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公开(公告)号：CN108630515A
公开(公告)日：2018-10-09
申请号：CN201810425525.8
申请日：2015-06-25
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： H01J37/32 , C23C16/455
摘要： 本发明公开了一种用于与处理腔室一起使用的等离子体源组件，所述等离子体源组件包括区隔板，所述区隔板具有在所述区隔板的内部电气中心内的第一组孔，以及围绕所述外周缘的较小孔。所述孔的直径可从所述电气中心向外至所述周缘逐渐减小，或者可以离散地递减并且在所述外周缘处具有最小的直径。
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公开(公告)号：CN108028164A
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：CN201680052156.1
申请日：2016-09-09
申请人： 应用材料公司
CPC分类号： H01J37/32623 , C23C16/45536 , C23C16/45544 , C23C16/45551 , C23C16/4584 , H01J37/32082 , H01J37/3244 , H01J37/32651 , H01J37/32752
摘要： 一种等离子体源组件，包括壳体；与壳体电连通的阻隔板，与壳体电连通的阻隔板，该阻隔板具有限定场域的内周边缘、外周边缘、第一侧和第二侧，细长槽在所述场域内并且延伸穿过所述阻隔板，细长槽具有长度与宽度；以及在壳体内的RF热电极，RF热电极具有正面和背面，内周端和外周端，RF热电极的正面与阻隔板隔开以限定间隙。
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公开(公告)号：CN107112268A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201680005492.0
申请日：2016-01-20
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： H01L21/67 , C23C16/52 , C23C16/455
摘要： 公开了用于使用止动器、致动器和发射器/检测器来测量两个部件之间的接近度的设备与方法，所述发射器/检测器使光通过所述致动器中的通路。所述通路提供对光的衰减，所述衰减随部件之间的间隙改变而改变，从而允许对间隙的测量与控制。还描述了使用设备来确定部件的拓扑的方法。
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公开(公告)号：CN105225985A
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201510355699.8
申请日：2015-06-24
申请人： 应用材料公司
摘要： 本发明涉及通过原位反馈的晶片放置和间隙控制最佳化。本发明描述了在工艺夹具和基座之间的尺寸控制和监控，和晶片位置测定的装置和方法。所述装置包含：处理夹具；至少一个接近传感器；和基座。所述处理夹具包含处理夹具主体，所述处理夹具主体具有处理夹具底表面、在所述处理夹具主体中的一或多个开口。所述至少一个接近传感器保持在所述处理夹具主体中的所述开口的至少一个之内。所述基座包含基座板，所述基座板具有基座板顶表面、基座中心点，和形成在所述基座板顶表面中与所述基座中心点相距距离RR的一或多个凹槽。
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公开(公告)号：CN108028164B
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN201680052156.1
申请日：2016-09-09
申请人： 应用材料公司
摘要： 一种等离子体源组件，包括壳体；与壳体电连通的阻隔板，与壳体电连通的阻隔板，该阻隔板具有限定场域的内周边缘、外周边缘、第一侧和第二侧，细长槽在所述场域内并且延伸穿过所述阻隔板，细长槽具有长度与宽度；以及在壳体内的RF热电极，RF热电极具有正面和背面，内周端和外周端，RF热电极的正面与阻隔板隔开以限定间隙。
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公开(公告)号：CN110265328A
公开(公告)日：2019-09-20
申请号：CN201910521735.1
申请日：2015-06-24
申请人： 应用材料公司
摘要： 本发明涉及通过原位反馈的晶片放置和间隙控制最佳化。本发明描述了在工艺夹具和基座之间的尺寸控制和监控，和晶片位置测定的装置和方法。所述装置包含：处理夹具；至少一个接近传感器；和基座。所述处理夹具包含处理夹具主体，所述处理夹具主体具有处理夹具底表面、在所述处理夹具主体中的一或多个开口。所述至少一个接近传感器保持在所述处理夹具主体中的所述开口的至少一个之内。所述基座包含基座板，所述基座板具有基座板顶表面、基座中心点，和形成在所述基座板顶表面中与所述基座中心点相距距离RR的一或多个凹槽。
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公开(公告)号：CN105206498B
公开(公告)日：2018-05-25
申请号：CN201510358856.0
申请日：2015-06-25
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： H01J49/10
CPC分类号： H01J37/32091 , C23C16/45536 , C23C16/45551 , H01J37/32532 , H01J37/32559 , H01J37/32605
摘要： 本发明公开了一种用于与处理腔室一起使用的等离子体源组件，所述等离子体源组件包括区隔板，所述区隔板具有在所述区隔板的内部电气中心内的第一组孔，以及围绕所述外周缘的较小孔。所述孔的直径可从所述电气中心向外至所述周缘逐渐减小，或者可以离散地递减并且在所述外周缘处具有最小的直径。
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公开(公告)号：CN110265328B
公开(公告)日：2023-09-01
申请号：CN201910521735.1
申请日：2015-06-24
申请人： 应用材料公司
摘要： 本发明涉及通过原位反馈的晶片放置和间隙控制最佳化。本发明描述了在工艺夹具和基座之间的尺寸控制和监控，和晶片位置测定的装置和方法。所述装置包含：处理夹具；至少一个接近传感器；和基座。所述处理夹具包含处理夹具主体，所述处理夹具主体具有处理夹具底表面、在所述处理夹具主体中的一或多个开口。所述至少一个接近传感器保持在所述处理夹具主体中的所述开口的至少一个之内。所述基座包含基座板，所述基座板具有基座板顶表面、基座中心点，和形成在所述基座板顶表面中与所述基座中心点相距距离RR的一或多个凹槽。
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公开(公告)号：CN108630515B
公开(公告)日：2020-10-23
申请号：CN201810425525.8
申请日：2015-06-25
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： H01J37/32 , C23C16/455
摘要： 本发明公开了一种用于与处理腔室一起使用的等离子体源组件，所述等离子体源组件包括区隔板，所述区隔板具有在所述区隔板的内部电气中心内的第一组孔，以及围绕所述外周缘的较小孔。所述孔的直径可从所述电气中心向外至所述周缘逐渐减小，或者可以离散地递减并且在所述外周缘处具有最小的直径。
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公开(公告)号：CN107112268B
公开(公告)日：2020-07-31
申请号：CN201680005492.0
申请日：2016-01-20
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： H01L21/67 , C23C16/52 , C23C16/455
摘要： 公开了用于使用止动器、致动器和发射器/检测器来测量两个部件之间的接近度的设备与方法，所述发射器/检测器使光通过所述致动器中的通路。所述通路提供对光的衰减，所述衰减随部件之间的间隙改变而改变，从而允许对间隙的测量与控制。还描述了使用设备来确定部件的拓扑的方法。
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