一种兼容性高精细抗蚀剂剥离液组合物

    公开(公告)号:CN119781262A

    公开(公告)日:2025-04-08

    申请号:CN202510243258.2

    申请日:2025-03-03

    Abstract: 本发明公开了一种兼容性高精细抗蚀剂剥离液组合物,包括有机胺,质子性有机溶剂,非质子性有机溶剂,添加剂和表面活性剂;所述添加剂包括Al缓蚀剂、金属电位调节剂和表面亲水性改善剂;本发明抗蚀剂剥离液组合物成分环保,所用有机胺对于光刻胶攻击作用强,剥离性能好,质子性有机溶剂和非质子性有机溶剂的组合使用有利于增强剥离液对于光刻胶的溶解和清洗性能,降低剥离和水洗过程中光刻胶的析出,提高药液使用寿命。三类添加剂之间存在较好的协同作用,剥离和水洗过程中光刻胶不易黏附在ITO等制程层表面,剥离液对Cu膜层或Al膜层均无腐蚀,保证剥离液对于Cu制程、Al制程和ITO制程等多制程的兼容性,有效降低产线工艺的复杂性,降低生产成本。

    一种低表面张力和低起泡性的十二碳炔基非离子Gemini表面活性剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN118580140B

    公开(公告)日:2025-02-18

    申请号:CN202410622105.4

    申请日:2024-05-20

    Abstract: 本发明一种低表面张力和低起泡性的十二碳炔基非离子Gemini表面活性剂及其制备方法,将聚乙二醇单甲醚、磺酰氯类物质加入反应容器一中,加入溶剂氯代烷烃使其充分溶解;加入弱碱,在室温下反应,收集得到淡黄色液体粗产物;将淡黄色液体粗产物进行萃取、旋蒸、干燥处理得到淡黄色中间产物磺酸酯;将氢化钠和2,5,8,11‑四甲基‑6‑十二碳炔‑5,8‑二醇加入到反应容器二中,向反应容器二中加入超干四氢呋喃,搅拌反应后,将淡黄色中间产物磺酸酯加入反应容器二中,并升温至65~85℃进行反应;反应结束后将温度降至15~25℃,收集得到橙红色液体粗产物;将橙红色液体粗产物用二氯甲烷或乙酸乙酯进行萃取、旋蒸、干燥处理,之后经柱层析获得低表面张力和低起泡性的十二碳炔基非离子Gemini表面活性剂;作为半导体及新型显示领域湿电子化学品的添加剂,加入后能够有效降低湿电子化学品的表面张力、湿电子化学品与基体间接触角和起泡量,提高产品良率。

    一种TMAH系各向异性硅蚀刻液及其制备方法

    公开(公告)号:CN111440613A

    公开(公告)日:2020-07-24

    申请号:CN201911250769.8

    申请日:2019-12-09

    Abstract: 本发明涉及一种TMAH系各向异性硅蚀刻液及其制备方法,所述蚀刻液包括18~25%重量份电子级四甲基氢氧化铵,3~10%重量份电子级四乙基氢氧化铵,1.3~2.8%重量份添加剂,0.01~0.2%重量份表面活性剂和剩余组分高纯水,上述各组分重量份总和为100%,其中所述添加剂包括1~2%重量份挥发剂和0.3~0.8%重量份催化剂,所述催化剂包括0.1~0.3%重量份调整蚀刻速度的催化剂、0.2~0.5%重量份改善硅表面平整度的催化剂。其制备方法包括在混配釜中加入电子级四甲基氢氧化铵、在不断搅拌条件下加入电子级四乙基氢氧化铵、添加剂、表面活性剂和余量水,并循环过滤3h以上。本发明制备的一种TMAH系各向异性硅蚀刻液具有较好的蚀刻精细度、蚀刻速率及蚀刻后硅片表面平整度。

    一种用于ITO-Ag-ITO导电薄膜的低黏度蚀刻液及其制备方法

    公开(公告)号:CN106479504B

    公开(公告)日:2018-07-17

    申请号:CN201610860875.8

    申请日:2016-09-29

    Abstract: 本发明涉及一种用于ITO‑Ag‑ITO导电薄膜的低黏度蚀刻液及其制备方法,其重量百分比组成如下:硝酸5~15%,硫酸5~15%,醋酸5~25%,添加剂0.01~1%,余量为水,所述添加剂为碱金属盐。该蚀刻液的制备方法为:按比例依次将电子级硫酸、电子级硝酸和电子级醋酸加入到混配釜中,然后加入添加剂和余量高纯水,搅拌循环后过滤。该蚀刻液蚀刻能力强,蚀刻精度高无残留。该蚀刻液以硫酸为原料,不含磷酸,蚀刻液黏度低,蚀刻过程中药液带出量少,蚀刻液寿命长,有利于降低蚀刻液的成本。

    四甲基氢氧化铵显影废液再生系统和再生方法

    公开(公告)号:CN105314770B

    公开(公告)日:2018-04-20

    申请号:CN201510858688.1

    申请日:2015-12-01

    Inventor: 邢攸美

    Abstract: 本发明涉及一种四甲基氢氧化铵显影废液再生系统和再生方法。所述系统包括若干送料泵、中和分离装置、吸附装置、阳离子交换装置、阴离子交换装置和净化处理装置,所述中和分离装置、吸附装置、阳离子交换装置、阴离子交换装置和净化处理装置各至少设有一组,所述中和分离装置、吸附装置、阳离子交换装置、阴离子交换装置和净化处理依次通过带控制阀的料管连接,通过该系统能够长期稳定的循环再生高纯度的四甲基氢氧化铵显影液,达到节能环保的目的,同时降低半导体工厂废水排放的压力,为工厂节约废水处理的成本,从而达到资源有效循环利用的目的。

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