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公开(公告)号：CN102043349A
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN201010521849.5
申请日：2010-10-18
Applicant: 株式会社村田制作所
IPC: G03F7/20
Abstract: 提供一种构造简单的，能够高精度地使掩模图案在基板表面上曝光的曝光装置及曝光方法。具有支撑形成有掩模图案的掩模(4)的掩模支撑部(5)、支撑成为曝光对象的基板(2)的基板支撑部(3)、使所述掩模(4)的下表面和所述基板(2)的上表面之间形成密闭空间(7)的密封构件(6)、以及向所述密闭空间(7)供给气体或从所述密闭空间(7)排出气体的给排部(8)。调整掩模支撑部(5)和/或基板支撑部(3)的温度的同时，通过从光源(9)照射的光使掩模图案在基板(2)的表面上曝光。
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公开(公告)号：CN105474104B
公开(公告)日：2017-10-10
申请号：CN201480046673.9
申请日：2014-08-18
Applicant: 株式会社村田制作所
IPC: G03F9/00 , H01L21/027 , H05K3/00
CPC classification number: H05K3/184 , G03F9/7084 , G03F9/7088 , H01L23/544 , H01L2223/54426 , H01L2924/0002 , H05K1/0269 , H05K2201/09918 , H05K2203/0557 , H05K2203/1527 , H05K2203/166 , H01L2924/00
Abstract: 提供一种曝光装置，即便是设于工件的背面的对准标记，也能可靠地使其与掩模对准标记对位，并能高精度地将掩模图案曝光于工件上。本发明的曝光装置包括：掩模(13)，该掩模(13)设有掩模对准标记(131)；掩模保持件(12)，该掩模保持件(12)对掩模(13)进行保持；平台(15)，该平台(15)对工件(14)进行装设并加以固定，该工件(14)在面(145)上具有工件对准标记(141)，该面(145)是设有掩模对准标记(131)的面(135)所面对的面的相反一侧的面。平台(15)包括光学零件，当对装设的工件(14)的工件对准标记(141)进行摄像时，该光学零件使光在内部奇数次反射，以在比工件(14)的尺寸靠外侧的位置形成像，平台驱动装置根据通过该光学零件形成的像将掩模对准标记(131)和工件对准标记(141)对位。
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公开(公告)号：CN106575086B
公开(公告)日：2018-05-18
申请号：CN201580039965.4
申请日：2015-07-14
Applicant: 株式会社村田制作所
Abstract: 直写型曝光装置(100)通过对由基材(B)保持的膜状的感光性树脂(PP)直接照射曝光光线(1b)来进行图案曝光，包括：输出曝光光线(1b)的光源(1)；基台(2)；能支承基材(B)的下表面周缘区域，且进行动作使基材(B)在曝光光线(1b)的光轴方向上移位的移位机构(4a～4d)；以及能支承基材(B)的下表面中央区域的支承构件(7)。支承构件(7)配设在基台(2)的上方，以利用移位机构(4a～4d)使基材(B)移位，在支承构件(7)的上表面与基材(B)的下表面中央区域抵接的状态下，曝光光线(1b)的光轴与支承构件(7)的上表面垂直。
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公开(公告)号：CN107077080A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201680003247.6
申请日：2016-01-05
Applicant: 株式会社村田制作所
Abstract: 本发明提供在对带状的工件实施曝光处理的情况下，无需复杂的工序就能够精度良好地实施曝光处理的曝光装置。曝光装置具备：工件输送机构(20)，其输送带状的工件(1)；曝光光源(30)，其产生曝光光；光掩模(40)，其具有在与工件(1)的宽度方向的端部(1a、1b)对置的位置配置的透射窗(42a～42c)；拍摄机构(60a～60c)，其拍摄透射窗(42a～42c)；以及位置调整机构(51、52)，其调整工件(1)与光掩模(40)的位置关系，所述曝光装置构成为：能够根据由拍摄机构(60a～60c)拍摄得到的、透射窗(42a～42c)的位置与从透射窗(42a～42c)识别到的工件(1)的端部(1a、1b)的位置之间的关系，调整工件(1)与光掩模(40)的位置关系，以使工件(1)与光掩模(40)的位置关系成为目标的位置关系。
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公开(公告)号：CN107077080B
公开(公告)日：2019-04-26
申请号：CN201680003247.6
申请日：2016-01-05
Applicant: 株式会社村田制作所
Abstract: 本发明提供在对带状的工件实施曝光处理的情况下，无需复杂的工序就能够精度良好地实施曝光处理的曝光装置。曝光装置具备：工件输送机构(20)，其输送带状的工件(1)；曝光光源(30)，其产生曝光光；光掩模(40)，其具有在与工件(1)的宽度方向的端部(1a、1b)对置的位置配置的透射窗(42a～42c)；拍摄机构(60a～60c)，其拍摄透射窗(42a～42c)；以及位置调整机构(51、52)，其调整工件(1)与光掩模(40)的位置关系，所述曝光装置构成为：能够根据由拍摄机构(60a～60c)拍摄得到的、透射窗(42a～42c)的位置与从透射窗(42a～42c)识别到的工件(1)的端部(1a、1b)的位置之间的关系，调整工件(1)与光掩模(40)的位置关系，以使工件(1)与光掩模(40)的位置关系成为目标的位置关系。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105474102B
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201480047009.6
申请日：2014-08-18
Applicant: 株式会社村田制作所
Inventor： 松冈尚弥
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , H05K3/00
CPC classification number: H05K3/184 , H05K2203/0557 , H05K2203/1527
Abstract: 本发明提供了在掩膜尺寸较大的情况下也能适当地矫正掩膜的弯曲，能以高精度进行曝光的曝光装置以及曝光方法。本发明涉及的曝光装置(1)包括：光源(100)；设置有掩膜图案的光学板(11)；以及保持光学板(11)，在光学板(11)的光源(100)一侧形成气密空间(12)的掩膜支架掩膜图案曝光在工件(10)上。具有调整气密空间(12)内的压力的压力调整机构(20)，以及使掩膜支架(13)倾斜为规定的角度的倾斜机构(21)，在利用倾斜机构(21)使掩膜支架(13)倾斜了规定的角度的状态下，利用压力调整机构(20)调整气密空间(12)内的压力之后，使掩膜支架(13)恢复至原先的角度，进行曝光。(13)。来自光源(100)的光照射至光学板(11)，使
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公开(公告)号：CN105474102A
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201480047009.6
申请日：2014-08-18
Applicant: 株式会社村田制作所
Inventor： 松冈尚弥
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , H05K3/00
CPC classification number: H05K3/184 , H05K2203/0557 , H05K2203/1527
Abstract: 本发明提供了在掩膜尺寸较大的情况下也能适当地矫正掩膜的弯曲，能以高精度进行曝光的曝光装置以及曝光方法。本发明涉及的曝光装置(1)包括：光源(100)；设置有掩膜图案的光学板(11)；以及保持光学板(11)，在光学板(11)的光源(100)一侧形成气密空间(12)的掩膜支架(13)。来自光源(100)的光照射至光学板(11)，使掩膜图案曝光在工件(10)上。具有调整气密空间(12)内的压力的压力调整机构(20)，以及使掩膜支架(13)倾斜为规定的角度的倾斜机构(21)，在利用倾斜机构(21)使掩膜支架(13)倾斜了规定的角度的状态下，利用压力调整机构(20)调整气密空间(12)内的压力之后，使掩膜支架(13)恢复至原先的角度，进行曝光。
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公开(公告)号：CN106575086A
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201580039965.4
申请日：2015-07-14
Applicant: 株式会社村田制作所
Abstract: 直写型曝光装置(100)通过对由基材(B)保持的膜状的感光性树脂(PP)直接照射曝光光线(1b)来进行图案曝光，包括：输出曝光光线(1b)的光源(1)；基台(2)；能支承基材(B)的下表面周缘区域，且进行动作使基材(B)在曝光光线(1b)的光轴方向上移位的移位机构(4a～4d)；以及能支承基材(B)的下表面中央区域的支承构件(7)。支承构件(7)配设在基台(2)的上方，以利用移位机构(4a～4d)使基材(B)移位，在支承构件(7)的上表面与基材(B)的下表面中央区域抵接的状态下，曝光光线(1b)的光轴与支承构件(7)的上表面垂直。
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公开(公告)号：CN105474104A
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201480046673.9
申请日：2014-08-18
Applicant: 株式会社村田制作所
IPC: G03F9/00 , H01L21/027 , H05K3/00
CPC classification number: H05K3/184 , G03F9/7084 , G03F9/7088 , H01L23/544 , H01L2223/54426 , H01L2924/0002 , H05K1/0269 , H05K2201/09918 , H05K2203/0557 , H05K2203/1527 , H05K2203/166 , H01L2924/00
Abstract: 提供一种曝光装置，即便是设于工件的背面的对准标记，也能可靠地使其与掩模对准标记对位，并能高精度地将掩模图案曝光于工件上。本发明的曝光装置包括：掩模(13)，该掩模(13)设有掩模对准标记(131)；掩模保持件(12)，该掩模保持件(12)对掩模(13)进行保持；平台(15)，该平台(15)对工件(14)进行装设并加以固定，该工件(14)在面(145)上具有工件对准标记(141)，该面(145)是设有掩模对准标记(131)的面(135)所面对的面的相反一侧的面。平台(15)包括光学零件，当对装设的工件(14)的工件对准标记(141)进行摄像时，该光学零件使光在内部奇数次反射，以在比工件(14)的尺寸靠外侧的位置形成像，平台驱动装置根据通过该光学零件形成的像将掩模对准标记(131)和工件对准标记(141)对位。
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公开(公告)号：CN102043349B
公开(公告)日：2014-01-08
申请号：CN201010521849.5
申请日：2010-10-18
Applicant: 株式会社村田制作所
IPC: G03F7/20
Abstract: 提供一种构造简单的，能够高精度地使掩模图案在基板表面上曝光的曝光装置及曝光方法。具有支撑形成有掩模图案的掩模(4)的掩模支撑部(5)、支撑成为曝光对象的基板(2)的基板支撑部(3)、使所述掩模(4)的下表面和所述基板(2)的上表面之间形成密闭空间(7)的密封构件(6)、以及向所述密闭空间(7)供给气体或从所述密闭空间(7)排出气体的给排部(8)。调整掩模支撑部(5)和/或基板支撑部(3)的温度的同时，通过从光源(9)照射的光使掩模图案在基板(2)的表面上曝光。
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