切割芯片接合薄膜
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111826097B

    公开(公告)日:2023-10-20

    申请号:CN202010299869.6

    申请日:2020-04-16

    摘要: 提供在用于将粘接剂层割断的扩展时粘合剂层不易破裂的切割芯片接合薄膜。一种切割芯片接合薄膜,其具备:具有包含基材和粘合剂层的层叠结构的切割带、及以可剥离的方式密合于前述切割带中的前述粘合剂层的粘接剂层,前述基材的前述粘合剂层侧表面实施了表面处理,前述基材与前述粘合剂层之间的、‑15℃下的剥离力与25℃下的剥离力的关系满足下述式(1)。(‑15℃下的剥离力)/(25℃下的剥离力)≥1 (1)。

    切割芯片接合薄膜
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109111867B

    公开(公告)日:2022-12-20

    申请号:CN201810654758.5

    申请日:2018-06-22

    摘要: 提供一种具有保存稳定性优异、能在短时间内固化、并且固化后能进行适宜的引线接合的粘接剂层的切割芯片接合薄膜。一种切割芯片接合薄膜,其具备:具有包含基材和粘合剂层的层叠结构的切割带;和与前述切割带中的前述粘合剂层可剥离地密合的粘接剂层,前述粘接剂层含有热固化性成分、填料及固化促进剂,其在130℃加热30分钟之后利用DSC测定得到的发热量为加热前的发热量的60%以下,前述加热后的在130℃下的储能模量为20MPa以上且4000MPa以下。

    切割带及切割芯片接合薄膜
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112143405A

    公开(公告)日:2020-12-29

    申请号:CN202010558623.6

    申请日:2020-06-18

    摘要: 本发明涉及切割带及切割芯片接合薄膜。本发明提供抑制浮起、并且拾取性优异的切割带等。本发明为切割带等,所述切割带具备:基材层、和层叠于该基材层的粘合剂层,前述粘合剂层含有具有聚合性不饱和键的紫外线固化型的聚合性聚合物,前述粘合剂层的紫外线固化的差示扫描量热测定中的每单位质量的发热量为19mJ/mg以上。

    带粘接薄膜的切割带
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111748290B

    公开(公告)日:2023-12-01

    申请号:CN202010218433.X

    申请日:2020-03-25

    摘要: 提供带粘接薄膜的切割带,对在为了得到带粘接薄膜的半导体芯片而使用带粘接薄膜的切割带进行的扩展工序中使切割带(DT)上的粘接薄膜良好地割断是适合的,且对抑制割断后的带粘接薄膜的半导体芯片自DT的浮起且实现拾取工序中的良好拾取是适合的。带粘接薄膜的切割带(X)具备切割带(10)和粘接薄膜(20)。粘接薄膜(20)可剥离地密合于切割带(10)具有的粘合2剂层(12)。相对于在22℃下受到300mJ/cm的紫外线照射的试验片的粘合剂层(12)与粘接薄膜cm2的紫外线照射的试验片的粘合剂层(12)与粘接薄膜(20)之间的剥离粘合力的比率为0.8~2。(20)之间的剥离粘合力的、在60℃下受到300mJ/

    粘合带、切割芯片接合薄膜、及半导体装置的制造方法

    公开(公告)号:CN115368841A

    公开(公告)日:2022-11-22

    申请号:CN202210534957.9

    申请日:2022-05-17

    摘要: 本发明涉及粘合带、切割芯片接合薄膜、及半导体装置的制造方法。提供下述粘合带等,其用于切割芯片接合薄膜的前述粘合剂层,所述切割芯片接合薄膜具备:粘合剂层、和重叠于该粘合剂层的芯片接合片,前述粘合带包含丙烯酸类共聚物,所述丙烯酸类共聚物在分子中至少具有烷基部分的碳数为12以上的(甲基)丙烯酸脂肪族烷基酯单元和含交联性基团的(甲基)丙烯酸酯单元作为单体单元,前述丙烯酸类共聚物包含前述(甲基)丙烯酸脂肪族烷基酯单元10摩尔%以上且85摩尔%以下、并且包含前述含交联性基团的(甲基)丙烯酸酯单元15摩尔%以上且35摩尔%以下。