2201/09918 , H05K2203/0557 , H05K2203/1527 , H05K2203/166 , H01L2924/00
Abstract: 提供一种曝光装置，即便是设于工件的背面的对准标记，也能可靠地使其与掩模对准标记对位，并能高精度地将掩模图案曝光于工件上。本发明的曝光装置包括：掩模(13)，该掩模(13)设有掩模对准标记(131)；掩模保持件(12)，该掩模保持件(12)对掩模(13)进行保持；平台(15)，该平台(15)对工件(14)进行装设并加以固定，该工件(14)在面(145)上具有工件对准标记(141)，该面(145)是设有掩模对准标记(131)的面(135)所面对的面的相反一侧的面。平台(15)包括光学零件，当对装设的工件(14)的工件对准标记(141)进行摄像时，该光学零件使光在内部奇数次反射，以在比工件(14)的尺寸靠外侧的位置形成像，平台驱动装置根据通过该光学零件形成的像将掩模对准标记(131)和工件对准标记(141)对位。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101326457B
公开(公告)日：2010-11-17
申请号：CN200680046593.9
申请日：2006-09-04
Applicant: 株式会社村田制作所
CPC classification number: H01L21/682 , B32B37/0046 , B32B38/1833 , B32B2305/55 , B32B2309/68 , B32B2309/70 , B32B2457/14 , G02F2001/133354 , Y10T29/49131 , Y10T29/5313 , Y10T29/53174 , Y10T29/53178 , Y10T29/53183 , Y10T156/1075
Abstract: 本发明公开了一种对位装置，该对位装置可以可靠地修正电子元件之间的相对偏位量，并提高电子元件对位的精确性，同时，也公开了一种装有该对位装置的接合装置，以及一种对位方法。由于图像获取口(21)从腔体(3)的外表面向内凹进，从而形成一个空间(11)，即使当腔体(3)与第二部件(28)一起移动时，图像识别装置(47)设置在空间(11)内，从而可以防止与腔体(3)的运动产生干涉。这使得腔体(3)可以自由运动，而不受任何限制。从而，第一部件(12)和第二部件(28)中的一方可以相对另一方自由移动，而不受图像识别装置(47)的限制，从而第一部件(12)上的第一晶片(W1)和第二部件(28)上的第二晶片(W2)可以可靠地对位。
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公开(公告)号：CN101326457A
公开(公告)日：2008-12-17
申请号：CN200680046593.9
申请日：2006-09-04
Applicant: 株式会社村田制作所
CPC classification number: H01L21/682 , B32B37/0046 , B32B38/1833 , B32B2305/55 , B32B2309/68 , B32B2309/70 , B32B2457/14 , G02F2001/133354 , Y10T29/49131 , Y10T29/5313 , Y10T29/53174 , Y10T29/53178 , Y10T29/53183 , Y10T156/1075
Abstract: 本发明公开了一种对位装置，该对位装置可以可靠地修正电子元件之间的相对偏位量，并提高电子元件对位的精确性，同时，也公开了一种装有该对位装置的接合装置，以及一种对位方法。由于图像获取口(21)从腔体(3)的外表面向内凹进，从而形成一个空间(11)，即使当腔体(3)与第二部件(28)一起移动时，图像识别装置(47)设置在空间(11)内，从而可以防止与腔体(3)的运动产生干涉。这使得腔体(3)可以自由运动，而不受任何限制。从而，第一部件(12)和第二部件(28)中的一方可以相对另一方自由移动，而不受图像识别装置(47)的限制，从而第一部件(12)上的第一晶片(W1)和第二部件(28)上的第二晶片(W2)可以可靠地对位。
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公开(公告)号：CN107077080B
公开(公告)日：2019-04-26
申请号：CN201680003247.6
申请日：2016-01-05
Applicant: 株式会社村田制作所
Abstract: 本发明提供在对带状的工件实施曝光处理的情况下，无需复杂的工序就能够精度良好地实施曝光处理的曝光装置。曝光装置具备：工件输送机构(20)，其输送带状的工件(1)；曝光光源(30)，其产生曝光光；光掩模(40)，其具有在与工件(1)的宽度方向的端部(1a、1b)对置的位置配置的透射窗(42a～42c)；拍摄机构(60a～60c)，其拍摄透射窗(42a～42c)；以及位置调整机构(51、52)，其调整工件(1)与光掩模(40)的位置关系，所述曝光装置构成为：能够根据由拍摄机构(60a～60c)拍摄得到的、透射窗(42a～42c)的位置与从透射窗(42a～42c)识别到的工件(1)的端部(1a、1b)的位置之间的关系，调整工件(1)与光掩模(40)的位置关系，以使工件(1)与光掩模(40)的位置关系成为目标的位置关系。
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公开(公告)号：CN107077080A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201680003247.6
申请日：2016-01-05
Applicant: 株式会社村田制作所
Abstract: 本发明提供在对带状的工件实施曝光处理的情况下，无需复杂的工序就能够精度良好地实施曝光处理的曝光装置。曝光装置具备：工件输送机构(20)，其输送带状的工件(1)；曝光光源(30)，其产生曝光光；光掩模(40)，其具有在与工件(1)的宽度方向的端部(1a、1b)对置的位置配置的透射窗(42a～42c)；拍摄机构(60a～60c)，其拍摄透射窗(42a～42c)；以及位置调整机构(51、52)，其调整工件(1)与光掩模(40)的位置关系，所述曝光装置构成为：能够根据由拍摄机构(60a～60c)拍摄得到的、透射窗(42a～42c)的位置与从透射窗(42a～42c)识别到的工件(1)的端部(1a、1b)的位置之间的关系，调整工件(1)与光掩模(40)的位置关系，以使工件(1)与光掩模(40)的位置关系成为目标的位置关系。
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公开(公告)号：CN101312874B
公开(公告)日：2010-10-27
申请号：CN200680043235.2
申请日：2006-10-30
Applicant: 株式会社村田制作所
Abstract: 提供一种即使具有调零误差或偏置·噪声也能够用比较简单的控制闭环来实现稳定的独立行驶的二轮车的防止翻倒控制装置。是一种具有：车体(A)、前轮(2)、对前轮进行转向的致动器(7)、后轮(3)、以及后轮驱动部(4)的二轮车，具有：安装于上述车体以使检测轴(8a)比车体前方向着向下规定角度的方向倾斜、且检测出绕检测轴的角速度ω的角速度传感器(8)；以及输出用于控制致动器(7)的转向角指令信号δr的控制单元(12)。在由角速度传感器(8)所检测出的角速度ω中包含左右倾斜方向的角速度ω1和方位角方向的角速度ω2，由于调零误差或偏置·噪声包含在方位角指令中，所以能够防止二轮车翻倒。
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