公开(公告)号：CN106479504A

公开(公告)日：2017-03-08

申请号：CN201610860875.8

申请日：2016-09-29

Applicant: 杭州格林达化学有限公司

Inventor： 胡涛 ,  倪芸岚 ,  高立江 ,  邢攸美 ,  龚升 ,  尹云舰 ,  方伟华

IPC: C09K13/06

CPC classification number: C09K13/06

Abstract: 本发明涉及一种用于ITO-Ag-ITO导电薄膜的低黏度蚀刻液及其制备方法，其重量百分比组成如下：硝酸5～15％，硫酸5～15％，醋酸5～25％，添加剂0.01～1％，余量为水，所述添加剂为碱金属盐。该蚀刻液的制备方法为:按比例依次将电子级硫酸、电子级硝酸和电子级醋酸加入到混配釜中，然后加入添加剂和余量高纯水，搅拌循环后过滤。该蚀刻液蚀刻能力强，蚀刻精度高无残留。该蚀刻液以硫酸为原料，不含磷酸，蚀刻液黏度低，蚀刻过程中药液带出量少，蚀刻液寿命长，有利于降低蚀刻液的成本。

公开(公告)号：CN107357142A

公开(公告)日：2017-11-17

申请号：CN201710532273.4

申请日：2017-07-03

Applicant: 杭州格林达化学有限公司

Inventor： 高立江 ,  胡涛 ,  王太刚 ,  陈海刚 ,  倪芸岚

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明涉及一种水系光致抗蚀剂剥离液及其制备方法，其组分按重量百分比计，包括:1～20％的烷氧基烷胺，5～50％的质子性溶剂，30～80％的非质子性溶剂，10～30％的水，0.01～1％的添加剂，0.005～0.1％的长碳链脂肪醇。该蚀刻液的制备方法为：按比例依次将烷氧基烷胺，质子性溶剂，非质子性溶剂加入到混配釜中，然后加入添加剂，长碳链脂肪醇和水，搅拌循环后过滤。该剥离液剥离能力强，能有效的去除光致抗蚀剂残留物，可以用于不同金属膜层的工艺，不腐蚀下层金属配线，剥离液使用寿命长，并且对人体和环境无害。

公开(公告)号：CN203433267U

公开(公告)日：2014-02-12

申请号：CN201320477099.5

申请日：2013-08-06

Applicant: 杭州格林达化学有限公司

Inventor： 梁小朝 ,  黄源 ,  尹云舰 ,  李乔华 ,  倪芸岚

IPC: G03F7/30

Abstract: 一种显影液中光刻胶树脂回收再利用装置，包括废液槽、第一过滤装置、溶解槽、第二过滤装置、阳离子交换树脂、阴离子交换树脂和浓缩装置，废液槽包括沉淀剂进口和显影液废液进口，废液槽的出口通过连接管与第一过滤装置的进口连接，第一过滤装置的上部出口与溶解槽的第一进口连通，第一过滤装置的下部出口为TMAH废液出口，溶解槽的第二进口为溶剂进口，溶解槽的出口与第二过滤装置的进口连通，第二过滤装置的上部出口为残渣出口，第二过滤装置的下部出口依次与阳离子交换树脂、阴离子交换树脂连接，阴离子交换树脂的出口与与浓缩装置的入口连通，浓缩装置包括光刻胶树脂出口和溶剂出口。本实用新型降低成本、环保性良好。