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公开(公告)号：CN111440613A
公开(公告)日：2020-07-24
申请号：CN201911250769.8
申请日：2019-12-09
Applicant: 杭州格林达电子材料股份有限公司
IPC: C09K13/00
Abstract: 本发明涉及一种TMAH系各向异性硅蚀刻液及其制备方法，所述蚀刻液包括18～25％重量份电子级四甲基氢氧化铵，3～10％重量份电子级四乙基氢氧化铵，1.3～2.8％重量份添加剂，0.01～0.2％重量份表面活性剂和剩余组分高纯水，上述各组分重量份总和为100％，其中所述添加剂包括1～2％重量份挥发剂和0.3～0.8％重量份催化剂，所述催化剂包括0.1～0.3％重量份调整蚀刻速度的催化剂、0.2～0.5％重量份改善硅表面平整度的催化剂。其制备方法包括在混配釜中加入电子级四甲基氢氧化铵、在不断搅拌条件下加入电子级四乙基氢氧化铵、添加剂、表面活性剂和余量水，并循环过滤3h以上。本发明制备的一种TMAH系各向异性硅蚀刻液具有较好的蚀刻精细度、蚀刻速率及蚀刻后硅片表面平整度。
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公开(公告)号：CN113621373A
公开(公告)日：2021-11-09
申请号：CN202010371438.6
申请日：2020-05-06
Applicant: 杭州格林达电子材料股份有限公司
Abstract: 本发明是一种IGZO薄膜蚀刻液，由如下重量百分比计的原料制成：2～5wt%的草酸、0.1～1wt%的蚀刻速率稳定剂、1～3wt%的水分挥发抑制剂、0.01‑1wt%的表面活性剂、余量为水，本发明中蚀刻液成分简单，工艺简单，性质稳定，容易储存，蚀刻速率适中，蚀刻均一性好，精度高。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113621373B
公开(公告)日：2023-01-17
申请号：CN202010371438.6
申请日：2020-05-06
Applicant: 杭州格林达电子材料股份有限公司
Abstract: 本发明是一种IGZO薄膜蚀刻液，由如下重量百分比计的原料制成：2～5wt%的草酸、0.1～1wt%的蚀刻速率稳定剂、1～3wt%的水分挥发抑制剂、0.01‑1wt%的表面活性剂、余量为水，本发明中蚀刻液成分简单，工艺简单，性质稳定，容易储存，蚀刻速率适中，蚀刻均一性好，精度高。
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公开(公告)号：CN111440613B
公开(公告)日：2022-03-25
申请号：CN201911250769.8
申请日：2019-12-09
Applicant: 杭州格林达电子材料股份有限公司
IPC: C09K13/00
Abstract: 本发明涉及一种TMAH系各向异性硅蚀刻液及其制备方法，所述蚀刻液包括18～25％重量份电子级四甲基氢氧化铵，3～10％重量份电子级四乙基氢氧化铵，1.3～2.8％重量份添加剂，0.01～0.2％重量份表面活性剂和剩余组分高纯水，上述各组分重量份总和为100％，其中所述添加剂包括1～2％重量份挥发剂和0.3～0.8％重量份催化剂，所述催化剂包括0.1～0.3％重量份调整蚀刻速度的催化剂、0.2～0.5％重量份改善硅表面平整度的催化剂。其制备方法包括在混配釜中加入电子级四甲基氢氧化铵、在不断搅拌条件下加入电子级四乙基氢氧化铵、添加剂、表面活性剂和余量水，并循环过滤3h以上。本发明制备的一种TMAH系各向异性硅蚀刻液具有较好的蚀刻精细度、蚀刻速率及蚀刻后硅片表面平整度。
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公开(公告)号：CN208493283U
公开(公告)日：2019-02-15
申请号：CN201820818933.5
申请日：2018-05-30
Applicant: 杭州格林达电子材料股份有限公司
Abstract: 本实用新型涉及一种超重力精馏回收剥离液中有机组分的系统，所述系统包括原料罐，吸附槽、第一压力泵、第一级超重力精馏机、第一冷凝器、第一冷凝罐、第二压力泵、第二级超重力精馏机、沉降槽、过滤器、第三压力泵、第二冷凝器、第二冷凝罐、第四压力泵，第三级超重力精馏机、第五压力泵，第三冷凝器、成品罐和第六压力泵。本实用新型的系统通过三级超重力精馏机联动解决了光刻胶影响传质效率和易残留黏附于超重力精馏机中的问题，同时能够有效去除水分等低沸点物质，实现有多组分有机成分的分离，且设备体积小、工艺简单、能耗和成本低，循环工作效率高，有机组分回收率高。
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公开(公告)号：CN216726689U
公开(公告)日：2022-06-14
申请号：CN202220176752.3
申请日：2022-01-24
Applicant: 杭州格林达电子材料股份有限公司
Abstract: 本实用新型公开了一种高效连续的电子级氨水制备系统，包括液氨罐，所述液氨罐通过管道连接缓冲罐，所述缓冲罐的另一端通过管道连接水洗单元，所述水洗单元的另一端通过管道连接吸收罐，所述水洗单元靠近所述缓冲罐的一端还连接有废液处理单元，所述废液处理单元的另一端连接污水处理系统，所述吸收罐的另一端通过管道并联连接所述水洗单元和成品单元，所述管道均设置有阀门。本实用新型实现电子级氨水制备系统的简单化、高效化、连续化。
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公开(公告)号：CN212269760U
公开(公告)日：2021-01-01
申请号：CN202020720676.9
申请日：2020-05-06
Applicant: 杭州格林达电子材料股份有限公司
IPC: C02F9/10
Abstract: 本实用新型是一种从剥离液废液中回收有机溶剂和光刻胶的装置，包括原料罐，所述的原料罐通过管道依次连接有第一过滤器、吸附装置、多级精馏装置、多级过滤装置和污水处理系统，所述的多级过滤装置与第一过滤器连接，解决目前剥离液废液回收过程中设备投入高，难以应对复杂组成剥离液废液的问题，不仅减少面板厂废液废水处理的压力和费用，而且能够有效降低剥离液成本，从而达到了一个循环经济的目的。
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