公开(公告)号：CN108028164A

公开(公告)日：2018-05-11

申请号：CN201680052156.1

申请日：2016-09-09

Applicant: 应用材料公司

Inventor： J·约德伏斯基 ,  J·C·福斯特 ,  K·贝拉 ,  S·坎德沃尔 ,  M·斯里拉姆 ,  田中启一 ,  K·竹下 ,  N·坂本 ,  T·柳川

IPC: H01J37/32 ,  C23C16/44

CPC classification number: H01J37/32623 ,  C23C16/45536 ,  C23C16/45544 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/4584 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32651 ,  H01J37/32752

Abstract: 一种等离子体源组件，包括壳体；与壳体电连通的阻隔板，与壳体电连通的阻隔板，该阻隔板具有限定场域的内周边缘、外周边缘、第一侧和第二侧，细长槽在所述场域内并且延伸穿过所述阻隔板，细长槽具有长度与宽度；以及在壳体内的RF热电极，RF热电极具有正面和背面，内周端和外周端，RF热电极的正面与阻隔板隔开以限定间隙。

公开(公告)号：CN116261768A

公开(公告)日：2023-06-13

申请号：CN202280006278.2

申请日：2022-03-18

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 周海龙 ,  S·康 ,  K·竹下 ,  R·丁德萨 ,  T·李 ,  I·郭

IPC: H01J37/32

Abstract: 本公开的实施例包括处理基板的方法，该方法包括蚀刻在等离子体处理腔室的处理区域内安置的基板支撑组件的基板支撑表面上安置的基板上形成的第一介电材料。蚀刻工艺可包括：将处理气体递送到处理区域，其中处理气体包含第一含氟碳气体及第一处理气体；通过使用射频产生器将射频信号递送到第一电极以在处理区域中形成等离子体；及通过使用第一脉冲电压波形产生器在基板支撑组件内安置的偏压电极处建立第一脉冲电压波形。第一脉冲电压波形包含一系列重复脉冲波形循环，这些重复脉冲波形循环各自包括在第一时间间隔期间出现的第一部分、在第二时间间隔期间出现的第二部分、及峰间电压。在第二时间间隔的至少一部分期间脉冲电压波形是基本上恒定的。

公开(公告)号：CN108028164B

公开(公告)日：2020-12-29

申请号：CN201680052156.1

申请日：2016-09-09

Applicant: 应用材料公司

Inventor： J·约德伏斯基 ,  J·C·福斯特 ,  K·贝拉 ,  S·坎德沃尔 ,  M·斯里拉姆 ,  田中启一 ,  K·竹下 ,  N·坂本 ,  T·柳川

IPC: H01J37/32 ,  C23C16/44

Abstract: 一种等离子体源组件，包括壳体；与壳体电连通的阻隔板，与壳体电连通的阻隔板，该阻隔板具有限定场域的内周边缘、外周边缘、第一侧和第二侧，细长槽在所述场域内并且延伸穿过所述阻隔板，细长槽具有长度与宽度；以及在壳体内的RF热电极，RF热电极具有正面和背面，内周端和外周端，RF热电极的正面与阻隔板隔开以限定间隙。