公开(公告)号：CN117747492A

公开(公告)日：2024-03-22

申请号：CN202311223043.1

申请日：2023-09-21

Applicant: 株式会社堀场STEC

Inventor： 高桥基延 ,  南雅和 ,  坂口有平

IPC: H01L21/67 ,  G01N21/85

Abstract: 本发明提供一种气体分析装置、流体控制系统、存储有气体分析用程序的存储介质、气体分析方法。气体分析装置具备：第一浓度计算部，计算工艺气的浓度；第二浓度计算部，计算至少在与生成工艺气的主反应不同的反应即副反应中生成的副产气体的浓度；比较部，将由第一浓度计算部计算出的工艺气的浓度即第一实际浓度与主反应理想地进行的情况下的工艺气的浓度即第一理想浓度进行比较，并且将由第二浓度计算部计算出的副产气体的浓度即第二实际浓度与主反应理想地进行的情况下的工艺气的浓度即第二理想浓度进行比较；以及输出部，基于比较部的比较结果，判断并输出对构成流体控制系统的设备设定的参数中的、应该变更设定值的参数即变更对象参数。

公开(公告)号：CN116569022A

公开(公告)日：2023-08-08

申请号：CN202180080365.8

申请日：2021-11-22

Applicant: 株式会社堀场STEC ,  株式会社堀场制作所

Inventor： 坂口有平 ,  南雅和 ,  渋谷享司 ,  高桥基延

IPC: G01N21/3504

Abstract: 本发明能够高精度地测定半导体制造工艺所用的材料气体或因半导体制造工艺所产生的副生成气体所含的卤化物的浓度或分压，气体分析装置对半导体制造工艺所用的材料气体或因半导体制造工艺而产生的副生成气体所含的卤化物的浓度或分压进行分析，并具备：气体池，其导入有材料气体或副生成气体；激光光源，其向气体池照射经波长调制的激光；光检测器，其检测透过气体池的激光；以及信号处理部，其使用由光检测器的输出信号所得的光吸收信号来计算出卤化物的浓度或分压，气体池减压至比大气压小的预定的压力，激光光源在包含卤化物的光吸收信号的特征部在内的波长调制范围对所述激光进行波长调制。

公开(公告)号：CN117222882A

公开(公告)日：2023-12-12

申请号：CN202280028751.7

申请日：2022-03-16

Applicant: 株式会社堀场STEC

Inventor： 高桥基延 ,  赤松武 ,  中根正博 ,  原健児 ,  渋谷享司

IPC: G01N21/3504

Abstract: 为了提供一种使激光光源和/或光检测器与气室分离而防止其暴露于高温，并且较以往更实用的气体分析装置，该气体分析装置具备：气室10；激光光源20或光检测器30，其与气室10分离配置；以及激光传输机构50，其设置于气室10与激光光源20或气室10与光检测器30之间，激光传输机构50具有一根或多根管部件51，在这些管部件51的内部空间形成有激光的光路L。

公开(公告)号：CN116465848A

公开(公告)日：2023-07-21

申请号：CN202310071740.3

申请日：2023-01-17

Applicant: 株式会社堀场STEC

Inventor： 高桥基延 ,  岸田创太郎 ,  桒原朗 ,  赤松武 ,  坂口有平 ,  南雅和

IPC: G01N21/3504 ,  G01N21/01 ,  G01L9/12

Abstract: 本发明提供一种气体分析装置，其具备：气室，其被导入气体；温度调节块，其对气室进行温度调节；以及压力传感器，其测定气室内部的压力，压力传感器内置于温度调节块和/或气室。

公开(公告)号：CN117434026A

公开(公告)日：2024-01-23

申请号：CN202310890023.3

申请日：2023-07-19

Applicant: 株式会社堀场STEC

Inventor： 波田美耶子 ,  高桥基延 ,  南雅和 ,  坂口有平 ,  志水彻 ,  藤井哲雄

IPC: G01N21/39 ,  G01N21/3504 ,  G01N21/01

Abstract: 本发明提供一种高精度地监测针对被处理物的处理量的分析装置、分析方法及计算机可读的存储介质，所述分析装置具有测定部及运算部，所述测定部具有：激光光源，其对包含反应生成物的测定对象气体照射激光；光检测器，其检测透过测定对象气体的激光；以及信号处理部，其基于光检测器的检测信号来计算反应生成物的浓度或分压，运算部具有：时间积分部，其计算对测定部的输出值进行时间积分而得的时间积分值；关联数据存储部，其存储关联数据，所述关联数据示出对测定部的输出值进行时间积分而得的时间积分值与针对被处理物的处理量之间的关系；以及处理量计算部，其根据由时间积分部获得的时间积分值和关联数据来计算对被处理物的处理量。

公开(公告)号：CN117280197A

公开(公告)日：2023-12-22

申请号：CN202280031414.3

申请日：2022-02-14

Applicant: 株式会社堀场STEC

Inventor： 高桥基延

IPC: G01N21/3504

Abstract: 本发明的气体分析装置100为了在使化合物气化而成的化合物气体的实际浓度与所需的理想浓度之间存在差的情况下，容易确定出其主要原因，而对在将化合物与水混合而成的水溶液气化的主反应中产生的化合物气体及H2O气体进行分析，其包括：第一浓度算出部41，算出化合物气体的浓度；第二浓度算出部42，算出H2O气体的浓度；分析部44，将通过第一浓度算出部41算出的所述化合物气体的浓度即第一实际浓度与主反应理想地进行的情况下的化合物气体的浓度即第一理想浓度进行比较，并且将通过第二浓度算出部42算出的H2O气体的浓度即第二实际浓度与主反应理想地进行的情况下的H2O气体的浓度即第二理想浓度进行比较；以及输出部45，输出基于通过分析部44进行的比较的分析结果。