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公开(公告)号：CN100591196C
公开(公告)日：2010-02-17
申请号：CN200810087992.0
申请日：2008-03-28
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 对液晶面板(1)的下基板(2)的伸出部(2a)粘贴ACF(9)的粘贴单元，由供给ACF胶带(13)的供给卷轴(11)、从该供给卷轴(11)供给的ACF胶带(13)的移动路径、切断单元(40)及压接头(47)构成。该粘贴单元安装在支承部件(10)上，该支承部件(10)安装在被丝杠(37)驱动的运送机构(36)上，液晶面板(1)载置在台(25)上，使运送机构(36)在液晶面板(1)的电极组(5)的排列方向运送，把安装着粘贴单元的支承部件(10)定位在ACF(9)的粘贴部的每个间隔，进行ACF(9)的粘贴。
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公开(公告)号：CN102061445B
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：CN201010539611.5
申请日：2010-11-09
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供一种在大型基板上高速地形成膜厚均匀且杂质少的薄膜并可长时间连续运转的真空蒸镀装置及成膜装置。将形成了有机EL层的基板(1)垂直地设置于蒸镀室(5)内，在基板(1)上配置用于选择地蒸镀有机EL层的纯金属掩膜(4)。成为有机EL层的材料的蒸发源(8)配置于蒸镀室外。喷嘴线状地配置的蒸发头部(3)与蒸发源(8)由柔软的配管(7)连接。通过使蒸发头部(3)在与喷嘴的配置方向垂直的方向移动，在基板(1)上蒸镀有机EL层。通过以柔软的配管(7)连接蒸发头部(3)与蒸发源(9)，可只使蒸发头部(3)移动，能够使装置的结构简单化，另外，能够防止由可动机构产生的杂质引起的有机EL层的污染。
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公开(公告)号：CN102732836A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201110442780.1
申请日：2011-12-27
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置及成膜装置，该真空蒸镀装置及成膜装置在大型基板上高速地形成膜厚均匀的有机EL上部电极用的铝金属薄膜，能够长时间连续运行。使用陶瓷制的坩埚，防止铝的向上蠕动，使用在横向上操作蒸发源列(3-2)进行蒸镀的机构，该蒸发源列(3-2)在纵向上排列了至少2个以上在相同方向上按规定角度倾斜了的蒸发源(3-1)，据此，能够相对于大型化的纵向设置的基板(1-1)高速地形成有机EL上部电极用金属薄膜，能够进行长时间的连续成膜。
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公开(公告)号：CN107406815A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201680018671.8
申请日：2016-03-28
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明的感受性测量装置包括：平台，该平台对样本容器进行载放；温度调整装置，该温度调整装置具备配置于所述样本容器的上下的上侧加温体和下侧加温体；以及拍摄装置，该拍摄装置具备照明设备和拍摄设备，用于对所述样本容器进行拍摄，所述上侧加温体和所述下侧加温体分别包括以下构造：作为周边部的第1区域的温度比包含中央部的第2区域的温度要高。
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公开(公告)号：CN103031520A
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：CN201210304156.X
申请日：2012-08-24
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: C23C14/24 , C23C14/12 , H01L21/203
Abstract: 本发明提供一种蒸发源及成膜装置。该成膜装置具有防止铝的爬升且难以产生破损的稳定的蒸发源。而且该成膜装置适合于使基板竖直并自横向进行蒸镀的纵向式蒸镀。所述蒸发源至少由坩埚和加热部构成，坩埚由相对于蒸镀材料的浸润性不同的材质制成的具有两种结构的坩埚，至少开口部由浸润性小的材料制成，被供给蒸镀材料的部分由浸润性大的材料制成。成膜装置具有如上所述的蒸发源。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102732838A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201210034395.8
申请日：2012-02-15
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: C23C14/24
Abstract: 本发明涉及能缩短蒸发源的冷却时间的蒸镀方法及蒸镀装置。在蒸镀准备工序中，在真空腔内配置蒸发源(10)及被处理物，蒸发源(10)具备：收容蒸镀材料(30)的坩埚(13)、加热坩埚(13)的加热部(14)以及向被处理物放出在坩埚(13)内气化后的蒸镀材料(30)的喷嘴。然后，通过加热部(14)加热被收容在坩埚(13)的蒸镀材料(30)，使产生气化后的蒸镀材料气体，并在被处理物上形成蒸镀膜。然后，从蒸发源(10)的外侧经由喷嘴(12)向坩埚(13)内供给气体(26)，并且使加热部(14)停止，冷却坩埚(13)。
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公开(公告)号：CN102732837A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201210023615.7
申请日：2012-02-03
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: C23C14/24
Abstract: 本发明以低成本提供一种具有防止Al的向上蠕动或Al蒸气浸入而难以引起破损的蒸发源的蒸镀装置。该蒸镀装置在真空腔室内具有蒸镀源单元(26)，其中，上述蒸镀源单元(26)具有：收容蒸发材料(5)的坩埚(1)、安装于上述坩埚(1)的开口部的喷嘴(2)、包围上述坩埚(1)并收容加热器(3)的加热室(10)、和固定件(7)，在上述坩埚(1)的内壁和上述加热室(10)之间具有切口(12)，该切口(12)阻止在上述坩埚(1)中熔融了的上述蒸发材料(5)或上述蒸发材料(5)的蒸气侵入到上述加热室(10)。
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公开(公告)号：CN102061445A
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN201010539611.5
申请日：2010-11-09
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供一种在大型基板上高速地形成膜厚均匀且杂质少的薄膜并可长时间连续运转的真空蒸镀装置及成膜装置。将形成了有机EL层的基板(1)垂直地设置于蒸镀室(5)内，在基板(1)上配置用于选择地蒸镀有机EL层的纯金属掩膜(4)。成为有机EL层的材料的蒸发源(8)配置于蒸镀室外。喷嘴线状地配置的蒸发头部(3)与蒸发源(8)由柔软的配管(7)连接。通过使蒸发头部(3)在与喷嘴的配置方向垂直的方向移动，在基板(1)上蒸镀有机EL层。通过以柔软的配管(7)连接蒸发头部(3)与蒸发源(9)，可只使蒸发头部(3)移动，能够使装置的结构简单化，另外，能够防止由可动机构产生的杂质引起的有机EL层的污染。
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公开(公告)号：CN103710667A
公开(公告)日：2014-04-09
申请号：CN201310339461.7
申请日：2013-08-06
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明是提供一种蒸发源、真空蒸镀装置以及有机EL显示装置制造方法，使用能够降低热辐射、能够节电化的蒸发源，能够与大型基板对应，高速形成以铝材料为主的金属薄膜，连续成膜。作为解决本发明课题的方法涉及在使用陶瓷制的坩锅的蒸发源中，通过使夹着凸缘部那样设置热反射构件，有效地阻断沿凸缘部流出的热。其结果是能够用少的电力有效地加热坩锅，另外能够防止凸缘部的温度上升，防止攀缘。
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公开(公告)号：CN103374700A
公开(公告)日：2013-10-30
申请号：CN201310124641.3
申请日：2013-04-11
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置。将多个线状蒸发源相对于成膜方向配置成多级，能够在去路和回路中不改变成膜顺序地进行共蒸镀。在基板上成膜蒸镀材料的真空蒸镀装置中，具有以相对于成膜方向为对称的方式配置有多个线状蒸发源的蒸发源组，上述蒸发源组相对于上述基板向第一方向移动并对上述基板成膜后，相对于上述基板向与上述第一方向相反的方向即第二方向移动并对上述基板成膜。
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