光半导体装置的制造方法

    公开(公告)号:CN104995755A

    公开(公告)日:2015-10-21

    申请号:CN201380072837.0

    申请日:2013-12-10

    Abstract: 本发明的光半导体装置的制造方法是制造利用荧光体片被覆光半导体元件的光半导体装置的方法。其具备以下工序:试制工序,试制试制品来进行评价;决定工序,根据试制品的评价来决定用于制造光半导体装置的制造条件;以及,制造光半导体装置的制造工序,根据在决定工序中决定的制造条件,利用B阶的荧光体片被覆光半导体元件,将该荧光体片C阶化。试制工序具备如下工序:清漆制备工序,制备含有荧光体及固化性树脂的清漆;B阶化工序,由清漆形成B阶的荧光体片;C阶化工序,将B阶的荧光体片C阶化;以及评价工序,对C阶的荧光体片进行评价。

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