公开(公告)号：CN103568614A

公开(公告)日：2014-02-12

申请号：CN201310306105.5

申请日：2013-07-19

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 石原慎吾 ,  松崎永二 ,  松浦宏育 ,  矢崎秋夫

IPC: B41M5/382 ,  B41J2/435 ,  H01L51/56 ,  H01L51/40

Abstract: 本发明涉及一种激光转印方法和该方法使用的激光转印装置。本发明涉及一种有机EL面板，不使用蒸镀掩模形成有机EL面板的发光层的有机EL层。与在支承基板（20）上形成有有机EL膜（21）的金属施主基板（220）相对，配置具有有机EL元件形成部（110）的电路基板（101）。对金属施主基板（220）照射激光，使支承基板（20）内产生冲击波，在电路基板（101）侧形成有机EL层，实现高精细、大画面且制造成本低的有机EL面板。

公开(公告)号：CN102061445A

公开(公告)日：2011-05-18

申请号：CN201010539611.5

申请日：2010-11-09

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 三宅龙也 ,  玉腰武司 ,  石原慎吾 ,  松浦宏育 ,  峰川英明

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/54 ,  H01L51/56 ,  H01L21/77

Abstract: 本发明提供一种在大型基板上高速地形成膜厚均匀且杂质少的薄膜并可长时间连续运转的真空蒸镀装置及成膜装置。将形成了有机EL层的基板(1)垂直地设置于蒸镀室(5)内，在基板(1)上配置用于选择地蒸镀有机EL层的纯金属掩膜(4)。成为有机EL层的材料的蒸发源(8)配置于蒸镀室外。喷嘴线状地配置的蒸发头部(3)与蒸发源(8)由柔软的配管(7)连接。通过使蒸发头部(3)在与喷嘴的配置方向垂直的方向移动，在基板(1)上蒸镀有机EL层。通过以柔软的配管(7)连接蒸发头部(3)与蒸发源(9)，可只使蒸发头部(3)移动，能够使装置的结构简单化，另外，能够防止由可动机构产生的杂质引起的有机EL层的污染。

公开(公告)号：CN102061445B

公开(公告)日：2013-09-25

申请号：CN201010539611.5

申请日：2010-11-09

Applicant: 株式会社日立高新技术

Inventor： 三宅龙也 ,  玉腰武司 ,  石原慎吾 ,  松浦宏育 ,  峰川英明

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/54 ,  H01L51/56 ,  H01L21/77

Abstract: 本发明提供一种在大型基板上高速地形成膜厚均匀且杂质少的薄膜并可长时间连续运转的真空蒸镀装置及成膜装置。将形成了有机EL层的基板(1)垂直地设置于蒸镀室(5)内，在基板(1)上配置用于选择地蒸镀有机EL层的纯金属掩膜(4)。成为有机EL层的材料的蒸发源(8)配置于蒸镀室外。喷嘴线状地配置的蒸发头部(3)与蒸发源(8)由柔软的配管(7)连接。通过使蒸发头部(3)在与喷嘴的配置方向垂直的方向移动，在基板(1)上蒸镀有机EL层。通过以柔软的配管(7)连接蒸发头部(3)与蒸发源(9)，可只使蒸发头部(3)移动，能够使装置的结构简单化，另外，能够防止由可动机构产生的杂质引起的有机EL层的污染。