切割芯片接合薄膜及半导体装置的制造方法

    公开(公告)号:CN115368842A

    公开(公告)日:2022-11-22

    申请号:CN202210534982.7

    申请日:2022-05-17

    Abstract: 提供切割芯片接合薄膜及半导体装置的制造方法。该切割芯片接合薄膜具备:切割带,其具有基材层及重叠于该基材层的粘合剂层;及重叠于该切割带的芯片接合片,该粘合剂层包含丙烯酸类共聚物,该丙烯酸类共聚物在分子中作为单体单元至少具有(甲基)丙烯酸烷基酯单元和含交联性基团的(甲基)丙烯酸酯单元,该丙烯酸类共聚物中,含交联性基团的(甲基)丙烯酸酯单元中的一部分具有自由基聚合性碳‑碳双键,丙烯酸类共聚物中,相对于该(甲基)丙烯酸烷基酯单元100摩尔份包含该含交联性基团的(甲基)丙烯酸酯单元30摩尔份以上且60摩尔份以下,含交联性基团的(甲基)丙烯酸酯单元中的50摩尔%以上且95摩尔%以下含有前述自由基聚合性碳‑碳双键。

    切割芯片接合薄膜
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113539926A

    公开(公告)日:2021-10-22

    申请号:CN202110382887.5

    申请日:2021-04-09

    Abstract: 本发明的切割芯片接合薄膜具备:在基材层上层叠有粘合剂层的切割带、和在前述切割带的粘合剂层上层叠的芯片接合层,前述粘合剂层包含光聚合引发剂,在对固化前的前述粘合剂层进行GPC测定而得到的分子量分布曲线中,在最高分子量侧出现的峰的重均分子量Mw相对于在最高分子量侧出现的峰的数均分子量Mn的比、即多分散度Mw/Mn为1.3以上。

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