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公开(公告)号:CN103361610A
公开(公告)日:2013-10-23
申请号:CN201310053508.3
申请日:2013-02-19
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: C23C14/26
Abstract: 本发明提供一种即使蒸镀材料进入蒸发源内部,也防止膜质的劣化,不会对连续运转、维护产生障碍的蒸发源以及真空蒸镀装置。蒸发源以及真空蒸镀装置由具有用于将加热被封入的蒸镀材料而蒸发出的蒸镀材料排放的喷嘴的坩埚、用于加热该坩埚的加热构件、配置在上述坩埚和上述加热构件的周边的隔热构件构成,在上述隔热构件和坩埚或者加热构件之间设置由该加热构件保持为低温的浮游蒸镀物回收构件,且在该浮游蒸镀物回收构件和上述坩埚以及上述加热构件之间设置隔热构件。
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公开(公告)号:CN103938162A
公开(公告)日:2014-07-23
申请号:CN201410018357.2
申请日:2014-01-16
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供蒸镀装置和该蒸镀装置所用的蒸发源,该蒸镀装置能够长时间进行稳定的蒸镀,该蒸发源能够稳定且大量地收入作为蒸镀材料的Al。本发明的蒸镀装置具备蒸镀基板的蒸发源(30)和收纳蒸发源(30)且基板被搬送的工艺腔室。蒸发源(30)具备坩埚(10),坩埚(10)具有固体的Al材料(2)被供给的材料收入部(11)、与材料收入部(11)相邻,加热从材料收入部(11)供给的Al材料(2)使其熔融并形成为熔液(1)的熔融部(12)、和与熔融部(12)相邻,加热从熔融部(12)供给的熔液(1)而产生蒸气的蒸发部(13)。
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公开(公告)号:CN103572262A
公开(公告)日:2014-02-12
申请号:CN201310323455.2
申请日:2013-07-25
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供一种容易进一步提高膜厚的均匀性的光CVD膜的制造方法和制造装置。在光CVD膜的制造方法中,包括:工序(a),向形成光CVD膜的反应室导入光CVD膜的原料气体,使反应室达到规定压力;工序(b),在工序(a)之后,停止原料气体向反应室的导入以及原料气体从反应室的排气,向反应室照射光;以及工序(c),在工序(b)之后,停止照射,然后对反应室进行排气,将工序(a)~工序(c)反复多次。
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公开(公告)号:CN103568614A
公开(公告)日:2014-02-12
申请号:CN201310306105.5
申请日:2013-07-19
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明涉及一种激光转印方法和该方法使用的激光转印装置。本发明涉及一种有机EL面板,不使用蒸镀掩模形成有机EL面板的发光层的有机EL层。与在支承基板(20)上形成有有机EL膜(21)的金属施主基板(220)相对,配置具有有机EL元件形成部(110)的电路基板(101)。对金属施主基板(220)照射激光,使支承基板(20)内产生冲击波,在电路基板(101)侧形成有机EL层,实现高精细、大画面且制造成本低的有机EL面板。
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